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環境セル対応透過電子顕微鏡 (Transmission electron microscope for Environmental cell (E-TEM))

設備ID: HK-301

設置機関: 北海道大学

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メーカー名: 日本電子 (JEOL)

型番: JEM-2010

仕様・特徴: 加速電圧：200kV
分析機能：EDS
環境セル加熱ホルダー装備

収差補正走査型透過電子顕微鏡 (Cs-corrected scanning transmission electron microscope)

設備ID: HK-401

設置機関: 北海道大学

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メーカー名: 日本電子 (JEOL)

型番: JEM-ARM200F

仕様・特徴: 加速電圧：80kV,200kV
ColdFEG
EDS,EELS
大気非暴露・冷却試料ホルダー
遠隔観察

X線小角散乱装置（SAXS) (Small and wide angle X-ray scattering instrument (SAXS))

設備ID: CT-016

設置機関: 公立千歳科学技術大学

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メーカー名: リガク (Rigaku)

型番: Nano-Viewer

仕様・特徴: ・測定可能範囲：0.2~100 nm

全自動多目的X線回折装置 (SmartLab, X-ray diffractometer)

設備ID: YG-601

設置機関: 山形大学

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メーカー名: リガク (Rigaku)

型番: SmartLab

仕様・特徴: ・試料にＸ線を照射した際、Ｘ線が原子の周りにある電子によって散乱、干渉した結果起こる回折を解析。結晶構造にX線を照射すると格子面でX線が反射され、それぞれが干渉し合い、回折線を発生させ、検出
・対象試料：無機・有機物質の粉末、高分子材料、タンパク質、金属部品、有機・無機薄膜半導体、エピタキシャル膜、コロイド粒子など

X線非破壊検査装置 (TXScanner, Micro-focus X-ray CT scanner)

設備ID: YG-602

設置機関: 山形大学

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メーカー名: 東芝 I Tコントロールシステム (TOSHIBA IT & CONTROL SYSTEMS CORPORATION)

型番: TXS-31300FD

仕様・特徴: 高エネルギーから低エネルギーまでの全X線領域でコントラストが高く、ダイナミックレンジの広い透視画像とCT画像を得ることができる汎用性に優れたX線CTスキャナ。品質管理から精密解析まで様々な応用が可能

X線回折装置(XRD) (X-ray Diffractometer（XRD）)

設備ID: AT-070

設置機関: 産業技術総合研究所（AIST)

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メーカー名: リガク (Rigaku)

型番: Ultima_Ⅲ

仕様・特徴: ・型式:Ultima_III
・試料サイズ: 100mmφ×9mm
・試料ステージ:水平型(インプレーン測定機構付)
・傾斜多層膜放物面モノクロメータ付
・チャンネルカットモノクロメータ
・受光モノクロメータ
・ 6試料交換装置
・小角散乱光学系等の利用可
・試料形態:薄膜、粉
・ソフトウエア：定性分析、定量分析、反射率、極点、逆格子マップ、結晶子サイズ、結晶粒サイズ、結晶化度等

リアル表面プローブ顕微鏡(RSPM) (Real Surface Probe Microscope (RSPM) )

設備ID: AT-504

設置機関: 産業技術総合研究所（AIST)

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メーカー名: (1) RSPM1: 日本電子、(2) RSPM2: SII（現・日立ハイテクサイエンス） ((1) RSPM1: JEOL, (2) RSPM2: SII (Hitachi Hitech Scinece))

型番: (1) RSPM1:日本電子(JEOL)社製JSPM5400、(2) RSPM2:SIIナノテクノロジー（現・日立ハイテクサイエンス）社E-SWEEP/S-Image

仕様・特徴: (1) RSPM1

分光（赤外）原子間力顕微鏡、走査型トンネル顕微鏡
・型式: NEA SNOM
・設置室名: 2-1D棟125室
・測定機能: AM-AFM、コンタクトモード、高分解能赤外分光
・測定環境: 大気中
・試料サイズ:（10mm角）や厚さの制限有
・空間分解能<100nmのナノ赤外分光（Nano-FTIR）

(2) RSPM2
E-SWEEP/NEX(高速原子間力顕微鏡)
・測定機能: AM-AFM、コンタクトモード、STM、KFM、Conductive-AFM
・制御装置: 1台のNanonaviをS-ImageおよびE-SWEEPで切り替えて利用
・測定環境: 大気中、恒湿度雰囲気(20～70%)、液中、真空中(10E-5[Torr])
・温度範囲(E-SWEEP): -100 ℃ ～ 300 ℃(ヒータのみ、制御なし)
・試料サイズ: 最大15 mm角程度
・液中リアルタイム測定可能（毎秒10フレーム）
前処理装置等
・標準試料: 探針評価、スケール、段差等
・付帯設備
研磨機、プラズマクリーナ、白色干渉計、反射分光膜厚計、化学ドラフト、フーリエ赤外分光計（ATRのみ）、レーザードップラー干渉計（カンチレバーのばね定数校正）