共用設備検索
共用設備検索結果
- 設備ID
- UT-700
- 設置機関
- 東京大学
- 設備画像
- メーカー名
- 自作 (DIY)
- 型番
- NSPⅡ
- 仕様・特徴
- 東大拠点で独自設計・自作した蒸着装置で、いわゆる抵抗加熱蒸着と電子線（EB）加熱蒸着との両方がが可能。
主な材料はAu,Cr,Al。
- 設備ID
- UT-701
- 設置機関
- 東京大学
- 設備画像
- メーカー名
- 芝浦メカトロニクス (SHIBAURA MECHATRONICS)
- 型番
- CFS-4EP-LL
- 仕様・特徴
- ターゲット材をアルゴンプラズマによってスパッタリングし、基板に製膜するスパッタリング装置です。
ターゲット材は日々変動するので都度相談ください。φ200以下のシリコン、ガラス専用。
- 設備ID
- UT-702
- 設置機関
- 東京大学
- 設備画像
- メーカー名
- エリオニクス (ELIONIX)
- 型番
- EIS-230W
- 仕様・特徴
- ターゲット材をアルゴンプラズマによってスパッタリングし、基板に製膜するスパッタリング装置です。
109と比較して高周波の高密度プラズマを用いているところが違いです。
ターゲット材は日々変動するので都度相談ください。φ100以下の基板用
- 設備ID
- UT-703
- 設置機関
- 東京大学
- 設備画像
- メーカー名
- アルバック (ULVAC)
- 型番
- SIH-450
- 仕様・特徴
- 4インチウエーハ8枚、8インチウエーハ2枚導入可能。
6インチターゲット2枚、4インチターゲット1枚が可能。RFとDCスパッタリングが可能。
Al,SiO2,TiN,Taターゲットがあります。その他のターゲット導入も相談に乗ります（在庫がない場合注文から導入まで数ヶ月かかることもありますので相談はお早めに。）
- 設備ID
- UT-704
- 設置機関
- 東京大学
- 設備画像
- メーカー名
- 芝浦メカトロニクス (SHIBAURA MECHATRONICS)
- 型番
- CFS-4ES
- 仕様・特徴
- ターゲット超豊富です。サンプルサイズ: 8inch
ターゲットサイズ: 3inch ターゲット種類 : Ag, Al,Al2O3，Al-Nd, Au，AuGeNi, AuZnNi, Cr, Cu, GaN，ITO, IZO, Ni，Pt, SiO2, Si3N4，Ta, TbFeCo, Ti，TiO2，Pd ※, ZAO, Zn, ZnO
- 設備ID
- UT-706
- 設置機関
- 東京大学
- 設備画像
- メーカー名
- 山本鍍金試験器 (Yamamoto-MS)
- 型番
- 仕様・特徴
- 欠片～4”までの金電解メッキ
- 設備ID
- UT-707
- 設置機関
- 東京大学
- 設備画像
- メーカー名
- 山本鍍金試験器 (Yamamoto-MS)
- 型番
- 仕様・特徴
- 欠片～4”までの金電解メッキ
- 設備ID
- UT-708
- 設置機関
- 東京大学
- 設備画像
- メーカー名
- 自作 (DIY)
- 型番
- 仕様・特徴
- 自作2㎝角まで。東京大学霜垣・百瀬研究室との協力による。
- 設備ID
- UT-709
- 設置機関
- 東京大学
- 設備画像
- メーカー名
- 米国SCS社 (Specialty Coating Systems)
- 型番
- PDS2010
- 仕様・特徴
- 8インチまでの成膜が可能。
- 設備ID
- UT-710
- 設置機関
- 東京大学
- 設備画像
- メーカー名
- 山本鍍金試験器 (Yamamoto-MS)
- 型番
- 仕様・特徴
- 欠片～4”までのニッケル電解メッキ
"成膜装置"で検索した結果 160件
- 160件中 41～50件
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