共用設備検索結果
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卓上アッシング装置 (Compact Ashing Machine)
- 設備ID
- UT-501
- 設置機関
- 東京大学
- 設備画像
- メーカー名
- サムコ (SAMCO)
- 型番
- FA-1
- 仕様・特徴
- SAMCO FA-1 コンパクトなドライエッチャー。東大微細加工拠点では酸素アッシング専用装置として使っています。
主用途はフォトマスクのウェットエッチング直前の処理（デスカム）で、プラズマの作用によりエッチング面が濡れ性となり、フォトマスクの仕上がり寸法とエッジのシャープさが向上します。
光リソグラフィ装置PEM800 (Photomask aligner PEM-800)
- 設備ID
- UT-502
- 設置機関
- 東京大学
- 設備画像
- メーカー名
- ユニオン (UNION)
- 型番
- PEM800
- 仕様・特徴
- 光によるリソグラフィを行う装置。
いわゆる両面4”マスクアライナーと呼ばれる装置。
マスクは5009、4009、2509サイズを取り付け可能。
超高速大面積電子線描画装置 (Ultrarapid Electron Beam Direct Writing and Photo Mask Fabrication Machine)
- 設備ID
- UT-503
- 設置機関
- 東京大学
- 設備画像
- メーカー名
- アドバンテスト (ADVANTEST)
- 型番
- F7000S-VD02
- 仕様・特徴
- カケラから8インチ丸基板までの任意形状に対応。R２年度補正予算改造により、更に高速性がアップしました。
（厚みに制限あり。ご相談ください）
可変整形ビーム（VSBモード）による、高速描画が可能
内蔵ステンシル（CPモード）による、階段近似の無い滑らかな曲線等の高速描画が可能。
データはGDS-IIストリームフォーマットから変換
光リソグラフィ装置MA-6 (MA6 Suss 6” Mask Aligner)
- 設備ID
- UT-504
- 設置機関
- 東京大学
- 設備画像
- メーカー名
- ズースマイクロテック (SUSS MicroTec)
- 型番
- MA6
- 仕様・特徴
- 精密な位置合わせ（表裏1ミクロン精度）が可能で、欠片から6インチまでの露光が可能なマスクアライナー。普段は混合で利用していますが必要であればi線フィルターをかけることができます。
レーザー直接描画装置 DWL66+2018 (Laser Drawing System DWL66+2018)
- 設備ID
- UT-505
- 設置機関
- 東京大学
- 設備画像
- メーカー名
- ハイデルベルグ (Heidelberg)
- 型番
- DWL66+ (2018，405nm）
- 仕様・特徴
- 波長406nm 小片アライメントオプション、両面アライメント機能付き。1024階調の「グレイスケールリソグラフィー」により,フォトレジストの立体形状段差をある程度自由に作れる。また、GenISys社の変換ソフトウェア「BEAMER」を使うと、形状を得るために、近接効果の影響を計算して露光補正が可能。
枚葉式ZEP520自動現像装置 (ZEP520 Auto Developing Machine)
- 設備ID
- UT-506
- 設置機関
- 東京大学
- 設備画像
- メーカー名
- アクテス京三 (Actes Kyosan)
- 型番
- ADE-3000S（Big）
- 仕様・特徴
- ZEP520電子線用レジストの自動現像装置
スプレーコーター (Spray Coater)
- 設備ID
- UT-507
- 設置機関
- 東京大学
- 設備画像
- メーカー名
- アクティブ (ACTIVE)
- 型番
- ACT-300AⅡS
- 仕様・特徴
- 厚膜のレジストを塗布できるスプレーコーター
電子線描画用近接効果補正ソフト (Procxymity effect correction for electron beam lithography)
- 設備ID
- UT-508
- 設置機関
- 東京大学
- 設備画像
- メーカー名
- GenISys (GenISys GmbH)
- 型番
- Beamer
- 仕様・特徴
- 電子線描画時に生じる近接効果を補正して設計通りのレズストパターンを電子線で描画するためのパターン補正システム。グレースケール露光用のデータ生成が可能。
枚葉式自動リフトオフ装置 (Automatic liftoff system)
- 設備ID
- UT-509
- 設置機関
- 東京大学
- 設備画像
- メーカー名
- エイ・エス・エイ・ピイ (ASAP)
- 型番
- LOA34-8-5-09
- 仕様・特徴
- リフトオフを自動で行い成功確立が上がります。
クリーンドラフト潤沢超純水付 (Draft Chambers with DI water taps)
- 設備ID
- UT-800
- 設置機関
- 東京大学
- 設備画像
- メーカー名
- ()
- 型番
- 仕様・特徴
- 化学作業を行うためのいわゆる「ドラフトチャンバー」
クリーンルーム1にはアルカリ2台、酸1台、有機1台、
クリーンルーム2にはアルカリ2台、酸2台、有機1台。
全てに潤沢な超純水を取れる口があり、一度使うと湯水のごとく超純水が使えることに誰もが驚きます。
窒素ガンも用意してあり、洗ったサンプルを窒素ブローで乾かすこともできます。