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気相フッ酸エッチング装置 (Vapor Phase HF Etcher )
- 設備ID
- UT-602
- 設置機関
- 東京大学
- 設備画像
- メーカー名
- IDONUS (IDONUS)
- 型番
- 仕様・特徴
- 8インチ装置、Vapor HF専用、気相フッ化水素（HF水溶液を蒸発）によって、選択的にシリコン酸化膜をエッチングし、MEMSデバイスの可動構造体、中空構造を形成するための装置です。独自構造によって、フッ酸に直接触れることなく、安全に利用することができます。静電チャックによって、任意形状の基板をチャック下エッチングのほか、4，6，8インチの丸ウエーハは機械的クランプを行えます。
樹脂３Dプリンタ (3D Printer using hot-melt plastic ink)
- 設備ID
- UT-950
- 設置機関
- 東京大学
- 設備画像
- メーカー名
- Afinia (Afinia)
- 型番
- H800
- 仕様・特徴
- 熱抽出による三次元構造作製が可能。治具作製に最適。
インクジェットパターン形成装置 (Inkjet Printer)
- 設備ID
- BA-010
- 設置機関
- 筑波大学
- 設備画像
- メーカー名
- SIJテクノロジ (SIJTechnology)
- 型番
- STO50-TBD01
- 仕様・特徴
- 最小吐出量；0.1fl
最小ライン；0.6μm
分解能；0.1μm
位置精度；±0.2μm
ウォーターレーザ (Water laser)
- 設備ID
- TU-270
- 設置機関
- 東北大学
- 設備画像
- メーカー名
- 澁谷工業 (Shibuya)
- 型番
- LAMICS AQL-1900
- 仕様・特徴
- サンプルサイズ：小片～12インチ
最小加工線幅：約70μm
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