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"CAD"で検索した結果 5件
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電子線描画用データ処理ソフトウェア (Data analysis software for electron beam lithography)
- 設備ID
- NU-268
- 設置機関
- 名古屋大学
- 設備画像
![電子線描画用データ処理ソフトウェア](data/facility_item/1712801903_11.jpg)
- メーカー名
- GenISys (GenISys)
- 型番
- BEAMER
- 仕様・特徴
- ・レイアウトエディタ
・パターンデータ変換
・近接効果補正(PEC)
・グレースケール露光補正
MEMS設計ツール(IntelliSuite) (MEMS design tools)
- 設備ID
- RO-132
- 設置機関
- 広島大学
- 設備画像
![MEMS設計ツール(IntelliSuite)](data/facility_item/1711528884_11.jpg)
- メーカー名
- インテリセンス (IntelliSense)
- 型番
- IntelliSuite
- 仕様・特徴
- 工程データ、フローデータ、材料データ、2Dマスクデータ、3Dモデルデータの利活用に有効。
解析用PC(CAD及び近接効果補正用) (PC (PEC and CAD))
- 設備ID
- AT-094
- 設置機関
- 産業技術総合研究所(AIST)
- 設備画像
![解析用PC(CAD及び近接効果補正用)](data/facility_item/AT-094.jpg)
- メーカー名
- ジェニシス (GenISys)
- 型番
- BEAMER
- 仕様・特徴
- ・型式:BEAMER
・近接効果補正
・パターン分割処理
・輪郭分離処理
・PSFシミュレーション
回路&レイアウト設計ツール (Ics Design & Layout Editor)
- 設備ID
- KT-120
- 設置機関
- 京都大学
- 設備画像
![回路&レイアウト設計ツール](data/facility_item/1688005360_11.jpg)
- メーカー名
- タナーEDA (Tanner EDA)
- 型番
- Tanner Tools Pro
- 仕様・特徴
- ・回路設計:回路図エディタ、SPICEシミュレータほか
・レイアウト設計:全角度マスクエディタ、SDL、対応形式(GDSII、CIF、OASIS、DXF、Gerberほか)
・物理検証:DRC、LVS
MEMS用統合解析ソフト (Integrated analysis software for MEMS)
- 設備ID
- TT-033
- 設置機関
- 豊田工業大学
- 設備画像
![MEMS用統合解析ソフト](skin/common/img/parts/no_image_facility.png)
- メーカー名
- インテリセンス (IntelliSense)
- 型番
- IntelliSuite
- 仕様・特徴
- 工程データ、フローデータ、材料データ、2Dマスクデータ、3Dモデルデータの利活用に有効。
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