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8元マグネトロンスパッタ装置 (8 sources magnetron sputtering)
- 設備ID
- NU-213
- 設置機関
- 名古屋大学
- 設備画像
- メーカー名
- 自作 (Lab made)
- 型番
- 仕様・特徴
- ・2インチカソード8本
・試料サイズ30 mm角
・RF電源 500 W 2台
・1 kV Arイオンエッチング機構
・試料交換室に8サンプルバンク可
スパッタ絶縁膜作製装置 (Insulator sputtering system)
- 設備ID
- NU-229
- 設置機関
- 名古屋大学
- 設備画像
- メーカー名
- MESアフティ (MES Afty)
- 型番
- AFTEX-3420
- 仕様・特徴
- ・対応基板サイズ：最大3インチ
・酸化膜，窒化膜用
スパッタリング装置 (Sputtering system)
- 設備ID
- NU-245
- 設置機関
- 名古屋大学
- 設備画像
- メーカー名
- キャノンアネルバ (Canon Anelva)
- 型番
- E-200S
- 仕様・特徴
- ・ターゲット：SiO2，Cr，Au
・膜厚分布：Φ100 mm内±3％
・基板ホルダー：Φ200 mm
・基板加熱：Max 300℃（水冷付）
多元スパッタ装置（仕様Ａ） (RF Magnetron Multi-Sputter Type-A )
- 設備ID
- KT-201
- 設置機関
- 京都大学
- 設備画像
- メーカー名
- キャノンアネルバ(株) (CANON ANELVA CORPORATION)
- 型番
- EB-1100
- 仕様・特徴
- 研究開発～小規模生産用の高性能RFマグネトロンスパッタリング装置（高温対応）。
・基板サイズ：Φ4、Φ6、不定形
・カソード：非磁性体Φ4PMC×4（RF電源：1,000W×2）
・TS距離：100～200mm
・温度：RT～800℃（ハロゲンランプ）
・ガス：Ar、O2
・ターゲット：Ti、Pt、PZT、PLT ほか
・ロードロック機構
多元スパッタ装置（仕様Ｂ） (RF Magnetron Multi-Sputter Type-B )
- 設備ID
- KT-202
- 設置機関
- 京都大学
- 設備画像
- メーカー名
- キャノンアネルバ(株) (CANON ANELVA CORPORATION)
- 型番
- EB-1100
- 仕様・特徴
- 研究開発～小規模生産用の高性能RFマグネトロンスパッタリング装置（高温対応）。
・基板サイズ：Φ4、Φ6、不定形
・カソード：非磁性体Φ4PMC×3（RF電源：1,000W×3）
・TS距離：100～200mm
・温度：RT～800℃（ハロゲンランプ）
・ガス：Ar、O2、N2
・ターゲット： 各種メタル、各種金属酸化物 ほか
・ロードロック機構
コーティング装置群 (Coating machine for nonconductive specimens)
- 設備ID
- KU-015
- 設置機関
- 九州大学
- 設備画像
- メーカー名
- 日本電子 (JEOL)
- 型番
- JEOL JFC-1600、JEOL EC-32010CC
- 仕様・特徴
- 電子顕微鏡試料の調製
ヘリコンスパッタリング装置 (Helicon sputtering system)
- 設備ID
- HK-609
- 設置機関
- 北海道大学
- 設備画像
- メーカー名
- アルバック (Ulvac)
- 型番
- MPS-4000C1/HC1
- 仕様・特徴
- カソード：3元（マグネトロン4インチ、ヘリコンDC2インチ、ヘリコンRF2インチ）
成膜材料：Au,Cr,Ti
試料サイズ：最大4インチ
コンパクトスパッタ装置 (Compact Sputter)
- 設備ID
- HK-610
- 設置機関
- 北海道大学
- 設備画像
- メーカー名
- アルバック (Ulvac)
- 型番
- ACS-4000-C3-HS
- 仕様・特徴
- カソード4元（DC3元、RF1元）
成膜材料：SiO2、Au,Cr、Mo等
基板サイズ：10mm～4インチ（リフトオフ仕様では25mm角まで）
基板加熱機構有り（～550℃）
多元スパッタ装置 (Multi-target Sputtering sysutem)
- 設備ID
- HK-611
- 設置機関
- 北海道大学
- 設備画像
- メーカー名
- アルバック (Ulvac)
- 型番
- QAM-4-STS
- 仕様・特徴
- カソード7元（ヘリコン2台含む）
試料：小片～最大Φ100㎜
垂直成膜可能（25mm角まで）
コスパッタ（DC/RF)、逆スパッタ
ターゲット：Au、Cr、Pt、Ag他
700度加熱可能
ラジカルイオンガン搭載（N,O)
イオンビームスパッタ装置 (Ion beam sputtering system)
- 設備ID
- HK-612
- 設置機関
- 北海道大学
- 設備画像
- メーカー名
- アルバック (Ulvac)
- 型番
- IBS-6000
- 仕様・特徴
- 成膜材料：4元、Ni、Cr、SiO2、W-Si他
試料サイズ：最大3インチ