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パルスレーザー堆積装置 (Pulse Laser Deposition system)

設備ID
HK-615
設置機関
北海道大学
設備画像
パルスレーザー堆積装置
メーカー名
パスカル (Pascal)
型番
PAC-LMBE
仕様・特徴
レーザー光源:248nm
基板サイズ:
成膜材料:TiO2、STOなど

原子層堆積装置 (Atomic Layer Depositon system)

設備ID
HK-616
設置機関
北海道大学
設備画像
原子層堆積装置
メーカー名
ピコサン (Picosun)
型番
SUNALE-R
仕様・特徴
成膜材料:SiO2、TiO2、Al2O3他(原料持ち込み可)
試料サイズ:最大6インチ

原子層堆積装置(粉末対応型) (Atomic Layer Depositon system (Powder))

設備ID
HK-617
設置機関
北海道大学
設備画像
原子層堆積装置(粉末対応型)
メーカー名
ピコサン (Picosun)
型番
R-200 Advanced
仕様・特徴
成膜材料:TiO2、Al2O3
試料サイズ:最大8インチ、粉末試料(1g~15g)

プラズマ原子層堆積装置 (Plasma Enhanced ALD system)

設備ID
HK-618
設置機関
北海道大学
設備画像
プラズマ原子層堆積装置
メーカー名
サムコ (samco)
型番
AD-230LP
仕様・特徴
成膜材料:Al2O3
試料サイズ:最大8インチ

EB加熱・抵抗加熱蒸着装置 (EB gun/resistant heating-type vacuume evaporation system)

設備ID
HK-703
設置機関
北海道大学
設備画像
EB加熱・抵抗加熱蒸着装置
メーカー名
アルバック (Ujlvac)
型番
EBX-8C
仕様・特徴
電子線、抵抗加熱方式
蒸着源:EB4元・抵抗加熱1元
蒸着材料:Si、Al、Fe、 Mo、Au

スパッタ装置 (Sputtering system)

設備ID
HK-704
設置機関
北海道大学
設備画像
スパッタ装置
メーカー名
菅製作所 (SUGA)
型番
SSP3000Plus
仕様・特徴
成膜材料:1元、Au、Cr、FeNi、SiO2
成膜温度:~300℃
最大試料料サイズ:φ 150mm

液晶配向膜ラビング装置 (Rubbing device for liquid crystal alignment films)

設備ID
CT-018
設置機関
公立千歳科学技術大学
設備画像
液晶配向膜ラビング装置
メーカー名
日本文化精工 (Nippon Bunkaseiko)
型番
仕様・特徴
・真空吸着テーブルサイズ(50 x 50 mm)
・ラビングローラー回転速度可変<1,000 rpm
・テーブル移動速度調節可
・真空吸着テーブルθ調整機構付き

試料作製装置群・スピンコーター・スピンコーター・グローブボックス (Sample preparation devices・Spin coater・Spin coater・Glovebox)

設備ID
CT-030
設置機関
公立千歳科学技術大学
設備画像
試料作製装置群・スピンコーター・スピンコーター・グローブボックス
メーカー名
ミカサ共和理研美輪製作所 (MikasaKYOWARIKENMiwa Manufacturing)
型番
1HD7 K-359S1 下置きガス循環精製装置付パージ式
仕様・特徴
グローブボックス
・パージ式ガス置換型
・サイドボックスのみ真空引ガス置換構造

スパッタリング装置 (Sputtering System)

設備ID
BA-002
設置機関
筑波大学
設備画像
スパッタリング装置
メーカー名
芝浦メカトロニクス (SHIBAURA MECHATRONICS)
型番
CFS-4EP-LL (i-miller)
仕様・特徴
スパッタ方式:マグネトロン・サイドスパッタ RF500W (DC)
スパッタ源:3インチ×4(強磁性体材料用GUN1基含む)、逆スパッタ可
サンプルホルダ:最大φ220 mm/最小20 mm
(4インチウエハ用および不定形用ホルダあり)
加熱温度:室温~300℃
到達真空度・時間:10-5 Pa、10分以内に7 x 10-3 Pa
排気系:ロータリーポンプ、ターボ分子ポンプ、クライオトラップ
操作方式:全自動(レシピ設定可)
プロセスガス:Ar、N2、O2

電子線蒸着装置 (Electron Beam Evaporator)

設備ID
BA-004
設置機関
筑波大学
設備画像
電子線蒸着装置
メーカー名
エイコー (eiko)
型番
EB-350T
仕様・特徴
到達圧力:1.0×10-6 Pa以下
蒸発源:5 kW 5連EBガン
ルツボ容量:5 cc
基板ホルダー:φ3インチ
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