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微小部蛍光X線分析装置(ORBIS PC) (Micro Energy Dispersive X-ray Fluorescence Spectrometer(Micro-EDXRF))

設備ID
NM-228
設置機関
物質・材料研究機構 (NIMS)
設備画像
微小部蛍光X線分析装置(ORBIS PC)
メーカー名
アメテック株式会社 (AMETEK, Inc.)
型番
ORBIS PC
仕様・特徴
1.X線源:マイクロフォーカス型Rh管球
2.X線出力:電圧~50 kV、電流~1 mA
3.X線集光部:30 μm径ポリキャピラリー
4.X線検出器:液体窒素レス型SSD検出器
5.測定可能元素種:Na~U3. 大型試料(最大サイズ:270 × 270 × 100 mm
6.デュアルCCD(10倍、75倍、3倍ズーム)

蛍光X線分析装置 (X-ray Fluorescence Analyzer)

設備ID
NU-003
設置機関
名古屋大学
設備画像
蛍光X線分析装置
メーカー名
リガク社 (Rigaku)
型番
NEX CG(EXDL 300)
仕様・特徴
・・エネルギー分散型 ・最大出力:50W
・二次ターゲット:Cu、Mo、Al、RX-9、Si
・検出器:Silicon Drift Detector ・試料サイズ:φ20

走査電子顕微鏡装置群 (Scanning electron microscope system)

設備ID
KU-511
設置機関
九州大学
設備画像
走査電子顕微鏡装置群
メーカー名
日立ハイテクノロジーズキーエンス (Hitachi High-TechKEYENCE)
型番
SU9000、VE-8800
仕様・特徴
【超高分解能走査電子顕微鏡装置:SU9000】
・SEM(空間分解能0.4nm)とSTEM(空間分解能0.34nm)の高分解能同視野観察
・30kV以下の低加速観察
・コールドFE電子銃
・EDSによる高解像度元素マッピング
・含水サンプルの凍結観察個体表面における原子の分布を高分解能マッッピング
【3次元SEM画像測定解析システムVE-8800 KEYENCE】
・加速電圧0.5-20kV
・さまざまな有機/無機/複合材料表面構造解析低加速電圧観察可能(0.5 kV)
・非導電性試料でも非蒸着で観察可能

微小部蛍光X線分析装置 (Microscopic X-Ray Fluorescent Analyzer(XRF))

設備ID
AT-072
設置機関
産業技術総合研究所(AIST)
設備画像
微小部蛍光X線分析装置
メーカー名
日立ハイテクサイエンス (Hitachi High-Tech)
型番
SEA_5210A
仕様・特徴
・型式:SEA_5210A
・試料サイズ: 80mm, 35mmt(上面照射方式)
・分析元素:Na~U
・試料形態:固形、薄膜(液及び粉は要許可)
・コリメータ:0.1, 1, 2.5mmφ
・雰囲気:大気、真空
・ソフトウエア:定性分析、定量分析(FP法、検量線法)、薄膜分析(膜厚、組成)、元素マッピング

超伝導蛍光X線検出器付走査型電子顕微鏡 (SC-SEM)  (Scanning Electron Microscope with a Superconducting Tunnel Junction X-ray Detector (SC-SEM))

設備ID
AT-506
設置機関
産業技術総合研究所(AIST)
設備画像
超伝導蛍光X線検出器付走査型電子顕微鏡 (SC-SEM)
メーカー名
・検出器:産総研自主開発 ・顕微鏡:JEOL (・Detector: AIST Original ・SEM: JEOL)
型番
・検出器:産総研自主開発 ・顕微鏡:JSM-IT800SHLs
仕様・特徴
 高感度、高分解能の超伝導検出器を搭載した、蛍光X線検出器付走査型電子顕微鏡。
 電子線で試料上を走査する際に放出される蛍光X線を測定することにより、主に軽元素の分布状態を評価できる。半導体エネルギー分散型検出器、シンチレーション型反射電子検出器も搭載。試料を冷却しながらの計測も可能。大気非暴露搬送、装置内での昇華、割断、コーティングが可能。
・蛍光X線エネルギー範囲:
 40 eV-4 keV(超伝導)、200 eV- 20 keV(半導体)
・エネルギー分解能:
 ~7 eV@400 eV X-ray(超伝導)、
 <56 eV@C-Ka (半導体)
・計数率:200 kcps
・走査型電子顕微鏡:JEOL JSM-IT800SHLs
・加速器電圧範囲:10 V-30 kV
・最大サンプルサイズ:Φ100 ㎜、Φ10 ㎜(冷却時)
・2次電子最高空間分解能:0.6 nm程度@15 kV, 1.1 nm程度@1 kV
・試料最低冷却温度:-190℃以下
・機械式ヘリウム3冷凍機を用いて簡単に冷却でき、長時間の測定可能

顕微蛍光X線分析装置 (Micro Fluorescent X-ray Analyzer)

設備ID
NI-012
設置機関
名古屋工業大学
設備画像
顕微蛍光X線分析装置
メーカー名
堀場製作所 (HORIBA)
型番
XGT-7200VNM
仕様・特徴
蛍光X線分析と透過X線の同時観察が可能
10μmおよび1.2mmプローブ搭載
点およびマッピング測定に対応可能
真空環境下および大気環境下での測定

共鳴非弾性X線散乱装置 (Resonant inelastic X-ray scattering spectrometer)

設備ID
QS-112
設置機関
量子科学技術研究開発機構(QST)
設備画像
共鳴非弾性X線散乱装置
メーカー名
神津精機(株)ほか (Kohzu Precision Co., Ltd., etc.)
型番
なし(特別仕様)
仕様・特徴
・入射X線、散乱(発光)X線の双方のエネルギーを0.1 eV程度のエネルギー分解能でX線分光実験が可能な装置。
・通常のXAFSよりも高エネルギー分解能のXAFS(HERFD-XAFS)やX線発光分光(XES)により触媒等の詳細な電子状態のその場観察実験が可能。
・ガス雰囲気や電位をかけた状態などでのオペランド計測も実施。
・4軸回折計配置で共鳴非弾性X線散乱(RIXS)により強相関電子系物質等の電子励起の運動量依存性が測定できる。
・試料温度は10 Kから800 Kまで。
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