共用設備検索

共用設備検索結果

フリーワード検索

分光エリプソメーター [UNECS-2000A] (Spectroscopic Ellipsometer [UNECS-2000A])

設備ID
NM-663
設置機関
物質・材料研究機構 (NIMS)
設備画像
分光エリプソメーター [UNECS-2000A]
メーカー名
アルバック (ULVAC)
型番
UNECS-2000A
仕様・特徴
1. 光源:ハロゲンランプ
2. 波長範囲:530~750 nm
3. スポット径:1mm
4. 入射角:70°固定
5. 試料サイズ:最大φ200mm

エリプソメーター [MARY-102FM] (Ellipsometer [MARY-102FM])

設備ID
NM-625
設置機関
物質・材料研究機構 (NIMS)
設備画像
エリプソメーター [MARY-102FM]
メーカー名
ファイブラボ (five Lab)
型番
MARY-102FM
仕様・特徴
・用途:絶縁膜形成評価
・光源:632nm He-Neレーザー
・ビーム径:0.8mm
・入射角:50°,60°,70°
・最大試料サイズ:φ6inch

卓上型エリプソ (Desktop Ellipsometer)

設備ID
TU-303
設置機関
東北大学
設備画像
卓上型エリプソ
メーカー名
フォトニックラティス (Photonic lattice)
型番
SE-101
仕様・特徴
サンプルサイズ:小片~6インチ

エリプソ (Ellipsometer)

設備ID
TU-304
設置機関
東北大学
設備画像
エリプソ
メーカー名
アルバック (Ulvac)
型番
-
仕様・特徴
サンプルサイズ:小片~6インチ

分光エリプソメータ (M-2000DI-T)

設備ID
UT-303
設置機関
東京大学
設備画像
分光エリプソメータ
メーカー名
ジェー・エー・ウーラム・ジャパン (J.A.Woollam)
型番
M-2000U
仕様・特徴
□ 主な仕様
・測定波長:193~1690nm
・チャンネル数:690同時計測
・回転補償子型

形状・膜厚・電気特性評価装置群 (Series of analysis equipments, visual, thickness, and electrical/mechanical characteristic.)

設備ID
UT-850
設置機関
東京大学
設備画像
形状・膜厚・電気特性評価装置群
メーカー名
・キーエンス ・ブルカー ・東朋テクノロジー ・ズースマイクロテック ・日本分光 ・オリンパス ・エビデント(旧オリンパス) ・キーエンス (・Keyence ・BRUKER ・Toho Technology ・SUSS MicroTec ・JASCO ・Olympus ・EVIDENT (Ex.Olympus) ・Keyence)
型番
・VHX-6000 ・DektakXT ・Tohospec3100 ・Suss8”プローバ ・M-550 ・LEXT OLS5000 ・STM-7 ・VK-X1100(404nm)
仕様・特徴
枝番1:顕微鏡
枝番2:触針段差計
枝番3:光干渉式膜厚測定装置
枝番4:Suss8”プローバ,針を当てて電気的特性を測定する装置。8インチ対応。
枝番5:分光エリプソメータ―
枝番6:レーザー顕微鏡
枝番7:光学顕微鏡(200mmステージ、静止画撮影)
枝番8:共焦点型レーザー顕微鏡。一般居室にあるため、クリーンルームに持ち込み不可なサンプルも計測可能。

エリプソメータ (Ellipsometry)

設備ID
HK-706
設置機関
北海道大学
設備画像
エリプソメータ
メーカー名
日本分光 (JASCO)
型番
M-500S
仕様・特徴
Xe光源, 測定波長:350~800nm, 試料水平置き

分光エリプソメータ (Ellipsometer)

設備ID
BA-019
設置機関
筑波大学
設備画像
分光エリプソメータ
メーカー名
堀場製作所 (Horiba)
型番
UVISEL Plus
仕様・特徴
PEMを利用した位相変調方式により、外光の影響を受けにくい分光エリプソメーター

測定波長:190~2100 nm(波長分解能力:2 nm)
スポットサイズ:0.05, 0.1, 1mmφ(垂直入射時)を選択

分光エリプソメータ (Spectroscopic Ellipsometer)

設備ID
AT-063
設置機関
産業技術総合研究所(AIST)
設備画像
分光エリプソメータ
メーカー名
堀場 Jovin-Yvon (Horiba Jovin-Yvon)
型番
UVISEL-M200-FUV-FGMS
仕様・特徴
・型式:UVISEL-M200-FUV-FGMS
・試料サイズ:150mmφ
・ステージ上下調整幅:20mm
・波長範囲:190~826nm(1.5~6.5eV)

高性能分光エリプソメータ (Spectroscopic Ellipsometry)

設備ID
WS-026
設置機関
早稲田大学
設備画像
高性能分光エリプソメータ
メーカー名
株式会社堀場製作所 (HORIBA, Ltd.)
型番
UVISEL ER AGMS iHR320
仕様・特徴
波長範囲:190-2100nm
150mmウェハ対応、XY軸はマニュアルステージ
スマートフォン用ページで見る