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吸収分光光度計 (UV-VIS Spectrophotometer)
- 設備ID
- NU-012
- 設置機関
- 名古屋大学
- 設備画像
![吸収分光光度計](data/facility_item/1651469381_14.jpg)
- メーカー名
- Shimadzu社 (Shimadzu)
- 型番
- UV-1800
- 仕様・特徴
- ・190 nm~1100 nmまでの分光分析が可能
・1 cmセル
・吸光度:-4~4 Absで測定可能
X線光電子分光装置 (X-ray photoemission spectrometer)
- 設備ID
- NU-207
- 設置機関
- 名古屋大学
- 設備画像
![X線光電子分光装置](data/facility_item/NU-207.jpg)
- メーカー名
- VG (VG)
- 型番
- ESCALab250
- 仕様・特徴
- ・Mg/Alツインアノード
・AlモノクロX線源
・Arスパッタ銃
・角度分解測定用マニュピレータ
・最大試料サイズ:20mmφ
蛍光りん光分光光度計 (Fluorescence spectroscopy)
- 設備ID
- NU-233
- 設置機関
- 名古屋大学
- 設備画像
![蛍光りん光分光光度計](data/facility_item/1651470246_14.jpg)
- メーカー名
- 堀場製作所 (HORIBA)
- 型番
- Fluoromax-4P
- 仕様・特徴
- ・光源:オゾンレスキセノンランプ,燐光用フラッシュランプ
・試料最大サイズ:~10mm角程度
・燐光寿命計測範囲:10μs以上
・発光波長計測範囲:290-970nm
ラジカル計測付多目的プラズマプロセス装置 (Multipurpose plasma process system with radical monitor)
- 設備ID
- NU-237
- 設置機関
- 名古屋大学
- 設備画像
![ラジカル計測付多目的プラズマプロセス装置](data/facility_item/1651470348_14.jpg)
- メーカー名
- 自作 (Lab made)
- 型番
- 仕様・特徴
- ・プラズマ処理の際に生成する温度,ラジカル密度,励起種,表面分析をIn-situで行う.
・プロセスガス:H2,N2,Ar,O2,He
・基板温度:-10℃-60℃
・サンプル:4インチウエハ
表面解析プラズマビーム装置 (Plasma beam system with surface analysis)
- 設備ID
- NU-239
- 設置機関
- 名古屋大学
- 設備画像
![表面解析プラズマビーム装置](data/facility_item/1651470404_14.jpg)
- メーカー名
- 自作 (Lab made)
- 型番
- 仕様・特徴
- ・プラズマビームを材料表面に照射後のin-situ XPS評価により,表面-プラズマ間の反応の解析が可能.
・使用ガス:HBr,Ar,CF4,C4F8,Cl2,H2,N2,O2
in-situプラズマ照射表面分析装置 (In-situ plasma exposure and analysis system)
- 設備ID
- NU-240
- 設置機関
- 名古屋大学
- 設備画像
![in-situプラズマ照射表面分析装置](data/facility_item/1651470429_14.jpg)
- メーカー名
- 自作 (Lab made)
- 型番
- 仕様・特徴
- ・プラズマ照射後の表面のin-situ XPS,FT-IR,STM分析が可能.
・プロセスガス:H2,N2,O2,Ar,He,SiH4,SF6,CF4
真空紫外吸収分光計 (Ultraviolet absorption spectroscopy )
- 設備ID
- NU-243
- 設置機関
- 名古屋大学
- 設備画像
![真空紫外吸収分光計](data/facility_item/1651470512_14.jpg)
- メーカー名
- NUシステム (NU System)
- 型番
- 特注
- 仕様・特徴
- ・プラズマ診断用
・真空チャンバー壁面に設置
・H,O,N,Cラジカル密度計測可
フーリエ変換赤外分光分析 (Fourier transform infrared spectroscopy)
- 設備ID
- NU-258
- 設置機関
- 名古屋大学
- 設備画像
![フーリエ変換赤外分光分析](data/facility_item/1651471226_14.jpg)
- メーカー名
- 日本分光 (JASCO)
- 型番
- FT/IR-615V
- 仕様・特徴
- ・測定波数範囲: 7800~350cm-1
・透過および全反射測定対応
・干渉計、試料室、検出器部真空引き可能
ICP質量分析装置 (Inductively Coupled Plasma Mass Spectrometer)
- 設備ID
- KT-112
- 設置機関
- 京都大学
- 設備画像
![ICP質量分析装置](data/facility_item/KT-112.jpg)
- メーカー名
- アジレント・テクノロジー(株) (Agilent Technologies, Inc.)
- 型番
- Agilent7700s
- 仕様・特徴
- Arプラズマでイオン化させたサンプルを四重極質量分析計で測定することで高感度元素分析を実現。
・感度(Mcps/ppm):50@Li(7)、160@Y(89)、80@Tl(205)
・半導体アプリケーション専用設計
電子分光型超高圧分析電子顕微鏡 (1300 kVHigh Voltage Electron Microscope )
- 設備ID
- KU-001
- 設置機関
- 九州大学
- 設備画像
![電子分光型超高圧分析電子顕微鏡](data/facility_item/KU-001.jpg)
- メーカー名
- 日本電子 (JEOL)
- 型番
- JEM-1300NEF
- 仕様・特徴
- オメガ型エネルギーフィルター搭載の超高圧電顕、最高加速電圧1300kV、電子線トモグラフィ、レーザーパルス光照射、その場観察、冷却・加熱引張試験