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パリレン成膜装置 (Parylene Coater)
- 設備ID
- KT-251
- 設置機関
- 京都大学
- 設備画像
- メーカー名
- 日本パリレン合同会社 (Specialty Coating Systems Inc.)
- 型番
- LABCOTER PDS-2010
- 仕様・特徴
- 全面に均一な極薄コーティングが可能であり、微細な隙間中なども均一にカバーする。
・蒸着室有効内容積：215mm（径）×270mm（高さ）
コーティング装置群 (Coating machine for nonconductive specimens)
- 設備ID
- KU-015
- 設置機関
- 九州大学
- 設備画像
- メーカー名
- 日本電子 (JEOL)
- 型番
- JEOL JFC-1600、JEOL EC-32010CC
- 仕様・特徴
- 電子顕微鏡試料の調製
EB蒸着装置 (EB vacuume evaporation system)
- 設備ID
- HK-607
- 設置機関
- 北海道大学
- 設備画像
- メーカー名
- エイコー (Eiko)
- 型番
- EB-580S
- 仕様・特徴
- 蒸着源:Au,Ti,Al,Cu,Nb
基板加熱可(600℃程度まで)
水晶振動式膜厚計
真空蒸着装置 (Vacuume evaporation system)
- 設備ID
- HK-608
- 設置機関
- 北海道大学
- 設備画像
- メーカー名
- サンバック (SANVAC)
- 型番
- ED-1500R
- 仕様・特徴
- 蒸着源:抵抗加熱3元、EB3元
基板加熱可
水晶振動式膜厚計
ヘリコンスパッタリング装置 (Helicon sputtering system)
- 設備ID
- HK-609
- 設置機関
- 北海道大学
- 設備画像
- メーカー名
- アルバック (Ulvac)
- 型番
- MPS-4000C1/HC1
- 仕様・特徴
- カソード：3元（マグネトロン4インチ、ヘリコンDC2インチ、ヘリコンRF2インチ）
成膜材料：Au,Cr,Ti
試料サイズ：最大4インチ
コンパクトスパッタ装置 (Compact Sputter)
- 設備ID
- HK-610
- 設置機関
- 北海道大学
- 設備画像
- メーカー名
- アルバック (Ulvac)
- 型番
- ACS-4000-C3-HS
- 仕様・特徴
- カソード4元（DC3元、RF1元）
成膜材料：SiO2、Au,Cr、Mo等
基板サイズ：10mm～4インチ（リフトオフ仕様では25mm角まで）
基板加熱機構有り（～550℃）
多元スパッタ装置 (Multi-target Sputtering sysutem)
- 設備ID
- HK-611
- 設置機関
- 北海道大学
- 設備画像
- メーカー名
- アルバック (Ulvac)
- 型番
- QAM-4-STS
- 仕様・特徴
- カソード7元（ヘリコン2台含む）
試料：小片～最大Φ100㎜
垂直成膜可能（25mm角まで）
コスパッタ（DC/RF)、逆スパッタ
ターゲット：Au、Cr、Pt、Ag他
700度加熱可能
ラジカルイオンガン搭載（N,O)
イオンビームスパッタ装置 (Ion beam sputtering system)
- 設備ID
- HK-612
- 設置機関
- 北海道大学
- 設備画像
- メーカー名
- アルバック (Ulvac)
- 型番
- IBS-6000
- 仕様・特徴
- 成膜材料：4元、Ni、Cr、SiO2、W-Si他
試料サイズ：最大3インチ
プラズマCVD装置 (Plasma Enhanced CVD system)
- 設備ID
- HK-613
- 設置機関
- 北海道大学
- 設備画像
- メーカー名
- サムコ (samco)
- 型番
- PD-220ESN
- 仕様・特徴
- 成膜材料：SiO2、SiN
試料サイズ：最大8インチ
液体ソースプラズマCVD装置 (Liquid Source CVD Systems)
- 設備ID
- HK-614
- 設置機関
- 北海道大学
- 設備画像
- メーカー名
- サムコ (samco)
- 型番
- PD-10C1
- 仕様・特徴
- 成膜材料：SiO2他（原料持ち込み可）
キャリアガス：N2、He、Ar、H2
試料サイズ：最大3インチ