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低真空走査型電子顕微鏡 (Low-vacuum Scannning Electron Microscope)
- 設備ID
- UT-104
- 設置機関
- 東京大学
- 設備画像
- メーカー名
- 日本電子株式会社 (JEOL Ltd.)
- 型番
- JSM-6510LA
- 仕様・特徴
- □ 主な仕様
（１）本体
加速電圧：0.5～30kV 0.5～3.0kVは100Vステップ可変 3～30kVは1kVステップ可変
二次電子分解能：
高真空モード：3.0nm（加速電圧30kV），15.0nm（加速電圧1kV）
低真空モード：4.0nm（加速電圧30kV）
倍率：×5～300,000
プローブ電流：1pA～1μA
試料室圧力調整範囲：10～270Pa
（２）エネルギー分散型X線分析装置（日本電子）
検出器：エクストラミニカップEDS検出器
エネルギー分解能129eV以下
検出可能元素 Be～U
分析時分解能：3.0nm（加速電圧15kV・プローブ電流15nA・WD10mm）
（３）反射電子検出器（Si P-N複合型半導体検出器）
カーボンコーター (Carbon coater )
- 設備ID
- UT-713
- 設置機関
- 東京大学
- 設備画像
- メーカー名
- 明和フォーシス (Meiwafosis )
- 型番
- CADE-4T
- 仕様・特徴
- 帯電しやすい試料をカーボンでコーティングして鮮明な走査電子顕微鏡増が得られます。
電子線顕微鏡観察用コーター (Coater for SEM analysis)
- 設備ID
- UT-714
- 設置機関
- 東京大学
- 設備画像
- メーカー名
- Gatan (Gatan)
- 型番
- PECS
- 仕様・特徴
- スパッタによりカーボン膜など観察用の薄膜を堆積できます
簡易電子顕微鏡 (Tabletop SEM)
- 設備ID
- UT-853
- 設置機関
- 東京大学
- 設備画像
- メーカー名
- 日立ハイテクノロジーズ (Hitachi High-Tech)
- 型番
- TM-3030Plus
- 仕様・特徴
- 卓上顕微鏡、EDX付
オージェ分光分析装置 (Auger Electron Spectroscopy)
- 設備ID
- UT-854
- 設置機関
- 東京大学
- 設備画像
- メーカー名
- アルバック (ULVAC)
- 型番
- PHI680
- 仕様・特徴
- 元素分析装置。 対象の極表面から出て来るオージェ電子のエネルギー分光計測によって元素を調べることが出来る。
アルゴンミリングと併用でき、深さ方向のプロファイルを測定することができる。
高精細電子顕微鏡 (Ultra-high Resolution Scanning Electron Microscope (SEM))
- 設備ID
- UT-855
- 設置機関
- 東京大学
- 設備画像
- メーカー名
- 日立ハイテクノロジーズ (Hitachi High-Tech)
- 型番
- Regulus 8230
- 仕様・特徴
- 分解能は1 kVで0.7 nm。最高倍率は200万倍の電界放出電子源を用いた高分解能走査型電子顕微鏡
電子顕微鏡 (Scanning Electron Microscope (SEM))
- 設備ID
- UT-858
- 設置機関
- 東京大学
- 設備画像
- メーカー名
- 日本電子㈱ (JEOL)
- 型番
- JSM-6610LV Oxford X-max50 + Energy 250
- 仕様・特徴
- エネルギー分散型X線分析装置(元素分析装置)付きの走査電子顕微鏡です。
小型原子間力顕微鏡 (Atomin Force Microscope (AFM))
- 設備ID
- UT-859
- 設置機関
- 東京大学
- 設備画像
- メーカー名
- 日立ハイテクサイエンス (Hitachi High-Tech Science)
- 型番
- SPA400+SPI4000
- 仕様・特徴
- 日立ハイテクサイエンス(旧SII社製)AFM。試料サイズ：φ35mm厚み10mm、スキャナー走査範囲：150μm×150μm（高さ5μm）、20μm×20μm（高さ1.5μm）、AFMモード、DFMモード
走査型電子顕微鏡（SEM） (Scanning Electron Microscope (SEM))
- 設備ID
- NU-004
- 設置機関
- 名古屋大学
- 設備画像
- メーカー名
- 日本電子 (JEOL)
- 型番
- JSM-7500F
- 仕様・特徴
- ・電界放出形電子銃 ・二次電子分解能：1.0nm（15kV）、1.4nm（1kV） ・倍率：×25～1,000,000 加速電圧：0.1～30kV ・ジェントルビーム
・オプション：リトラクタブル反射電子検出器(RBEI)、エネルギー分散形X線分析装置(EDS)
ナノバイオ分子合成・超解像解析評価システム (Super-resolution Analysis System)
- 設備ID
- NU-021
- 設置機関
- 名古屋大学
- 設備画像
- メーカー名
- ニコン・日本電子 (Nikon, JEOL)
- 型番
- N-SIM+N-STORM+A1R+A1RMP+JASM-6200 ClairScope
- 仕様・特徴
- N-SIM:XY分解能120 nm以下、Z分解能350 nm以下、画像取得時間0.6秒/枚以下、4色(405/488/561/640 nm)
N-STORM解像度:XY分解能20 nm以下、Z分解能50 nm以下、3色(405/457/561 nm)
A1R:シングルフォトン共焦点、励起レーザー(405 nm、457/488/514 nm、561 nm、647 nm)
シングルフォトン共焦点部:励起レーザー(405 nm、488 nm、561 nm、647 nm)
多光子励起顕微鏡部:IRパルスレーザー、700-1000 nm励起波長帯域
JASM-6200:大気圧下で走査電子顕微鏡観察可能、分解能8.0 nm、試料移動範囲±2.5 mm以上