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誘導結合プラズマ発光分析装置群 (Inductively Coupled Plasma Optical Emission Spectrometers / Inductively Coupled Plasma Mass Spectrometers)
- 設備ID
- NM-203
- 設置機関
- 物質・材料研究機構 (NIMS)
- 設備画像
- メーカー名
- 1-3, 6. アジレント・テクノロジー 4. 日立ハイテクサイエンス 5. サーモフィッシャーサイエンティフィック (1-3, 6. Agilent Technology 4. Hitachi High-Tech Science Corporation 5. Thermo Fisher Scientific K.K.)
- 型番
- 1. 720 ICP-OES 2. Agilent5800 3. Agilent7850 4. SPS3520DD-UV 5. Element XR 6. Agilent5800
- 仕様・特徴
- 1,2,6．多波長同時測定による高速測定（世界最速）/低濃度溶液から高濃度溶液を希釈なし測定
2,6共通．測光方向を軸方法及び横方向に切り替えて測定可能
3. 高速双極線型四重極分析/スペクトル干渉除去
4. 高スペクトル分解能逐次測定/低濃度溶液から高濃度溶液を測定/Cl,Br測定
3,5 共通 元素の検出下限濃度bbtレベル以下
5. 高質量分解能二重収束型質量分析/溶液試料中の極微量元素測定(Li～U)
酸素窒素水素分析装置、炭素硫黄分析装置 (Oxygen/Nitrogen/Hydrogen Analyzer Carbon/Sulfur Analyzer)
- 設備ID
- NM-206
- 設置機関
- 物質・材料研究機構 (NIMS)
- 設備画像
- メーカー名
- LECOジャパン合同会社 (LECO JAPAN CORPORATION)
- 型番
- ONH836CS844
- 仕様・特徴
- 酸素･窒素・水素解析部はインパルス加熱/赤外線検出方式及び熱伝導度検出方式である。
分析範囲：［酸素］10 ppm～3％,
［窒素］10 ppm～3％(試料重量1g時）
［水素］10 ppm～2500ppm(試料重量1g時)
炭素･硫黄解析部は高周波加熱炉/赤外線検出方式である。
分析範囲：［炭素］10 ppm～6％,
［硫黄］10 ppm～6％
(試料重量1g時）
走査型オージェ電子分光分析装置 (Scanning Auger Electron Microprobe (CHA Type AES))
- 設備ID
- NM-208
- 設置機関
- 物質・材料研究機構 (NIMS)
- 設備画像
- メーカー名
- 日本電子 (JEOL)
- 型番
- JAMP-9500F
- 仕様・特徴
- ・ショットキー電界放射電子銃
・空間分解能：<8 nm
・加速電圧：0.5～30 kV
・照射電流：0.1～100 nA
・測定元素：Li～U
・最大試料サイズ：14 x 14 x 5 mm
・半球型アナライザー搭載
多機能走査型X線光電子分光分析装置(XPS) (rX-ray Photoelectron Spectroscopy)
- 設備ID
- UT-301
- 設置機関
- 東京大学
- 設備画像
- メーカー名
- アルバックファイ㈱ (ULVAC-PHI, Inc. )
- 型番
- PHI 5000 VersaProbe
- 仕様・特徴
- □ 主な特長
・ 走査型マイクロフォーカスＸ線源による微小領域分析（最小分析領域10μm）
・ ＳＸＩ(Scanning X-ray Image)により、正確・迅速に微小な分析位置を特定
・ 低エネルギー電子とイオンの同時照射により、絶縁物試料を容易に帯電中和
・ 5軸（X、Y、Z、Tilt、Rotation）モータ駆動による多点分析
□ 主な仕様
・ 最小ビーム径：10μｍ以下
・ 最高エネルギー分解能：0.5eV以下(Ag3d 5/2)
・ 最大感度：1,000,000cps(Ag3d 5/2の半値幅1.0eVのとき)
・ 到達圧力：6.7×10-8Pa以下
オージェ分光分析装置 (Auger Electron Spectroscopy)
- 設備ID
- UT-854
- 設置機関
- 東京大学
- 設備画像
- メーカー名
- アルバック (ULVAC)
- 型番
- PHI680
- 仕様・特徴
- 元素分析装置。 対象の極表面から出て来るオージェ電子のエネルギー分光計測によって元素を調べることが出来る。
アルゴンミリングと併用でき、深さ方向のプロファイルを測定することができる。
電子顕微鏡 (Scanning Electron Microscope (SEM))
- 設備ID
- UT-858
- 設置機関
- 東京大学
- 設備画像
- メーカー名
- 日本電子㈱ (JEOL)
- 型番
- JSM-6610LV Oxford X-max50 + Energy 250
- 仕様・特徴
- エネルギー分散型X線分析装置(元素分析装置)付きの走査電子顕微鏡です。
全自動元素分析装置 (CHNS/O Elemental Analyzer)
- 設備ID
- NU-001
- 設置機関
- 名古屋大学
- 設備画像
- メーカー名
- Perkin Elmer社 (PerkinElmer)
- 型番
- 2400Ⅱ CHNS/O
- 仕様・特徴
- ・サンプル量分析範囲 ： ～500 mg（固体、液体）＊目的元素含有量に依存
・C(0.001～3.6 mg）、H（0.001～1.0 mg）N(0.001～6.0 mg）、S（0.001～2.0 mg）
・測定方式： 静的燃焼、フロンタルクロマトグラフィー、TCD検出
蛍光X線分析装置 (X-ray Fluorescence Analyzer)
- 設備ID
- NU-003
- 設置機関
- 名古屋大学
- 設備画像
- メーカー名
- リガク社 (Rigaku)
- 型番
- NEX CG(EXDL 300)
- 仕様・特徴
- ・・エネルギー分散型 ・最大出力：50W
・二次ターゲット：Cu、Mo、Al、RX-9、Si
・検出器：Silicon Drift Detector ・試料サイズ：φ20
キラリティー分光装置群 (Circular Dichroism Spectrometer)
- 設備ID
- NU-006
- 設置機関
- 名古屋大学
- 設備画像
- メーカー名
- JASCO社 (JASCO)
- 型番
- ECD J-702YS VCD FVS-6000 DRCD PCD-466
- 仕様・特徴
- ECD J-702Y（電子円二色性）
器：ヘッドオン型光電子倍増管
・測定波長範囲：163～900nm（標準検出器）
・CD分解能：0.0005mdeg（±10mdeg）, 0.01mdeg（±200mdeg）, 0.1mdeg（±2000mdeg）
・ペルチェ式温度コントローラ装備
・クライオスタット装備
VCD FVS-6000（振動円二色性）
・測定波数範囲：3200～850 cm-1 (PV-MCT)
・測定波数範囲：4000～2000 cm-1 (InSb)
・分解：0.5, 1, 2, 4, 8, 16cm-1
・光学系：シングルビーム
・干渉計：28°入射マイケルソン干渉計
・光源：高輝度セラミック光源
・検出器：PV-MCT, InSb
DRCD PCD-466（拡散反射円二色性分光装置）
・光源：450W Xeランプ 水冷方式
・検出器：ヘッドオン型光電子倍増管・測定波長範囲：163～900nm（標準検出器）
・CD分解能：0.0005mdeg（±10mdeg）, 0.01mdeg（±200mdeg）, 0.1mdeg（±2000mdeg）
蛍光分光光度計 (Fluorescence Spectrometer)
- 設備ID
- NU-011
- 設置機関
- 名古屋大学
- 設備画像
- メーカー名
- JASCO社 (JASCO)
- 型番
- FP-6500
- 仕様・特徴
- ・計測範囲：220 nm～750 nm
・10mmセル，ミクロセル使用可
・分解能：1 nm（励起・蛍光測定）
・ミクロセルホルダー装備 ・ETC-273型水冷ペルチェ式恒温セルホルダ装備