共用設備検索結果
デュアルビーム微細加工電子顕微鏡 (Dual beam FIB-SEM)
- 設備ID
- KU-012
- 設置機関
- 九州大学
- 設備画像
- メーカー名
- サーモフィッシャーサイエンテ ィフィック (Thermo Fisher Scientific)
- 型番
- Versa3D DualBeam
- 仕様・特徴
- 観察+FIB加工、マイクロサンプリング
キセノンプラズマ集束イオンビーム加工・走査電子顕微鏡複合機 (Analytical plasma FIB-SEM)
- 設備ID
- KU-013
- 設置機関
- 九州大学
- 設備画像
- メーカー名
- サーモフィッシャーサイエンテ ィフィック (Thermo Fisher Scientific)
- 型番
- Helios 5 Hydra DualBeam
- 仕様・特徴
- イオン源4種(Xe, Ar, O, N)、SIMS分析
Arイオン研磨装置群 (Sample milling / polishing facilities)
- 設備ID
- KU-014
- 設置機関
- 九州大学
- 設備画像
- メーカー名
- Gatan、Fischione、日本電子 (Gatan、Fischione、JEOL)
- 型番
- Gatan PIPSⅡ M 695、Fischione NanoMill Model1040、JEOL ION SLICER EM-09100IS
- 仕様・特徴
- 電子顕微鏡試料の調製
集束イオンビーム加工装置 (FIB)
- 設備ID
- HK-105
- 設置機関
- 北海道大学
- 設備画像
- メーカー名
- 日本電子 (JEOL)
- 型番
- JEM-9320FIB
- 仕様・特徴
- ・イオン加速電圧：5 ～ 30 kV
・倍率：150（50）～300,000
・真空系：ターボ分子ポンプ（TMP）、ロータリーポンプ（RP）
・チップオンホルダー
・バルクホルダー
・ピックアップ装置
・遠隔観察装置
集束イオンビーム加工・観察装置 (Focused Ion Beam and Scanning Electron Microscope system(FIB-SEM))
- 設備ID
- HK-304
- 設置機関
- 北海道大学
- 設備画像
- メーカー名
- 日本電子 (JEOL)
- 型番
- JIB-4600F/HKD
- 仕様・特徴
- 加速電圧：1～30kV
分析機能：EDS、EBSD、3D観察
像分解能：5nm（30kV）
集束イオンビーム加工装置 (Focused Ion Beam system)
- 設備ID
- HK-403
- 設置機関
- 北海道大学
- 設備画像
- メーカー名
- 日立ハイテク (Hitachi High-Tech)
- 型番
- FB-2100
- 仕様・特徴
- イオン加速電圧：5 ～ 30 kV
サイドエントリーステージ
バルクステージ
マイクロサンプリング機能
精密イオン研磨装置 ( Precision ion polishing system)
- 設備ID
- HK-407
- 設置機関
- 北海道大学
- 設備画像
- メーカー名
- ガタン (Gatan)
- 型番
- PIPSII
- 仕様・特徴
- イオン加速電圧：1 ～ 6 kV
イオン入射角：最大±10°
液体窒素冷却装置
TVカメラ
ミクロトーム/クライオミクロトーム (Microtome/Cryo-microtome)
- 設備ID
- CT-013
- 設置機関
- 公立千歳科学技術大学
- 設備画像
- メーカー名
- ライカ マイクロシステムズ (Leica Microsystems)
- 型番
- ULTRACUT UCT
- 仕様・特徴
- ・クライオスタット付きのため凍結状態での薄切可能
断面試料作製装置（クロスセクションポリッシャ） (Specimen preparation equipment (CROSS SECTION POLISHER))
- 設備ID
- CT-014
- 設置機関
- 公立千歳科学技術大学
- 設備画像
- メーカー名
- 日本電子 (JEOL)
- 型番
- IB-09010CP
- 仕様・特徴
- ・イオン加速電圧：2~6 kV
・イオンビーム径：500 μm
・ミリングスピード：100 μm/h
・最大搭載試料サイズ：11 mm(幅) x 10 mm(長さ) x 2 mm(厚さ)
・使用ガス：アルゴンガス
FIB-SEM (Focused Ion beam - Scanning Electron Microscope)
- 設備ID
- BA-003
- 設置機関
- 筑波大学
- 設備画像
- メーカー名
- FEI (FEI)
- 型番
- Helios NanoLab 600i
- 仕様・特徴
- 電子とイオンの2種のソースにより、TEM試料作製、イオン照射による直接加工をSEM観察をしながら実施できる。
加速電圧：1-30kV（電子ビーム）
0.5-30kV（Gaイオンビーム）
デポジション用ガス：C,Ptガス
分析機能：EDS