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ナノ物性測定用プローブ顕微鏡システム (Scanning probe microscope for measuring nano-region material property)

設備ID
TT-019
設置機関
豊田工業大学
設備画像
ナノ物性測定用プローブ顕微鏡システム
メーカー名
ブルカー (Bruker)
型番
Multimode顕微鏡
仕様・特徴
・導電性(TUNA)
・表面電位、STM機能
・原子、分子分解能

低真空分析走査電子顕微鏡 (Low vacuum analysis scanning electron microscope)

設備ID
MS-202
設置機関
自然科学研究機構  分子科学研究所
設備画像
低真空分析走査電子顕微鏡
メーカー名
日立ハイテクノロジーズ (Hitachi High-Tech)
型番
SU6600
仕様・特徴
ショットキー形電子銃
空間分解能1.2nm(30kV)、3.0nm(30kV)
低真空機能(10~300Pa)
EDS(EDX)(BrukerAXS社製 FQ5060/XFlash6)

走査プローブ顕微鏡 (Scanning probe microscope)

設備ID
MS-204
設置機関
自然科学研究機構  分子科学研究所
設備画像
走査プローブ顕微鏡
メーカー名
Bruker (Bruker)
型番
Dimension XR Icon NanoEDimension XR Icon NanoEC
仕様・特徴
形状測定、機械特性測定、電気特性測定、電気化学
大気非暴露ボックス、環境制御ユニット(-35℃~250℃、湿度5%~50%)

SEM付集束イオンビーム装置 (Focused ion beam system with SEM)

設備ID
OS-102
設置機関
大阪大学
設備画像
SEM付集束イオンビーム装置
メーカー名
カールツァイス (Carl Zeiss)
型番
Nvision 40D with NPVE
仕様・特徴
【特徴】
30kVのGa+イオンによるFIB加工及び加工時のSEM観察が可能。FIBによる気相蒸着によりPtおよびSiO2による配線の修復が可能。
【仕様】
ステージサイズ:max 8 inch
Pt銃、SiO2銃装備
FE-SEMユニット, 加速電圧:30kV
検出器:InLens, SE, Esb
FIBユニット, 加速電圧:30kV
最小ビーム径:4nm

走査型プローブ顕微鏡 (Scanning Probe Microscope)

設備ID
OS-125
設置機関
大阪大学
設備画像
走査型プローブ顕微鏡
メーカー名
株式会社日立ハイテクサイエンス (Hitachi High-Tech Science Corporation)
型番
AFM5000/AFM5300E
仕様・特徴
【特徴】
AFM,c-AFM,STM,DFM,MFM,KFM,PRM,電流マッピング,SNDMなどが測定可能な走査型プローブ顕微鏡です。
温度制御、調湿制御機構を備えており、真空下での測定も可能です。
500mTの磁場が試料水平方向に印加可能です。
【仕様】
試料サイズ:15mmφ
温度制御:-120~300℃
調湿制御:30~70%
真空中測定:10E-4Paまで可能
磁場印加:試料水平方向に500mT

多機能分析走査電子顕微鏡 (Multi-functional analysis Scanning Electron Microsope (SEM))

設備ID
NR-201
設置機関
奈良先端科学技術大学院大学 (NAIST)
設備画像
多機能分析走査電子顕微鏡
メーカー名
日本電子 (JEOL)
型番
JSM-IT800
仕様・特徴
・加速電圧: 100 V 〜 30 kV
・分解能: 0.5 nm(2次電子像、加速電圧15 kV)
・EDS検出器搭載
・EBSD検出器搭載
・CL検出器搭載
・低真空機能搭載

超高分解能電界放出型電子顕微鏡 (Field-emission scanning electron microscope (FE-SEM))

設備ID
NR-205
設置機関
奈良先端科学技術大学院大学 (NAIST)
設備画像
超高分解能電界放出型電子顕微鏡
メーカー名
日立ハイテク (Hitachi High-Tech)
型番
SU9000
仕様・特徴
・加速電圧: 500 V 〜 30 kV
・分解能: 0.4 nm(2次電子像、加速電圧30 kV)
・EDX検出器搭載
・STEM検出器搭載

低真空分析走査電子顕微鏡 (Scanning Electron Microsope (SEM))

設備ID
NR-206
設置機関
奈良先端科学技術大学院大学 (NAIST)
設備画像
低真空分析走査電子顕微鏡
メーカー名
日立ハイテク (Hitachi High-Tech)
型番
SU6600
仕様・特徴
・加速電圧: 500 V 〜 30 kV
・分解能: 1.2 nm(2次電子像、加速電圧30 kV)
・EDS検出器搭載
・EBSD検出器搭載
・低真空機能搭載

EBSD解析装置 (EBSD analyzer)

設備ID
RO-522
設置機関
広島大学
設備画像
EBSD解析装置
メーカー名
日本電子 (JEOL Ltd.)
型番
JSM-7100F
仕様・特徴
【技術代行専用】
EBSD測定により試料結晶面方位、結晶粒マッピング等の結晶構造解析を行う。

原子間力顕微鏡 (AFM)

設備ID
RO-533
設置機関
広島大学
設備画像
原子間力顕微鏡
メーカー名
セイコーインスツルメンツ (Seiko Instruments Inc.)
型番
SPI3800
仕様・特徴
分解能:z:0.01nm, X、Y:0.1nm,
視野:最小5nm角、最大 20μm角、
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