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マスクアライナー (Mask aligner)
- 設備ID
- OS-107
- 設置機関
- 大阪大学
- 設備画像
- メーカー名
- ミカサ (Mikasa)
- 型番
- MA-10
- 仕様・特徴
- 【特徴】
UV露光、マニュアルタイプ、コンタクト露光機。二視野顕微鏡採用によるスピーディで正確なアライメント。
【仕様】
試料は 2 inch φ、マスクは 3 inch角まで対応
水銀灯250W光源（ブロード波長）
二視野顕微鏡採用
両面マスク露光&ボンドアライメント装置 (Double-Sided/Infrared Mask Lithography & Bond Aligner )
- 設備ID
- KT-119
- 設置機関
- 京都大学
- 設備画像
- メーカー名
- ズース・マイクロテック(株) (SUSS MicroTec)
- 型番
- MA/BA8 Gen3 SPEC-KU
- 仕様・特徴
- 接合用アライメントとUVナノインプリント機能を兼備した複合装置。（マスクアライナー機能を兼備）
・基板サイズ：小片～Φ8"
・ウエハ厚さ：MAX 5mm
・マスクサイズ：MAX □9"
・アライメント精度：±0.25um＠表面、±1.0um＠裏面、±2.0um＠接合
両面マスクアライナー (Manual High Precision Double-Sided Mask Aligner)
- 設備ID
- KT-155
- 設置機関
- 京都大学
- 設備画像
- メーカー名
- ズース・マイクロテック(株) (SUSS MicroTec)
- 型番
- MA6 BSA SPEC-KU/3
- 仕様・特徴
- 高性能手動両面マスクアライナ装置。
・光源：高圧UVランプ350W（h、i線）
・基板サイズ：Φ4"、Φ6"
・露光モード：コンタクト（ソフト、ハード）、プロキシミティ
・アライメント精度 ：±0.5um＠表面、 ±0.1um＠裏面
・厚膜レジスト対応
マスクアライナー [MA-6] (Mask Aligner [MA-6])
- 設備ID
- NM-637
- 設置機関
- 物質・材料研究機構 (NIMS)
- 設備画像
![マスクアライナー [MA-6]](data/facility_item/1687416307_11.jpg)
- メーカー名
- ズース・マイクロテック株式会社 (SUSS MicroTec SE)
- 型番
- MA-6
- 仕様・特徴
- ・露光方式：フォトマスク（等倍）
・光源：i線、h線、g線
・マスク寸法：102mm角～152mm角、
・基板寸法：76mm径以下
・露光最小線幅：0.75μm
・位置決め精度：0.5μm(表面側)
両面アライナ(8") (Double-side aligner)
- 設備ID
- TU-069
- 設置機関
- 東北大学
- 設備画像
- メーカー名
- SUSS (SUSS)
- 型番
- MA8/BA8 Gen3
- 仕様・特徴
- サンプルサイズ：小片～6インチ
露光波長：ブロードバンド、i線
最小露光線幅：～0.7um
アライメント精度（片面）：～1um
アライメント精度（両面）：～3um