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電界放出型走査電子顕微鏡 (Field-Emission Scanning Electron Microscope)

設備ID: BA-008

設置機関: 筑波大学

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メーカー名: 日立ハイテク (Hitachi High-Tech)

型番: SU-8020

仕様・特徴: 二次電子分解能；1.0nm（加速電圧15kV,WD=4mm） 1.3nm（照射電圧1kV,WD=1.5mm）
照射電圧；0.1～30kV
低倍率モード；20～2,000倍（写真倍率）
高倍率モード；100～800,000倍（写真倍率）
SE/BSE信号可変方式

電界放出形走査電子顕微鏡[S4800_FE-SEM] (Field Emission SEM〔S4800/FE-SEM, HITACHI〕)

設備ID: AT-004

設置機関: 産業技術総合研究所（AIST)

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メーカー名: 日立ハイテクノロジーズ (Hitachi High-Tech)

型番: S4800

仕様・特徴: ・型式:S-4800
・試料サイズ:15～150 mmφ
・電子銃:冷陰極電界放出型電子銃
・加速電圧:0.5～30 kV
・分解能:1.0 nm(加速電圧15 kV, WD = 4 mm)
・試料ステージ制御:5軸モーター制御
・可動範囲:X,Y:0～110 mm、Z:1.5～40 mm、R:360°、T:-5～70°
・検出器:2次電子検出器、エネルギー分散型X線検出器（EDX）

低真空走査電子顕微鏡 (Low Vacuum SEM (HITACHI))

設備ID: AT-005

設置機関: 産業技術総合研究所（AIST)

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メーカー名: 日立ハイテクノロジーズ (Hitachi High-Tech)

型番: S-3500N

仕様・特徴: ・型式:S-3500N（日立ハイテク）
・試料サイズ:15～150 mmφ
・電子銃:熱電子放出型Wヘアピンフィラメント
・加速電圧:0.3～30 kV
・分解能:高真空二次電子像:3.0 nm
・低真空反射電子像:5 nm
・低真空モードでの真空度設定:1～270 Pa
・試料ステージ:五軸モーター駆動
・可動範囲:100 mm×50 mm
・元素分析:エネルギー分散型X線検出器（EDX）

3次元電界放出形走査電子顕微鏡（エリオニクス） (3 Dimensional Field Emission SEM)

設備ID: AT-107

設置機関: 産業技術総合研究所（AIST)

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メーカー名: エリオニクス (ELIONIX)

型番: ERA-9200

仕様・特徴: ・型式:ERA-9200
・試料サイズ:4インチφ, 16mmt
・電子銃:ZrO/W熱電界放射型
・加速電圧:1～30 kV
・リタ―ディング電圧:3kV
・分解能:0.4nm以下（30kV）、0.5nm以下（15kV）、0.7nm以下（1kV）
・可動範囲:30×50mm（X-Y）、1～30mm（Z）、-5～45°（Tilt）
・検出器:2次電子検出器（４本）

超伝導蛍光X線検出器付走査型電子顕微鏡 (SC-SEM) (Scanning Electron Microscope with a Superconducting Tunnel Junction X-ray Detector (SC-SEM))

設備ID: AT-506

設置機関: 産業技術総合研究所（AIST)

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メーカー名: ・検出器：産総研自主開発・顕微鏡：JEOL (・Detector: AIST　Original ・SEM: JEOL)

型番: ・検出器：産総研自主開発・顕微鏡：JSM-IT800SHLs

仕様・特徴: 　高感度、高分解能の超伝導検出器を搭載した、蛍光X線検出器付走査型電子顕微鏡。
　電子線で試料上を走査する際に放出される蛍光X線を測定することにより、主に軽元素の分布状態を評価できる。半導体エネルギー分散型検出器、シンチレーション型反射電子検出器も搭載。試料を冷却しながらの計測も可能。大気非暴露搬送、装置内での昇華、割断、コーティングが可能。
・蛍光X線エネルギー範囲：
　40 eV-4 keV（超伝導）、200 eV- 20 keV（半導体）
・エネルギー分解能：
　～7 eV@400 eV X-ray（超伝導）、
　＜56 eV@C-Ka （半導体）
・計数率：200 kcps
・走査型電子顕微鏡：JEOL JSM-IT800SHLs
・加速器電圧範囲：10 V-30 kV
・最大サンプルサイズ：Φ100 ㎜、Φ10 ㎜（冷却時）
・2次電子最高空間分解能：0.6 nm程度@15 kV, 1.1 nm程度@1 kV
・試料最低冷却温度：－190℃以下
・機械式ヘリウム3冷凍機を用いて簡単に冷却でき、長時間の測定可能

電界放出型走査電子顕微鏡 (Field-Emission Scanning Electron Microscope)

設備ID: WS-011

設置機関: 早稲田大学

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メーカー名: 株式会社日立ハイテク (Hitachi High-Tech Corporation)

型番: S-4800

仕様・特徴: 試料サイズ最大20mm角
セミインレンズ方式による高分解能（～x600k）
EDAXによる元素分析

電界放出型走査電子顕微鏡 (Field-Emission Scanning Electron Microscope)

設備ID: WS-012

設置機関: 早稲田大学

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メーカー名: 株式会社日立ハイテク (Hitachi High-Tech Corporation)

型番: SU8240

仕様・特徴: 二次電子分解能
0.8nm （加速電圧15kV、WD＝4mm、倍率270kx）
1.1nm （照射電圧1kV、WD＝1.5mm、倍率200kx）
照射電圧 0.01～30kV
倍率 20～1,000,000倍
可動範囲:X 0～110mm,Y 0～80mm,R 360°
Z 1.5～40mm,T -5～70°
IM4000形イオンミリング装置付き（サンプルの断面ミリングと平面ミリング可能）
EDS System付き（元素分析可能）