共用設備検索

共用設備検索結果

フリーワード検索

温度可変型粉末X線回折装置_Cu1_NTS (pXRD_LT/HT_Cu1_R_NTS)

設備ID
NM-210
設置機関
物質・材料研究機構 (NIMS)
設備画像
温度可変型粉末X線回折装置_Cu1_NTS
メーカー名
リガク (Rigaku)
型番
SmartLab 9 kW with cryostat/furnace
仕様・特徴
・高輝度X線発生装置:最大出力9 kW
・X線波長:Cu Kα1
・X線検出器:高性能1次元型半導体検出器(D/teX ULTRA 250)
・試料部:試料水平型
・低温装置:2.6 K~室温(真空)
・高温装置:室温~1500℃(空気、He、N2、O2、Ar、真空)

2波長Pilatus低温単結晶X線回折装置_NSC (sXRD_R_DW_LT_Pilatus_NSC)

設備ID
NM-209
設置機関
物質・材料研究機構 (NIMS)
設備画像
2波長Pilatus低温単結晶X線回折装置_NSC
メーカー名
リガク (Rigaku)
型番
VariMax DW AFC11 with Pilatus
仕様・特徴
・X線波長:MoもしくはCu(自動切り替え)
・高輝度X線源:試料部輝度 31 kW/mm2
・X線検出器:高感度・低ノイズ型半導体検出器PILATUS200K
・角度分解能可変:カメラ長 40~115 mm
・30 K迄の極低温でのデータ収集が可能

単結晶X線構造解析装置 (Single Crystal X-ray Diffractometer)

設備ID
TU-613
設置機関
東北大学
設備画像
単結晶X線構造解析装置
メーカー名
リガク (Rigaku)
型番
XtaLAB Synergy
仕様・特徴
・型式:回転対陰極方式
・最大定格出力:1.2 kW
・ターゲット:2色管球 Cu/Mo
・X線光学系:集光型人工多層膜 集光ミラー
・ゴニオメーター:χ軸;-179°~+179°、2θ軸測角範囲;-100°~+120°
・検出器:HyPiX-6000HE

X線回折装置(XRD) (X-ray diffractometer (XRD))

設備ID
CT-033
設置機関
公立千歳科学技術大学
設備画像
X線回折装置(XRD)
メーカー名
ブルカー (Bruker)
型番
D8 DISCOVER
仕様・特徴
・1次元粉末X線測定モジュール
・2次元広角/小角X線測定モジュール
・超小角(USAXS)測定モジュール
・GI-WAXD/SAXS測定モジュール
・高温試料チャンバー(室温~1100℃)

多環境場対応型X線単結晶構造解析装置 (Single Crystal X-ray Diffractometer for Multiple Environments)

設備ID
NM-201
設置機関
物質・材料研究機構 (NIMS)
設備画像
多環境場対応型X線単結晶構造解析装置
メーカー名
リガク (Rigaku)
型番
XtaLAB Synergy-R/DW Custom
仕様・特徴
1. 単結晶X線構造解析装置本体(Mo KαおよびCu Kα線源、定格最大出力2.9 kW)
2. ガス吹付型試料冷却装置(30 ~ 300 K)
3. ガス吹付型試料加熱装置(300 ~ 1073 K)
4. 元素分析アタッチメント(P以上)
5. 遠隔操作(除く試料交換&センターリング)

多目的X線回折装置_Cu_SSL (pXRD_ Multi_Cu_R_SSL)

設備ID
NM-204
設置機関
物質・材料研究機構 (NIMS)
設備画像
多目的X線回折装置_Cu_SSL
メーカー名
(株)リガク (Rigaku Corporation)
型番
SmartLab 9 kW
仕様・特徴
・温度可変(1773 K ~ RT、873 K ~ 100 K、RT ~ 2.6 K )
・雰囲気制御可能(Air、N2、O2、Ar、He、TMPレベル真空)
・引っ張り試験機(最大:5 N)
・α-β-γ軸付きゴニオメーター

実動環境対応物理分析電子顕微鏡 (Real working environment physical characterization TEM)

設備ID
NM-501
設置機関
物質・材料研究機構 (NIMS)
設備画像
実動環境対応物理分析電子顕微鏡
メーカー名
日本電子 (JEOL)
型番
JEM-ARM200F-G
仕様・特徴
・照射系レンズ収差補正、結像系レンズ収差補正
・ショットキーFEG
・加速電圧: 80, 120, 200 kV
・TEM, STEM, EDS, EELS, 電子線ホ口グラフイー, 電子線トモグラフィー

実動環境対応電子線ホログラフィー電子顕微鏡 (Real working environmental electron holography microscope)

設備ID
NM-502
設置機関
物質・材料研究機構 (NIMS)
設備画像
実動環境対応電子線ホログラフィー電子顕微鏡
メーカー名
日本電子 (JEOL)
型番
JEM-ARM200F-B
仕様・特徴
・照射系レンズ収差補正、結像系レンズ収差補正
・Cold FEG
・加速電圧: 60, 80, 200 kV
・TEM, STEM, EDS, EELS, 電子線ホ口グラフイー, 電子線トモグラフィー

200kV電界放出形透過電子顕微鏡(JEM-2100F1) (200kV field emission transmission electron microscope)

設備ID
NM-503
設置機関
物質・材料研究機構 (NIMS)
設備画像
200kV電界放出形透過電子顕微鏡(JEM-2100F1)
メーカー名
日本電子 (JEOL)
型番
JEM-2100F1
仕様・特徴
・ショットキーFEG
・加速電圧: 100, 120, 200 kV
・TEM, STEM, EDS, EELS, 電子線トモグラフィー

200kV電界放出形透過電子顕微鏡(JEM-2100F2) (200kV field emission transmission electron microscope)

設備ID
NM-504
設置機関
物質・材料研究機構 (NIMS)
設備画像
200kV電界放出形透過電子顕微鏡(JEM-2100F2)
メーカー名
日本電子 (JEOL)
型番
JEM-2100F2
仕様・特徴
・ショットキーFEG
・加速電圧: 100, 120, 200 kV
・TEM, STEM, EDS, EELS, 電子線トモグラフィー
スマートフォン用ページで見る