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移動マスク紫外線露光装置 (Moving Mask UV Lithography)
- 設備ID
- KT-153
- 設置機関
- 京都大学
- 設備画像
- メーカー名
- (株)大日本科研 (Japan Science Engineering Co., Ltd.)
- 型番
- MUM-0001
- 仕様・特徴
- UV露光中にマスクを周期移動させることで3次元微細構造を実現。
・基板サイズ：Φ4
・3次元微細構造製作可能
両面マスクアライナー露光装置 (Double-Sided Mask Aligner)
- 設備ID
- KT-154
- 設置機関
- 京都大学
- 設備画像
- メーカー名
- ユニオン光学(株) (Union Optical Co., Ltd.)
- 型番
- PEM-800
- 仕様・特徴
- 実験用両面マスクアライナ
・基板サイズ：Φ4
・マスクサイズ：□5
・両面露光、アライメント機能
基板接合装置 (Wafer Bonder)
- 設備ID
- KT-217
- 設置機関
- 京都大学
- 設備画像
- メーカー名
- ズース・マイクロテック(株) (SUSS MicroTec)
- 型番
- SB8e SPEC-KU
- 仕様・特徴
- プログラマブル接合チャンバを備えた半自動基板接合装置。
・基板サイズ：Φ150mm
・荷重：MAX 20kN
・温度：MAX 550℃
・接合プロセス：陽極接合、拡散接合、熱圧着、接着接合 ほか
マスクアライナ (Mask aligner)
- 設備ID
- HK-606
- 設置機関
- 北海道大学
- 設備画像
- メーカー名
- ミカサ (MIKASA)
- 型番
- MA-20
- 仕様・特徴
- コンタクト露光
試料サイズ：最大4インチ
マスクサイズ：最大5インチ
両面マスクアライナ (Double-side alignment Mask aligner)
- 設備ID
- HK-702
- 設置機関
- 北海道大学
- 設備画像
- メーカー名
- ズースマイクロテック (SUSS)
- 型番
- MA-6
- 仕様・特徴
- 両面、露光精度0.6ミクロン
試料サイズ：最大6インチ
基板サイズ：不定形小片～150mm角
微細パターン形成装置群（スピンコーター、マスクアライナー） (Photolithography system (Mask aligner, Spincoater))
- 設備ID
- BA-011
- 設置機関
- 筑波大学
- 設備画像
- メーカー名
- Neutronix-Quintel/ミカサ ( Neutronix-Quintel/Mikasa)
- 型番
- Q 2001CT/MS-A100
- 仕様・特徴
- Neutronix-Quintel社製Q 2001CT（2.5インチマスク用コンタクトアライナー）
マスク-ウエハ間隔；0-180μm
基板；1cm角～４インチφ マスク；2.5インチ角、5インチ角
光源；200W水銀ランプ(350~450nm)
解像度；0.6～1.0μm
マニュアルアライメント；1.0μm
照度分布；≤5%@3.5インチφ
ミカサ社製MS-A100（スピンコーター）
基板: 5mm角から4インチφまで
コンタクトマスクアライナー[MJB4] (Contact Mask Aligner〔MJB4〕)
- 設備ID
- AT-009
- 設置機関
- 産業技術総合研究所（AIST)
- 設備画像
![コンタクトマスクアライナー[MJB4]](data/facility_item/AT-009.jpg)
- メーカー名
- ズース (SUSS MicroTec)
- 型番
- MJB4
- 仕様・特徴
- ・型式:MJB4
・基板サイズ:2インチφ～4インチφ、不定形小片～100mm
・解像度:約800nm (バキュームコンタクト使用時)
・波長:g線(436nm)、h線(405nm)、i線(365nm)
・ 照度 :約25mW/cm2
・露光モード:プロキシミティ、ソフトコンタクト、 ハードコンタクト、ソフトバキュームコンタクト、 バキュームコンタクト
・露光領域:2.5～5インチ対応マスクホルダー(最大40mm□)
4インチ, 5インチ対応マスクホルダー 最大110mmφ
紫外線露光装置 (ultraviolet lithography)
- 設備ID
- WS-014
- 設置機関
- 早稲田大学
- 設備画像
- メーカー名
- ズース マイクロテック グループ (SUSS MicroTec Group)
- 型番
- MA6/BA6
- 仕様・特徴
- ズースマイクロテック社製MA6
小片～4インチまで露光可能
最小線幅1μm
UV両面マスクアライナー
コンタクト光学露光装置 (Contact optical exposure)
- 設備ID
- IT-005
- 設置機関
- 東京工業大学
- 設備画像
- メーカー名
- ズース ( Süss)
- 型番
- MA-8
- 仕様・特徴
- ・アシスト機能装備、TSA/BSA装備
・表面アライメント制度 TSA：±0.25μm以下 BSA：±1.00μm以下
・露光解像度 0.5μm
・対応基板 小片～直径2inch ウェハ
マスクアライナ装置 (Mask aligner)
- 設備ID
- TT-006
- 設置機関
- 豊田工業大学
- 設備画像
- メーカー名
- ズース・マイクロテック (SUSS MicroTec)
- 型番
- MA6
- 仕様・特徴
- ・裏面アライメント可能、i線フィルタ付き
・付帯装置：レジストのスピンコータ共和理研Ｋ-359ＳＤなど