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表面化学実験ステーション (Surface chemistry experimental apparatus)
- 設備ID
- AE-010
- 設置機関
- 日本原子力研究開発機構（JAEA）
- 設備画像
- メーカー名
- オミクロン (Scienta Omicron, Inc.)
- 型番
- Hipp-3
- 仕様・特徴
- "表面界面の電子状態の精密分析や時分割観察が可能
・高輝度・高エネルギー分解能高輝度軟X線放射光(400～1700eV)
・複合表面分析（LEED、Arスパッター、SPM、蒸着（実績：Hf、Ge、Cs、Auなど）
・超高真空(2×10-8Pa)～ガス雰囲気(10-3Pa)
室温～1150℃加熱中の光電子分光観察
・材料プロセスの時分割観察、超音速分子線を使った反応ダイナミクス
・測定試料：半導体（Si、Ge、SiC、GaN etc）、金属（Cu、Ni、各種合金）、グラフェン等の新材料、ナノ粒子、機能物質など。単結晶、多結晶、アモルファス、薄膜等の固体試料
・導入ガス：酸素、水素、水、ギ酸、一酸化窒素、メタン、エタン、塩化メチル、NO2、COなど"
CCDマルチICP発光分光分析装置 (ICP-OES Analyzer SPECTRO ARCOS)
- 設備ID
- KU-518
- 設置機関
- 九州大学
- 設備画像
- メーカー名
- SPECTRO (SPECTRO)
- 型番
- ARCOS EOP 130
- 仕様・特徴
- タイプ 多元素同時（マルチ）：ポリクロメーター
多元素同時（マルチ）：ポリクロメーター
マウント方式 トリプル・パッシェンルンゲ
波長範囲 130～770nm
UVシステム
（200nm以下の測定システム） UV－PLUS（連続ガスパージ不要）
クリーンカートリッジ交換：2年に1回
焦点距離 750mm
回折格子 3,600本/mm 2式 1,800本/mm 1式
次光 1次光（全波長範囲）
検出器 リニアCCDアレイ
硬X線光電子分光装置 (Hard X-ray photoelectron spectrometer)
- 設備ID
- AE-008
- 設置機関
- 日本原子力研究開発機構（JAEA）
- 設備画像
- メーカー名
- シエンタオミクロン社 (Scienta Omicron, Inc.)
- 型番
- 光電子アナライザー: EW4000-１０keV
- 仕様・特徴
- 硬Ｘ線を励起光として用いることで、バルク敏感な電子状態の観測ができる。
・励起光エネルギー：6, 8, 10keV選択可能
・KBミラーによる数十μm程度の空間分解能
・試料温度：RT-900K
・中和銃による絶縁物測定
ラマン顕微鏡 (Raman microscope)
- 設備ID
- NM-003
- 設置機関
- 物質・材料研究機構 (NIMS)
- 設備画像
- メーカー名
- レニショー (Renishaw)
- 型番
- inVia Reflex
- 仕様・特徴
- ・ラインレーザー照射による高速ラマンイメージング。
・繋ぎ目のない連続した広い波数範囲のスペクトル測定。
・共焦点機構による高い空間分解能。
・レーザー波長：532nm及び785nm
・波数分解能：0.3cm-1
・空間分解能：水平0.25µm、垂直1µm
・対物レンズ：5倍、20倍、50倍、63倍(水浸)、100倍
・温度制御：-196～600℃
プレートリーダー (Plate reader)
- 設備ID
- NM-008
- 設置機関
- 物質・材料研究機構 (NIMS)
- 設備画像
- メーカー名
- パーキンエルマー (PerkinElmer)
- 型番
- EnSight
- 仕様・特徴
- ・モノクロメーターによる任意波長の測定が可能。
・多様な測定モード（吸光/蛍光/発光/時間分解蛍光）。
・温度調節機能やプレート撹拌機能を搭載。
・光源：UVキセノンフラッシュランプ
・検出器(吸光)：フォトダイオード(230-1000nm)
・検出器(蛍光)：光電子増倍管(230-850nm)
・波長選択：モノクロメーター
・プレートフォーマット：6ウェル、12ウェル、24ウェル、48ウェル、96ウェル、384ウェル
分光光度計 (Spectrophotometer)
- 設備ID
- NM-009
- 設置機関
- 物質・材料研究機構 (NIMS)
- 設備画像
- メーカー名
- 日立ハイテク (Hitachi High-Tech)
- 型番
- U-2900
- 仕様・特徴
- ・光学系：ダブルビーム
・波長範囲：190～1100nm
・スペクトルバンド幅：1.5nm
分光蛍光光度計 (Fluorescence spectrophotometer)
- 設備ID
- NM-010
- 設置機関
- 物質・材料研究機構 (NIMS)
- 設備画像
- メーカー名
- 日立ハイテク (Hitachi High-Tech)
- 型番
- F-7000
- 仕様・特徴
- ・感度：水のラマン光S/N800以上(RMS)、S/N250以上(Peak to peak)
・光源：150W Xeランプ
・測定波長範囲：200～750nm
・波長走査速度：30～60,000nm/min
フーリエ変換赤外分光光度計 (FT-IR)
- 設備ID
- NM-011
- 設置機関
- 物質・材料研究機構 (NIMS)
- 設備画像
- メーカー名
- 島津製作所 (Shimadzu)
- 型番
- IRTracer-100
- 仕様・特徴
- ・光源：高輝度セラミックス光源
・検出器：温調付きDLATGS、液体窒素冷却型MCT
・スペクトル範囲：7,800～350cm-1
・分解能：最大0.25cm-1
・SN比 最大60000:1
・測定用付属品：拡散反射、多重反射ATR、一回反射ATR
円二色性分散計 (Circular dichroism (CD))
- 設備ID
- NM-012
- 設置機関
- 物質・材料研究機構 (NIMS)
- 設備画像
- メーカー名
- 日本分光 (JASCO)
- 型番
- J-725
- 仕様・特徴
- ・光源：450Wキセノンランプ
・測定波長範囲：165～1100nm
・測定モード：スペクトル測定、時間変化測定
・スキャン方式：連続スキャン、ステップスキャン
・測定レンジ：0～5Abs
・試料室：恒温水循環により調温
硬X線光電子分光分析装置（HAX-PES/XPS） (HAX-PES/XPS)
- 設備ID
- NM-202
- 設置機関
- 物質・材料研究機構 (NIMS)
- 設備画像
- メーカー名
- アルバック・ファイ(株) (ULVAC-PHI)
- 型番
- Quantes
- 仕様・特徴
- ・軟 X 線 (Al Kα) と硬 X 線 (Cr Kα) の２つの X 線源を有し、前者で試料最表面、後者で試料内部・界面の電子状態の観測が可能。
・電圧印可下での電子状態変化の観測が可能。
・温度制御範囲：90～870 K。