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ナノインプリントシステム (Nanoimprint Lithography)

設備ID
KT-257
設置機関
京都大学
設備画像
ナノインプリントシステム
メーカー名
Obducat社 (OBDUCAT AB)
型番
Eitre3
仕様・特徴
最大3インチの基板サイズ対応の一括転写ナノインプリント装置
・基板サイズ φ3
・インプリント方式 STU/熱/UV、全面一括
・最高到達温度（熱インプリント時） 250℃

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