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赤外線加熱単結晶製造装置（FZ炉） (Infrared image furnace for single crystal growth (Floating zone furnace))
- 設備ID
- CT-029
- 設置機関
- 公立千歳科学技術大学
- 設備画像
- メーカー名
- キヤノンマシナリー (Canon Machinery)
- 型番
- SC-M50XS
- 仕様・特徴
- ・光源：キセノンランプ
・最高加熱温度：2,700 ℃
・結晶成長速度：0.2~50 mm/h
試料作製装置群・スピンコーター・スピンコーター・グローブボックス (Sample preparation devices・Spin coater・Spin coater・Glovebox)
- 設備ID
- CT-030
- 設置機関
- 公立千歳科学技術大学
- 設備画像
- メーカー名
- ミカサ共和理研美輪製作所 (MikasaKYOWARIKENMiwa Manufacturing)
- 型番
- 1HD7 K-359S1 下置きガス循環精製装置付パージ式
- 仕様・特徴
- グローブボックス
・パージ式ガス置換型
・サイドボックスのみ真空引ガス置換構造
クリーンルーム付帯設備一式 (Equipments for clean room)
- 設備ID
- IT-037
- 設置機関
- 東京工業大学
- 設備画像
- メーカー名
- KLA テンコール キーエンス キーエンス 等のメーカー (KLA Tencor Keyence Keyence and other manufacturers)
- 型番
- P-7 VHX-D510 VHX-7000
- 仕様・特徴
- 純水製造装置・薬品処理ドラフトチャンバー・レジスト処理装置・光学顕微鏡（デジタル含）、低真空SEM、触針式段差計などを含むクリーンルーム用設備群
・触針式段差計： Φ150mm電動ステージ > 長距離測定（最大150mm） 垂直測定レンジ（最大）327μm 垂直測定分解能（最高）0.001nm 段差測定再現性 1σ＝0.4nm （1μm標準試料） 針圧範囲 0.5～50mg
・低真空SEM： レンズ：電子式超深度レンズ＋光学 倍率：30-5000倍（垂直）、30－2000倍（傾斜）、50-500倍(光学) 観察像: 2次電子 試料サイス?: Φ100 mm 5軸(XYZ+傾斜+回転) 試料室200 mm ×200 mm 試料高さ 30 mm
・デジタル顕微鏡： ハイレゾリューションヘッド : 1/1.7 型 1,222万 画素 CMOSイメージセンサ 総画素 4,168 (H) × 3,062 (V) 実効画素 4,024 (H) × 3,036 (V)
単結晶X線構造解析装置群 (Single Crystal X-ray Diffractometer)
- 設備ID
- NI-008
- 設置機関
- 名古屋工業大学
- 設備画像
- メーカー名
- リガク/MBRAUN (Rigaku/MBRAUN)
- 型番
- VariMax with DW RAPID/UNIlab
- 仕様・特徴
- ●単結晶X線回折装置（VariMax with DW RAPID）
イメージングプレート型 測角範囲（-60º～+144º）
線源 Cu /Moの選択が可能
室温～−180ºCでの測定が可能
小さい単結晶（～0.05Å角程度の微小結晶）も測定可能
●グローブボックス（UNIlab）
N2（またはAr）下における少量のサンプル調整（合成）が可能、冷蔵庫内蔵（4ºC）、電子天秤あり
中規模カーボンナノファイバー室温合成装置 (Room-Temperature Carbon Nanofiber Growth System (for Medium Sized Samples))
- 設備ID
- NI-104
- 設置機関
- 名古屋工業大学
- 設備画像
- メーカー名
- 自作 (Home-made)
- 型番
- 自作
- 仕様・特徴
- カーボンナノファイバー(CNF)室温合成速度：10 nm/min程度以上。
試料サイズ：1インチ角程度以下。
有機FET (Organic FET)
- 設備ID
- MS-301
- 設置機関
- 自然科学研究機構 分子科学研究所
- 設備画像
- メーカー名
- ()
- 型番
- 仕様・特徴
- 有機FETの設計・製作・各種評価
有機伝導体半導体合成
磁性薄膜作成評価 (Magnetic thin film creation evaluation)
- 設備ID
- MS-303
- 設置機関
- 自然科学研究機構 分子科学研究所
- 設備画像
- メーカー名
- ()
- 型番
- 仕様・特徴
- 超高真空下での磁性薄膜作成・磁気光学Kerr効果によるその場観察評価。
有機合成DX (Organic synthesis DX)
- 設備ID
- MS-304
- 設置機関
- 自然科学研究機構 分子科学研究所
- 設備画像
- メーカー名
- ()
- 型番
- 仕様・特徴
- 自動および手動によるバッチ型反応実験、ならびに、AIやDFT計算によるデータ解析を行い、有機合成分野のデジタル化を支援する。
高温高圧プレス装置 (High-pressure and high-temperature X-ray deffractometer)
- 設備ID
- QS-141
- 設置機関
- 量子科学技術研究開発機構（QST）
- 設備画像
- メーカー名
- 有限会社オーサワシステムほか (Osawa system LLC/Ltd., etc.)
- 型番
- なし（特別仕様）
- 仕様・特徴
- ・高圧高温下での材料の状態変化や反応の進行を、白色X線を用いたエネルギー分散型X線回折法によって観察できる装置。
・圧力10万気圧まで、温度2000℃程度までの発生が可能。
・材料の高温高圧合成をサポート。
・10万気圧、1000℃程度までの超高圧高温の水素雰囲気発生もでき、高温高圧下の金属水素化反応のその場観察による新規水素貯蔵材料の探索に活用されている。
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