共用設備検索

共用設備検索結果

フリーワード検索

200kV透過電子顕微鏡 (200kV transmission electron microscope)

設備ID
NM-505
設置機関
物質・材料研究機構 (NIMS)
設備画像
200kV透過電子顕微鏡
メーカー名
日本電子 (JEOL)
型番
JEM-2100
仕様・特徴
・熱電子銃
・加速電圧: 80, 100, 120, 160, 200 kV
・TEM, STEM, EDS, EELS, 電子線トモグラフィー

マイクロX線CT (Micro X-ray CT)

設備ID
TU-313
設置機関
東北大学
設備画像
マイクロX線CT
メーカー名
コムスキャンテクノ (Comscantecno)
型番
ScanXmate D160TS110
仕様・特徴
サンプルサイズ:小片~6インチ
小さいサンプルの方が拡大率が大きくなり分解能向上

XRD (XRD)

設備ID
TU-323
設置機関
東北大学
設備画像
XRD
メーカー名
ブルカー・エイエックスエス (Bruker)
型番
D8 DISCOVER
仕様・特徴
サンプルサイズ:小片~6インチ

高出力全自動水平型多目的X線回折装置 (Intelligent X-ray Diffraction System )

設備ID
TU-515
設置機関
東北大学
設備画像
高出力全自動水平型多目的X線回折装置
メーカー名
株式会社リガク (Rigaku Corporation)
型番
SmartLab 9SW
仕様・特徴
・最大出力 9 kW
・θ-θ型試料水平高精度ゴニオメータ
(-3°~160°、ゴニオ半径300 mm)
・インプレーンアーム 2θχ(-3°~120°)
・DSCユニット(室温~350 ℃)
・Cuターゲット

無機微小結晶構造解析装置 (X-ray Single Crystal Diffractometer)

設備ID
UT-201
設置機関
東京大学
設備画像
無機微小結晶構造解析装置
メーカー名
リガク㈱ (Rigaku Co.)
型番
VariMax Dual
仕様・特徴
□ 主な特長
・ これまで放射光でないと回折強度測定が困難であった数十μm角以下の低分子およびタンパ質結晶や一片が10μm以下の結晶などの微小結晶の構造解析が可能
・ 高輝度X線源と湾曲型人工多層膜ミラーの組み合わせにより、結晶位置に高輝度X線を導くことが可能
・ Mo/Cu両方の線源を使用可能であり無機・有機化合物の構造解析を線源に依存することなく測定可能
□ 主な仕様
・ X線源:1.2kW発生装置 / 実効輝度31kW/mm2/ Mo・Cuターゲット
・ X線光学素子(VariMax Dual):湾曲型人工多層膜ミラー Mo・Cu両波長に対応した光学素子
・ 検出器:高感度・広ダイナミックレンジ2次元検出器により迅速な測定が可能
・シャッターを開放のまま、ゴニオメーター連続駆動をしてのシームレス測定が可能
・結晶を-180℃までの冷却が可能

高輝度In-plane型X線回折装置 (XRD)

設備ID
UT-202
設置機関
東京大学
設備画像
高輝度In-plane型X線回折装置
メーカー名
㈱リガク (Rigaku Co.)
型番
SmartLab(9kW)
仕様・特徴
□ 主な特長
・ 高輝度X線源 及び In-Planeアームを搭載した試料水平配置高精度ゴニオメータを使用したX線回折装置。
・ 粉末試料測定に適した集中法光学系,薄膜試料の測定に適している多層膜ミラーを用いた平行ビーム光学系によるX線反射率測定,逆格子マップ測定,ロッキングカーブ測定などを簡単なユニット交換で組み替えて利用することが可能。
・ インプレーンアームの搭載により、極薄膜の評価や完全極点測定が可能。
□ 主な仕様
・ X線源:9kW回転対陰極X線発生装置A/Cuターゲット
・ 光学系:集中法・多層膜平行ビーム法・薄膜高分解平行ビーム法・インプレーン光学系
・ 検出器:HyPix-3000

粉末X線回折装置 (XRD)

設備ID
UT-203
設置機関
東京大学
設備画像
粉末X線回折装置
メーカー名
㈱リガク (Rigaku Co.)
型番
SmartLab (3kW)
仕様・特徴
□ 主な特長
・ 粉末試料測定に適した集中法光学系,薄膜試料の測定に適している多層膜ミラーを用いた平行ビーム光学系。
・ In-Planeアームを搭載した試料水平配置高精度ゴニオメータを使用したX線回折装置。
・ 900℃までの高温測定用アタッチメントも用意している。
□ 主な仕様
・ X線源:3 kW封入型X線管/Cuターゲット
・ 光学系:集中法・多層膜平行ビーム法・インプレーン光学系
・ 検出器:シンチレーション検出器:1次元半導体検出器
・SmartLab用AntonPaarDHS900アタッチメント

X線粉末回折装置 (X-ray Diffractometer (Powder Diffraction))

設備ID
NU-002
設置機関
名古屋大学
設備画像
X線粉末回折装置
メーカー名
リガク社 (Rigaku)
型番
Smart Lab 3K1d/2dDSC
仕様・特徴
・最大出力:9kW
・検出器:シンチレーションカウンター、半導体1次元検出器、二次元検出器
・Cuターゲット
・試料水平配置

微小単結晶X線構造解析装置 (Single crystal X-ray diffractometer)

設備ID
NU-019
設置機関
名古屋大学
設備画像
微小単結晶X線構造解析装置
メーカー名
Rigaku(株) (Rigaku)
型番
VariMax
仕様・特徴
・分解能可変X線集光ミラー搭載
・輝度:31kW/mm2
・電動カメラ長可変機構(25 - 110mm)
・CCD検出器(70mm x 70mm)
・Mo線源
・試料吹きつけ冷却装置(-180℃~室温)

X線回折装置 (Intelligent X-Ray Diffractometer)

設備ID
KT-310
設置機関
京都大学
設備画像
X線回折装置
メーカー名
(株)リガク (Rigaku Corporation)
型番
SmartLab
仕様・特徴
・試料水平保持方式
薄膜試料に歪み等を与えることなく取り付けることができ、最大サイズ8インチΦの試料の測定、および4インチΦの場合はエリアマップ測定が可能
・多彩な薄膜評価
組成分析、方位・配向分析、結晶性評価、格子緩和評価、格子歪・残留応力評価、膜厚分析、界面ラフネス分析、密度分析、面内均一性評価など
・粉末解析に
定性分析、定量分析、結晶化度評価、結晶子サイズ/格子歪評価、格子定数の精密化、Rietveld解析など
・試料サイズ 最大φ8インチ
・組成分析、方位・配向分析、結晶性評価、格子緩和評価、格子歪・残留応力評価等の測定可能
スマートフォン用ページで見る