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ブランソン アッシング装置 (Branson Asher)
- 設備ID
- TU-213
- 設置機関
- 東北大学
- 設備画像
- メーカー名
- ブランソン (Branson)
- 型番
- IPC4000
- 仕様・特徴
- サンプルサイズ：小片～6インチ
サンプルは石英治具に載せる
プラズマ方式：バレル式
ガス：O2
エキシマ洗浄装置 (Excimer lamp cleaner)
- 設備ID
- TU-265
- 設置機関
- 東北大学
- 設備画像
- メーカー名
- デアネヒステ (Dernaechste)
- 型番
- EXC-1201-DN
- 仕様・特徴
- サンプルサイズ：小片～4インチ
ガス：O2
卓上アッシング装置 (Compact Ashing Machine)
- 設備ID
- UT-501
- 設置機関
- 東京大学
- 設備画像
- メーカー名
- サムコ (SAMCO)
- 型番
- FA-1
- 仕様・特徴
- SAMCO FA-1 コンパクトなドライエッチャー。東大微細加工拠点では酸素アッシング専用装置として使っています。
主用途はフォトマスクのウェットエッチング直前の処理（デスカム）で、プラズマの作用によりエッチング面が濡れ性となり、フォトマスクの仕上がり寸法とエッジのシャープさが向上します。
枚葉式ZEP520自動現像装置 (ZEP520 Auto Developing Machine)
- 設備ID
- UT-506
- 設置機関
- 東京大学
- 設備画像
- メーカー名
- アクテス京三 (Actes Kyosan)
- 型番
- ADE-3000S（Big）
- 仕様・特徴
- ZEP520電子線用レジストの自動現像装置
スプレーコーター (Spray Coater)
- 設備ID
- UT-507
- 設置機関
- 東京大学
- 設備画像
- メーカー名
- アクティブ (ACTIVE)
- 型番
- ACT-300AⅡS
- 仕様・特徴
- 厚膜のレジストを塗布できるスプレーコーター
枚葉式自動リフトオフ装置 (Automatic liftoff system)
- 設備ID
- UT-509
- 設置機関
- 東京大学
- 設備画像
- メーカー名
- エイ・エス・エイ・ピイ (ASAP)
- 型番
- LOA34-8-5-09
- 仕様・特徴
- リフトオフを自動で行い成功確立が上がります。
クリーンドラフト潤沢超純水付 (Draft Chambers with DI water taps)
- 設備ID
- UT-800
- 設置機関
- 東京大学
- 設備画像
- メーカー名
- ()
- 型番
- 仕様・特徴
- 化学作業を行うためのいわゆる「ドラフトチャンバー」
クリーンルーム1にはアルカリ2台、酸1台、有機1台、
クリーンルーム2にはアルカリ2台、酸2台、有機1台。
全てに潤沢な超純水を取れる口があり、一度使うと湯水のごとく超純水が使えることに誰もが驚きます。
窒素ガンも用意してあり、洗ったサンプルを窒素ブローで乾かすこともできます。
レジスト塗布装置 (Photoresist Spin Coater )
- 設備ID
- KT-108
- 設置機関
- 京都大学
- 設備画像
- メーカー名
- (株)カナメックス (KANAMEX Co., Ltd.)
- 型番
- KRC-150CBU
- 仕様・特徴
- 汎用的な枚葉式スピンコーター。
・基板サイズ：Φ2～Φ6 □4-□5
・搭載レジスト：THMR-iP1800EP（10cP）、TDMR-AR80HP（5cP）
・エッジリンス付
スプレーコータ (Photoresist Spray Coater)
- 設備ID
- KT-109
- 設置機関
- 京都大学
- 設備画像
- メーカー名
- ウシオ電機(株) (Ushio Inc.)
- 型番
- USC-2000ST
- 仕様・特徴
- レジスト噴霧方式により凹凸基板へのコンフォーマルコーティングを実現。
・基板サイズ：Φ4～6（塗布領域：MAX□4）
レジスト現像装置 ( Photoresist Developer)
- 設備ID
- KT-110
- 設置機関
- 京都大学
- 設備画像
- メーカー名
- (株)カナメックス (KANAMEX Co., Ltd.)
- 型番
- KD-150CBU
- 仕様・特徴
- 汎用的な枚葉式アルカリ現像装置。
・基板サイズ：Φ2～Φ6、□2.5、□5、不定形
・現像液：アルカリ（TMAH 2.38%）
・現像方式：スプレー、パドル
・対応レジスト：UVレジスト、EBレジスト（NEB22）ほか