共用設備検索結果
高速液中原子間力顕微鏡 (Liquid-Enviroment High Speed AFM)
- 設備ID
- KT-303
- 設置機関
- 京都大学
- 設備画像
- メーカー名
- (株)生体分子計測研究所 (Research Institute of Biomolecule Metrology Co., Ltd.)
- 型番
- NanoLiveVision NLV-KS
- 仕様・特徴
- 10fpsの動画観察可能な原子間力顕微鏡
・推奨凹凸高さ 30 nm以下
・試料形状例 Φ1.5mm雲母板表面に吸着
・測定環境 液中観察
走査型プローブ顕微鏡システム (Bioscience Atomic Force Microscope)
- 設備ID
- KT-304
- 設置機関
- 京都大学
- 設備画像
- メーカー名
- JPKインスツルメンツ社 (JPK Instruments AG)
- 型番
- NanoWizard III
- 仕様・特徴
- 大気中または液体中でのAFM計測
AFM測定と光学測定を同時実行可能
・NW3-XS-0ほか
共焦点レーザー走査型顕微鏡 (Confocal Laser Scanning Microscope)
- 設備ID
- KT-305
- 設置機関
- 京都大学
- 設備画像
- メーカー名
- オリンパス(株) (Olympus Corporation)
- 型番
- FV1000
- 仕様・特徴
- ・倒立顕微鏡型
・共焦点レーザースキャニング蛍光像(2D, 3D)、微分干渉、水銀ランプ励起蛍光像
・ソフトウェア上で蛍光分子を選ぶだけで自動的に励起レーザー、フィルター、検出器を選択する機能付き
・励起レーザー光源波長 405 nm, 473 nm, 559 nm, 635 nm
3D測定レーザー顕微鏡 (3D Measuring Laser Microscope )
- 設備ID
- KT-306
- 設置機関
- 京都大学
- 設備画像
- メーカー名
- オリンパス(株) (Olympus Corporation)
- 型番
- OLS4000-SAT
- 仕様・特徴
- オリンパス(株)社製 OLS4000-SAT
平面測定精度 繰り返し性：3σn-1=0.02μm(100X)
正確さ:測定値の±2%
高さ測定精度 繰り返し性：σn-1=0.012μm(50X)
正確さ:0.2+L/100μm以下（L=測定長μm）
全反射励起蛍光イメージングシステム (Total Internal Reflection Fluorescence Microscope)
- 設備ID
- KT-308
- 設置機関
- 京都大学
- 設備画像
- メーカー名
- オリンパス(株) (Olympus Corporation)
- 型番
- 仕様・特徴
- ・励起レーザー光源：488 nm LD, 561 nm LD
・全反射によるエバネッセント照明
・各波長での光沁み出し量を最適化
・2台の電子増幅デジタルCCDカメラを同期して蛍光像取得
・CCDカメラの量子効率: >90 % (@575 nm)
・データ取り込み 34 frames/sec.
・励起レーザー光源：488 nm LD, 561 nm LD
長時間撮影蛍光イメージングシステム (Time-Lapse Fluorescence Microscope)
- 設備ID
- KT-309
- 設置機関
- 京都大学
- 設備画像
- メーカー名
- オリンパス(株) (Olympus Corporation)
- 型番
- IX81-ZDC2
- 仕様・特徴
- タイムラプス撮影の各撮像操作を行う直前にピントを自動補正。
コンティニュアスフォーカスによるリアルタイムなフォーカス追従が可能。
5次元(XYZTλ)の画像取得が可能。
画像解析ソフト(MetaMorph)による画像解析が可能。
・5次元(XYZTλ)の画像取得が可能
X線回折装置 (Intelligent X-Ray Diffractometer)
- 設備ID
- KT-310
- 設置機関
- 京都大学
- 設備画像
- メーカー名
- (株)リガク (Rigaku Corporation)
- 型番
- SmartLab
- 仕様・特徴
- ・試料水平保持方式
薄膜試料に歪み等を与えることなく取り付けることができ、最大サイズ8インチΦの試料の測定、および4インチΦの場合はエリアマップ測定が可能
・多彩な薄膜評価
組成分析、方位・配向分析、結晶性評価、格子緩和評価、格子歪・残留応力評価、膜厚分析、界面ラフネス分析、密度分析、面内均一性評価など
・粉末解析に
定性分析、定量分析、結晶化度評価、結晶子サイズ/格子歪評価、格子定数の精密化、Rietveld解析など
・試料サイズ 最大φ8インチ
・組成分析、方位・配向分析、結晶性評価、格子緩和評価、格子歪・残留応力評価等の測定可能
分光エリプソメーター (Spectral Ellipsometer)
- 設備ID
- KT-311
- 設置機関
- 京都大学
- 設備画像
- メーカー名
- 大塚電子(株) (Otsuka Electronics Co., Ltd.)
- 型番
- FE-5000
- 仕様・特徴
- ・分光エリプソスペクトルの多波長同時測定
・基板（バルク）光学定数（n、k）が直接解析可能
・角度可変測定により、薄膜のより詳細な解析に対応
・測定膜厚範囲 1nm～1μm
・測定波長範囲 300nm～800nm
・サンプルサイズ 200mmx 200mm以上
光ピンセットシステム (Optical Tweezers & 3D Trapping System)
- 設備ID
- KT-312
- 設置機関
- 京都大学
- 設備画像
- メーカー名
- JPKインスツルメンツ社 (JPK Instruments AG)
- 型番
- NanoTracker
- 仕様・特徴
- ・2本のレーザービームによる三次元光トラップが可能
・Force spectroscopyと粒子追跡が可能
・粒子位置を三次元で検出
・光学顕微鏡イメージ上でクリックして粒子位置の操作が可能 ・Multiplexing 機能により、多数の粒子を捕捉することが可能
・2本のレーザービームによる三次元光トラップが可能
・最小Force検出 0.3 pN以下
・NT-O-001ほか
ゼータ電位・粒径測定システム (Zeta Potential & Particle Size Analyzer)
- 設備ID
- KT-313
- 設置機関
- 京都大学
- 設備画像
- メーカー名
- 大塚電子(株) (Otsuka Electronics Co., Ltd.)
- 型番
- ELSZ-2Plus
- 仕様・特徴
- 希薄から濃厚系試料のゼータ電位・粒子径測定が可能
・測定範囲 ゼータ電位：-200～200mV
・電気移動度：-20×10-4～20×10-4cm2/V・s
・粒子径：0.6nm～7μm