共用設備検索結果
複合ビーム加工観察装置 (Dual beam analysis system )
- 設備ID
- SH-007
- 設置機関
- 信州大学
- 設備画像
- メーカー名
- 日本電子 (JEOL)
- 型番
- JIB-4610F
- 仕様・特徴
- FE-SEM 加速電圧 0.1～30ｋV
FIB 分解能4nm 加速電圧 1～30kV
Cryoオプション付き ピックアップシステム付き
複合ビーム３次元加工・観察装置 (FIB-SEM)
- 設備ID
- OS-005
- 設置機関
- 大阪大学
- 設備画像
- メーカー名
- サーモフィッシャーサイエンティフィック (Thermo Fisher Scientific)
- 型番
- Scios2
- 仕様・特徴
- 加速電圧200V～30kV、dual beam、EDS分析機能
高精細集束イオンビーム装置 (High definition focused ion beam system)
- 設備ID
- OS-101
- 設置機関
- 大阪大学
- 設備画像
- メーカー名
- カールツァイス (Carl Zeiss)
- 型番
- ORION NanoFab
- 仕様・特徴
- 【特徴】
イオン源にHeガスを採用し、最小ビーム径0.5nmφ の分解能を有する。
FIB：10nm以下の微細加工が可能。
ヘリウムイオン顕微鏡：中和銃装備のため導電性処理無しで絶縁体の観察が可能。生体試料の観察にも適する。
【仕様】
イオン源：He / Ne (希ガス)
最小ビーム径：0.5 nm (He)，1.9 nm (Ne)
加速電圧：10～40 kV
ET検出器：2次電子
電子中和銃（Flood gun）装備
GIS：Pt、SiO2、XeF2
試料サイズ： 45mmφ
SEM付集束イオンビーム装置 (Focused ion beam system with SEM)
- 設備ID
- OS-102
- 設置機関
- 大阪大学
- 設備画像
- メーカー名
- カールツァイス (Carl Zeiss)
- 型番
- Nvision 40D with NPVE
- 仕様・特徴
- 【特徴】
30kVのGa+イオンによるFIB加工及び加工時のSEM観察が可能。FIBによる気相蒸着によりPtおよびSiO2による配線の修復が可能。
【仕様】
ステージサイズ：max 8 inch
Pt銃、SiO2銃装備
FE-SEMユニット, 加速電圧：30kV
検出器：InLens, SE, Esb
FIBユニット, 加速電圧：30kV
最小ビーム径：4nm
イオンビーム・電子ビーム複合型精密加工分析装置 (Precise Sample Preparation and Analysis System Combining Ion Beam and Electron Beam)
- 設備ID
- KU-018
- 設置機関
- 九州大学
- 設備画像
- メーカー名
- サーモフィッシャーサイエンテ ィフィック (Thermo Fisher Scientific)
- 型番
- Helios 5 UX
- 仕様・特徴
- FIBによる電顕試料の調製、モノクロメータSEMによる形態観察、EBSDによる方位解析、自動試料作製