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ホットプレート (Hot plate)
- 設備ID
- TU-054
- 設置機関
- 東北大学
- 設備画像
![ホットプレート](data/facility_item/1651462646_14.jpg)
- メーカー名
- Shamal (Shamal)
- 型番
- HHP-230SQ
- 仕様・特徴
- 設定温度:40~400℃
温度分布精度:±1℃
両面アライナ (Double-side aligner)
- 設備ID
- TU-056
- 設置機関
- 東北大学
- 設備画像
![両面アライナ](data/facility_item/1651462711_14.jpg)
- メーカー名
- SUSS (SUSS)
- 型番
- MA6/BA6
- 仕様・特徴
- サンプルサイズ:小片~6インチ
露光波長:ブロードバンド、i線
最小露光線幅:~0.7μm
アライメント精度(片面):~1μm
アライメント精度(両面):~3μm
レーザ描画装置 (Laser writer)
- 設備ID
- TU-057
- 設置機関
- 東北大学
- 設備画像
![レーザ描画装置](data/facility_item/1651462789_14.jpg)
- メーカー名
- Heidelberg Instruments (Heidelberg Instruments)
- 型番
- DWL2000CE
- 仕様・特徴
- サンプルサイズ:小片~9インチ
波長:405nm
最小描画線幅:0.7µm
マスクレスアライナ (Maskless aligner)
- 設備ID
- TU-058
- 設置機関
- 東北大学
- 設備画像
![マスクレスアライナ](data/facility_item/1651462835_14.jpg)
- メーカー名
- Heidelberg Instruments (Heidelberg Instruments)
- 型番
- MLA150
- 仕様・特徴
- サンプルサイズ:小片~8インチ
波長:405nm 、375nm
最小描画線幅:1µm
スプレー現像装置 (Spray developer)
- 設備ID
- TU-059
- 設置機関
- 東北大学
- 設備画像
![スプレー現像装置](data/facility_item/1651463583_14.jpg)
- メーカー名
- アクテス (Actes)
- 型番
- ADE-3000S
- 仕様・特徴
- サンプルサイズ:3~6インチ
現像ドラフト (Draft chamber for development)
- 設備ID
- TU-060
- 設置機関
- 東北大学
- 設備画像
![現像ドラフト](data/facility_item/1651464717_14.jpg)
- メーカー名
- - (-)
- 型番
- -
- 仕様・特徴
- サンプルサイズ:小片~8インチ
コータデベロッパ (Coater developer)
- 設備ID
- TU-062
- 設置機関
- 東北大学
- 設備画像
![コータデベロッパ](data/facility_item/1651464754_14.jpg)
- メーカー名
- Suss (Suss)
- 型番
- ACS200Gen3
- 仕様・特徴
- サンプルサイズ:2~8インチ
カセットtoカセット
HMDS処理、コート 3ライン、現像 2ライン、エッジリンス、バックリンス、ホットプレート 4セット、クールプレート 1セット
i線ステッパ (i-line stepper)
- 設備ID
- TU-063
- 設置機関
- 東北大学
- 設備画像
![i線ステッパ](data/facility_item/1651464772_14.jpg)
- メーカー名
- キヤノン (Canon)
- 型番
- FPA-3030i5+
- 仕様・特徴
- サンプルサイズ:小片~8インチ
対応オリフラ(OF):4と6インチはOF(JEITA/SEMI)、8インチはノッチ
カセットtoカセット
波長:365nm
最小露光線幅:0.35μm以下
重ね合せ精度 :40nm
レチクル:6インチ(6025)
両面アライメント対応、透明基板対応、反り基板対応、Nikonレチクル対応
エリオニクス 130kV EB描画装置 (Elionix 130kV EB lithography)
- 設備ID
- TU-064
- 設置機関
- 東北大学
- 設備画像
![エリオニクス 130kV EB描画装置](data/facility_item/1651464796_14.jpg)
- メーカー名
- エリオニクス (Elionix)
- 型番
- ELS-G125S
- 仕様・特徴
- 最大加速電圧:130kV
最小描画線幅:10nm以下