共用設備検索結果
球面収差補正透過電子顕微鏡 (Spherical-aberration-corected transmission electron microscope)
- 設備ID
- KT-402
- 設置機関
- 京都大学
- 設備画像
- メーカー名
- 日本電子 (JEOL)
- 型番
- JEM-2200FS
- 仕様・特徴
- 結像系の球面収差補正装置とインカラム型オメガフィルターを搭載した高分解能分析電子顕微鏡。
・加速電圧：200kV
・電子銃：ショットキー型
・TEM分解能：0.2nm
・エネルギー分解能：0.8eV
・分析機能：EELS
モノクロメータ搭載低加速原子分解能分析電子顕微鏡 (Monochromated atomic resolution analytical electron microscope)
- 設備ID
- KT-403
- 設置機関
- 京都大学
- 設備画像
- メーカー名
- 日本電子 (JEOL)
- 型番
- JEM-ARM200F
- 仕様・特徴
- 照射系と結像系に球面収差補正装置を搭載し、電子銃にはモノクロメータが組み込まれた高エネルギー分解能原子直視型分析電子顕微鏡。分析機能はEELSとEDSを装備。
・加速電圧：200kV、60kV
・電子銃：ショットキー型
・TEM分解能：0.1nm
・STEM分解能：0.08nm
・エネルギー分解能：0.03eV
・分析機能：EELS、EDS
ミクロトーム (Microtome apparatus)
- 設備ID
- KT-405
- 設置機関
- 京都大学
- 設備画像
- メーカー名
- ライカ (Leica)
- 型番
- ULTRA CUT UCT
- 仕様・特徴
- 比較的柔らかい有機物などをダイヤモンドナイフで切削して薄片化し、電子顕微鏡試料を作製する装置。
・ステージ温度：室温、液体窒素温度
ユニバーサル測定顕微鏡 (Optical Microscope)
- 設備ID
- KT-520
- 設置機関
- 京都大学
- 設備画像
- メーカー名
- (株)ミツトヨ (Mitutoyo Corporation)
- 型番
- MF-UB2010C
- 仕様・特徴
- 汎用的な測定顕微鏡。
・観察方法：明視野
・レンズ：接眼 x10／対物 x10、x20、x50、x100
・照明装置：反射（白色LED）、透過（白色LED）、LEDリング
ユニバーサル測定顕微鏡 (Optical Microscope)
- 設備ID
- KT-521
- 設置機関
- 京都大学
- 設備画像
- メーカー名
- (株)ミツトヨ (Mitutoyo Corporation)
- 型番
- MF-UB2010C
- 仕様・特徴
- 汎用的な測定顕微鏡。
・観察方法：明視野
・レンズ：接眼 x10／対物 x10、x20、x50、x100
・照明装置：反射（白色LED）、透過（白色LED）、LEDリング
ユニバーサル測定顕微鏡 (Optical Microscope)
- 設備ID
- KT-522
- 設置機関
- 京都大学
- 設備画像
- メーカー名
- (株)ミツトヨ (Mitutoyo Corporation)
- 型番
- MF-UB2010C
- 仕様・特徴
- 汎用的な測定顕微鏡。
・観察方法：明視野
・レンズ：接眼 x10／対物 x10、x20、x50、x100
・照明装置：反射（白色LED）、透過（白色LED）、LEDリング
デジタルマイクロスコープ (Digital Microscope)
- 設備ID
- KT-523
- 設置機関
- 京都大学
- 設備画像
- メーカー名
- (株)キーエンス (KEYENCE CORPORATION)
- 型番
- VHX1000
- 仕様・特徴
- 汎用的なデジタルマイクロスコープ
・倍率：x100～x1,000
デジタルマイクロスコープ (Digital Microscope)
- 設備ID
- KT-524
- 設置機関
- 京都大学
- 設備画像
- メーカー名
- (株)キーエンス (KEYENCE CORPORATION)
- 型番
- VHX1000
- 仕様・特徴
- 汎用的なデジタルマイクロスコープ
・倍率：x100～x1,000
デジタルマイクロスコープ (Digital Microscope)
- 設備ID
- KT-525
- 設置機関
- 京都大学
- 設備画像
- メーカー名
- (株)キーエンス (KEYENCE CORPORATION)
- 型番
- VHX7000
- 仕様・特徴
- 高解像度デジタルマイクロスコープ
・倍率：x500～x5,000
・高解像度HRレンズ、4K CMOS
両面マスク露光&ボンドアライメント装置 (Double-Sided/Infrared Mask Lithography & Bond Aligner )
- 設備ID
- KT-119
- 設置機関
- 京都大学
- 設備画像
- メーカー名
- ズース・マイクロテック(株) (SUSS MicroTec)
- 型番
- MA/BA8 Gen3 SPEC-KU
- 仕様・特徴
- 接合用アライメントとUVナノインプリント機能を兼備した複合装置。（マスクアライナー機能を兼備）
・基板サイズ：小片～Φ8"
・ウエハ厚さ：MAX 5mm
・マスクサイズ：MAX □9"
・アライメント精度：±0.25um＠表面、±1.0um＠裏面、±2.0um＠接合