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2インチ3元電子線蒸着装置 (2-inch 3-target Electron Beam (EB) Evaporator)

設備ID
UT-715
設置機関
東京大学
設備画像
2インチ3元電子線蒸着装置
メーカー名
アルバック (ULVAC)
型番
BB7873
仕様・特徴
ウエーハサイズ2インチもしくはそれ以下のチップサンプルに対応可能。一般的なEB蒸着装置です。ロードロックを備えており、試料交換時間が短い。到達真空度は10E-5 Pa台。膜厚計、試料加熱ランプあり。

電子銃型蒸着装置 [ADS-E810]  (EB Evaporator [ADS-E810])

設備ID
NM-665
設置機関
物質・材料研究機構 (NIMS)
設備画像
電子銃型蒸着装置 [ADS-E810]
メーカー名
アールデック (R-DEC)
型番
ADS-E810
仕様・特徴
・蒸着方式:電子銃型
・ターゲット:Al, Ti, Ni, AuGe, Pt, Au, Pd, Ag, Cr, 他
・到達真空度:10-5 Pa
・TS間距離:500 mm
・最大試料サイズ:φ8inch
・その他:ロードロック式、水冷式試料ステージ

電子銃型蒸着装置 [ADS-E86] (EB Evaporator [ADS-E86])

設備ID
NM-609
設置機関
物質・材料研究機構 (NIMS)
設備画像
電子銃型蒸着装置 [ADS-E86]
メーカー名
アールデック (R-DEC)
型番
ADS-E86
仕様・特徴
・用途:自動金属薄膜形成
・蒸着方式:電子銃型
・ターゲット:Ti, Cr, Al, Ni, Au, Pt
・到達真空度:10-5 Pa
・TS間距離:500 mm
・最大試料サイズ:φ8inch
・その他:ロードロック式、水冷式試料ステージ

電子銃型蒸着装置 [RDEB-1206K] (EB Evaporator [RDEB-1206K])

設備ID
NM-610
設置機関
物質・材料研究機構 (NIMS)
設備画像
電子銃型蒸着装置 [RDEB-1206K]
メーカー名
アールデック (R-DEC)
型番
RDEB-1206K
仕様・特徴
・用途:リフトオフ向け金属薄膜形成
・蒸着方式:電子銃型×1式
・ターゲット:12連式(Ti, Cr, Al, Ni, Cu, Pt, Au×2, Pd, Ag, MgO, Co, Fe, AuGe, Ge, 他)
・到達真空度:1.0e-5 Pa
・TS間距離:500mm
・最大試料サイズ:φ6inch
・その他:水冷式試料ステージ

電子ビーム蒸着装置 (EB evaporation)

設備ID
TU-167
設置機関
東北大学
設備画像
電子ビーム蒸着装置
メーカー名
アネルバ (Anelva)
型番
EVC-1501
仕様・特徴
サンプルサイズ:小片~6インチ
同時処理枚数:4インチ×18枚、6インチ×4枚
同時に装着できる蒸着源:3個
基板温度:常温~350℃(ランプ加熱方式)

4インチ高真空EB蒸着装置 ( Ultra high vacuum evaporator)

設備ID
UT-700
設置機関
東京大学
設備画像
4インチ高真空EB蒸着装置
メーカー名
自作 (DIY)
型番
NSPⅡ
仕様・特徴
東大拠点で独自設計・自作した蒸着装置で、いわゆる抵抗加熱蒸着と電子線(EB)加熱蒸着との両方がが可能。
主な材料はAu,Cr,Al。

パリレンコーター (Parylene Coater)

設備ID
UT-709
設置機関
東京大学
設備画像
パリレンコーター
メーカー名
米国SCS社 (Specialty Coating Systems)
型番
PDS2010
仕様・特徴
8インチまでの成膜が可能。

8元電子線蒸着装置 (Electron Beam Evaporator)

設備ID
UT-712
設置機関
東京大学
設備画像
8元電子線蒸着装置
メーカー名
エイコー (EIKO)
型番
EB-380
仕様・特徴
蒸着材料を一度に8種類装填できる多様な実験を支援する電子ビーム蒸着。

カーボンコーター (Carbon coater )

設備ID
UT-713
設置機関
東京大学
設備画像
カーボンコーター
メーカー名
明和フォーシス (Meiwafosis )
型番
CADE-4T
仕様・特徴
帯電しやすい試料をカーボンでコーティングして鮮明な走査電子顕微鏡増が得られます。

電子ビーム蒸着装置 (Electron beam evaporation)

設備ID
NU-224
設置機関
名古屋大学
設備画像
電子ビーム蒸着装置
メーカー名
アルバック (ULVAC)
型番
EBX-10D
仕様・特徴
・最大投入電力:5kW
・るつぼ数4
・ハースライナー使用
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