共用設備検索結果
TEM用ハイスループットイオン研磨システム (High-throughput ion polishing system for TEM)
- 設備ID
- UT-157
- 設置機関
- 東京大学
- 設備画像
![TEM用ハイスループットイオン研磨システム](data/facility_item/1712199166_11.jpg)
- メーカー名
- gatan (gatan)
- 型番
- PIPSⅡ
- 仕様・特徴
- 【特長】ハイスループットイオン研磨システムの試料ホルダー
より試料を取り外すことなく既設装置である
イオンスライサーに搭載可能であること。
【仕様】
本体
ミリングアングル -10°~+10° 調整可能
イオンエネルギー 100 eV ~8 keV
イオン電流密度 1イオン銃あたり 10 mA/cm2
試料回転 1~6 rpm まで可変
X,Y可動範囲 ±0.5 mm
冷却ステージ
デュアーの保持時間 約6~7時間
ヒーター1 ステージの温度調整用 (-120°C~+25°C)
ヒーター2 冷却したステージを室温戻し用
温度領域 -120°C~室温
試料冷却 -120°Cまで可能
クライオイオンスライサ― (CRYO ION SLICER)
- 設備ID
- KT-409
- 設置機関
- 京都大学
- 設備画像
![クライオイオンスライサ―](data/facility_item/1702632864_11.jpg)
- メーカー名
- 日本電子 (JEOL)
- 型番
- IB-09060CIS
- 仕様・特徴
- 1.アルゴンビーム薄片化装置(電圧1~8kV)
2.試料傾斜角最大±6度
3.クライオステージ(-120℃)
無損傷電子顕微鏡試料薄片化装置 (Damage-less TEM specimen milling apparatus)
- 設備ID
- NM-404
- 設置機関
- 物質・材料研究機構 (NIMS)
- 設備画像
![無損傷電子顕微鏡試料薄片化装置](data/facility_item/NM-404.jpg)
- メーカー名
- フィッシオーネ (Fischione)
- 型番
- Model 1040 Nanomill
- 仕様・特徴
- ・イオン:アルゴン
・イオンエネルギー:50~2000eV 可変
・イオン電流:1mA/cm2
・イオンビームサイズ:2μm
セラミックス試料作製装置群 (Ceramics sample preparation facilities)
- 設備ID
- NM-407
- 設置機関
- 物質・材料研究機構 (NIMS)
- 設備画像
![セラミックス試料作製装置群](data/facility_item/NM-407.jpg)
- メーカー名
- ガタン日立ハイテク真空デバイスマルトーTECHNOORG-LINDA (GatanHitachi High-TechVacuum DeviceMarutoTECHNOORG-LINDA)
- 型番
- 695PIPS II(精密イオン研磨装置)656 DimpleGrinder(ディンプルグラインダ)TM4000Plus II(卓上SEM)VES-30T(マルチコーター)ML-180 DoctorLap(卓上研磨機)MS2 MICROSAW(小型精密切断器)
- 仕様・特徴
- ・精密イオン研磨装置:イオンビームエネルギー: 0.1~8 keV、試料冷却が可能、観察用デジタルズームカメラ付属
・ディンプルグラインダ:研磨ホイール径 15 mm、研磨荷重 0~40 g、自動停止機構付属
・卓上SEM:加速電圧:5-20kV、二次電子検出器および反射電子検出器
・マルチコーター:蒸着、イオンスパッタ、親水化処理
・卓上研磨機:研磨回転数 50~500 rpm
・小型精密切断器:50mmダイヤモンド回転刃
TEM試料作製装置群 (TEM sample preparation apparatus)
- 設備ID
- NM-516
- 設置機関
- 物質・材料研究機構 (NIMS)
- 設備画像
![TEM試料作製装置群](data/facility_item/1650499088_2.jpg)
- メーカー名
- Gatan 日本電子 BEUHLER Allied 日本レーザー電子 真空デバイス (Gatan JEOL BEUHLER Allied Nippon Laser & Electronics Vacuum Device)
- 型番
- Dimple Grinder(Model 656) PIPS II(Model 695) PIPS(Model 691) Ion Slicer(EM-09100IS) ISOMET Multiprep Carbon coater(JEC-560) Platinum coater(JFC-1600) Au coater(JFC-1500) Osmium coater(NL-OPC80A) Osmium coater(HPC-1SW) PECS(Model 682) Disc Cutter(Model 601) DII-29020HD
- 仕様・特徴
- Dimple Grinder(Model 656)
・初期試料厚さ: 200 µm以下
・自動停止機構付き
PIPS II(Model 695)
・加速電圧: 0.1~6 kV
・液体窒素冷却ステージ
PIPS(Model 691)
・加速電圧: 0.1~6 kV
・液体窒素冷却ステージ
Ion Slicer(EM-09100IS)
・加速電圧: 1~8 kV
ISOMET
・4インチダイヤモンド切断砥石
Multiprep
・試料傾斜角度: 0~10°
・精密マイクロメーター付き
PECS(Model 682)
・コーディング材料:カーボン, クロム, 金パラジウム, コバルト
Disc Cutter(Model 601)
・金属試料の3mmディスク切り出し
TEMグリッド等の親水化処理
イオンミリング装置 (Ion milling apparatus)
- 設備ID
- TU-510
- 設置機関
- 東北大学
- 設備画像
![イオンミリング装置](data/facility_item/1651468857_14.jpg)
- メーカー名
- ガタン社 (Gatan Inc.)
- 型番
- PIPSⅡ
- 仕様・特徴
- 低エネルギー集束電極 ペニング形イオン銃2式
-10°~+10° 調整可能
100eV ~8keV
イオンミリング装置 (Ion milling apparatus)
- 設備ID
- TU-511
- 設置機関
- 東北大学
- 設備画像
![イオンミリング装置](data/facility_item/1651468888_14.jpg)
- メーカー名
- ガタン社 (Gatan Inc.)
- 型番
- PIPSⅡ
- 仕様・特徴
- 低エネルギー集束電極 ペニング形イオン銃2式
-10°~+10° 調整可能
100eV ~8keV
イオンミリング装置 (Ion milling apparatus)
- 設備ID
- TU-512
- 設置機関
- 東北大学
- 設備画像
![イオンミリング装置](data/facility_item/1651468917_14.jpg)
- メーカー名
- フィッショーネ・インスツルメンツ社 (Fischone Instruments, Inc.)
- 型番
- model 1010
- 仕様・特徴
- ダブルイオン銃方式
照射角度 -10°~+10°
ミリング角調整機能
ジェントルミリング装置 (Gnetle Mill)
- 設備ID
- TU-519
- 設置機関
- 東北大学
- 設備画像
![ジェントルミリング装置](data/facility_item/1651469062_14.jpg)
- メーカー名
- 日本フィジテック (Japan Physitec Co.)
- 型番
- Gentle Mill 3
- 仕様・特徴
- ・ビームカレント 5 ~ 80 μA
・イオン照射角度 0~6°
イオンスライサー (Ion slicer)
- 設備ID
- UT-154
- 設置機関
- 東京大学
- 設備画像
![イオンスライサー](data/facility_item/1651455598_14.jpg)
- メーカー名
- 日本電子株式会社 (JEOL Ltd.)
- 型番
- EM09100IS
- 仕様・特徴
- □ 主な仕様
・イオン加速電圧:1~8 kV
・傾斜角:最大6°(0.1°刻み)
・試料ガス:アルゴン
□ 主な特長
冊状試料にイオン研磨処理を行い、薄膜試料を作製