共用設備検索結果
デュアルビーム加工観察装置 (Dual Beam system)
- 設備ID
- NM-509
- 設置機関
- 物質・材料研究機構 (NIMS)
- 設備画像
- メーカー名
- 日立ハイテクノロジーズ (Hitachi High-Technologies)
- 型番
- NB5000
- 仕様・特徴
- ・FIB：加速電圧1~40 kV、最大電流50nA、倍率x600~
・SEM：加速電圧0.5~30kV、分解能1nm@15kV, 倍率x250~
・付属：マイクロサンプリング、STEM, EDS
FIB加工装置（JIB-4000） (Focused Ion Beam systems)
- 設備ID
- NM-510
- 設置機関
- 物質・材料研究機構 (NIMS)
- 設備画像
- メーカー名
- 日本電子 (JEOL)
- 型番
- JIB-4000
- 仕様・特徴
- ・FIB：加速電圧1~30 kV、最大電流60nA
・分解能：5nm (@30kV)
FIB加工装置（JEM-9320FIB） (Focused Ion Beam systems)
- 設備ID
- NM-511
- 設置機関
- 物質・材料研究機構 (NIMS)
- 設備画像
- メーカー名
- 日本電子 (JEOL)
- 型番
- JEM-9320FIB
- 仕様・特徴
- ・FIB：加速電圧5~30 kV、最大電流30nA
・分解能：6nm (@30kV)
FIB加工装置（JEM-9310FIB） (Focused Ion Beam systems)
- 設備ID
- NM-512
- 設置機関
- 物質・材料研究機構 (NIMS)
- 設備画像
- メーカー名
- 日本電子 (JEOL)
- 型番
- JEM-9310FIB
- 仕様・特徴
- ・FIB：加速電圧5~30 kV、最大電流10nA
・分解能：8nm (@30kV)
ピックアップシステム (Pick-up System)
- 設備ID
- NM-513
- 設置機関
- 物質・材料研究機構 (NIMS)
- 設備画像
- メーカー名
- ()
- 型番
- 仕様・特徴
- ・大気中（FIB外）でガラスプローブを使ってTEMグリッド上へ固定
ウルトラミクロトーム (Ultramicrotome)
- 設備ID
- NM-514
- 設置機関
- 物質・材料研究機構 (NIMS)
- 設備画像
- メーカー名
- ライカマイクロシステムズ (Leica Microsystems)
- 型番
- Leica EM UC6
- 仕様・特徴
- ・ガラスナイフまたはダイヤモンドナイフを使用して薄切切片を製作
・液体窒素冷却機能付属
TEM試料作製装置群 (TEM sample preparation apparatus)
- 設備ID
- NM-516
- 設置機関
- 物質・材料研究機構 (NIMS)
- 設備画像
- メーカー名
- Gatan 日本電子 BEUHLER Allied 日本レーザー電子 真空デバイス (Gatan JEOL BEUHLER Allied Nippon Laser & Electronics Vacuum Device)
- 型番
- Dimple Grinder(Model 656) PIPS II(Model 695) PIPS(Model 691) Ion Slicer(EM-09100IS) ISOMET Multiprep Carbon coater(JEC-560) Platinum coater(JFC-1600) Au coater(JFC-1500) Osmium coater(NL-OPC80A) Osmium coater(HPC-1SW) PECS(Model 682) Disc Cutter(Model 601) DII-29020HD
- 仕様・特徴
- Dimple Grinder(Model 656)
・初期試料厚さ: 200 µm以下
・自動停止機構付き
PIPS II(Model 695)
・加速電圧: 0.1～6 kV
・液体窒素冷却ステージ
PIPS(Model 691)
・加速電圧: 0.1～6 kV
・液体窒素冷却ステージ
Ion Slicer(EM-09100IS)
・加速電圧: 1～8 kV
ISOMET
・4インチダイヤモンド切断砥石
Multiprep
・試料傾斜角度: 0～10°
・精密マイクロメーター付き
PECS(Model 682)
・コーディング材料：カーボン, クロム, 金パラジウム, コバルト
Disc Cutter(Model 601)
・金属試料の3mmディスク切り出し
TEMグリッド等の親水化処理
集束イオンビーム加工装置 (Dual-Beam FIB System )
- 設備ID
- TU-507
- 設置機関
- 東北大学
- 設備画像
- メーカー名
- サーモフィッシャーサイエンティフィック株式会社 (Thermo Fisher Scientific K.K.)
- 型番
- Quanta 3D
- 仕様・特徴
- ・加速電圧 1 kV～30 kV W電子銃
・加速電圧 5 kV～30 kV Gaイオン銃
・保護膜形成 W蒸着・C蒸着
集束イオンビーム加工装置 (Dual-Beam FIB System )
- 設備ID
- TU-508
- 設置機関
- 東北大学
- 設備画像
- メーカー名
- サーモフィッシャーサイエンティフィック株式会社 (Thermo Fisher Scientific K.K.)
- 型番
- Versa 3D
- 仕様・特徴
- ・加速電圧 0.5 kV～30 kV W電子銃
・加速電圧 0.5 kV～30 kV Gaイオン銃
・保護膜形成 Pt蒸着・C蒸着
・シリアルセクショニング
・反射電子検出器