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TEM用ハイスループットイオン研磨システム (High-throughput ion polishing system for TEM)

設備ID
UT-157
設置機関
東京大学
設備画像
TEM用ハイスループットイオン研磨システム
メーカー名
gatan (gatan)
型番
PIPSⅡ
仕様・特徴
【特長】ハイスループットイオン研磨システムの試料ホルダー
    より試料を取り外すことなく既設装置である
    イオンスライサーに搭載可能であること。
【仕様】
本体
 ミリングアングル -10°~+10° 調整可能
 イオンエネルギー 100 eV ~8 keV
 イオン電流密度 1イオン銃あたり 10 mA/cm2
 試料回転 1~6 rpm まで可変
 X,Y可動範囲 ±0.5 mm
冷却ステージ
 デュアーの保持時間 約6~7時間
 ヒーター1 ステージの温度調整用 (-120°C~+25°C)
 ヒーター2 冷却したステージを室温戻し用
 温度領域 -120°C~室温
 試料冷却 -120°Cまで可能

多機能電界放出型透過電子顕微鏡 (Multipurpose Analytical field emission transmission electron microscope,)

設備ID
UT-012
設置機関
東京大学
設備画像
多機能電界放出型透過電子顕微鏡
メーカー名
日本電子株式会社 (JEOL Ltd.)
型番
JEM-F200
仕様・特徴
□ 主な特長
最新のオペレーティングシステムを採用。電子顕微鏡、CMOSカメラ、EDS、EELSを1つのシステムで操作が可能。
□ 主な仕様
・分解能:走査透過像 0.16nm,透過像(粒子像) 0.23nm
・倍率:走査透過像×100~×150,000,000 TEM像×500~×20,000,000
・ 電子銃:冷陰極電界放出形電子銃搭載 加速電圧 200kV・80kV
・ 試料系:試料傾斜 X軸±27゜Y軸±30゜
・ 分析:高感度のSDD検出器2本同時搭載、EELS検出器を装備
・ 非暴露冷却ホルダー対応

集束イオンビーム加工観察装置(FIB) (MultiBeam System (FIB))

設備ID
UT-156
設置機関
東京大学
設備画像
集束イオンビーム加工観察装置(FIB)
メーカー名
日本電子株式会社 (JEOL Ltd.)
型番
JIB-PS500i
仕様・特徴
□ 特長
・ 高分解能 FE-SEM を搭載し、ピンポイントでの断面作製が可能
・ 高分解能 SEM で FIB 加工状況をリアルタイムにモニタ可能
・ インレンズサーマル電子銃を搭載し、最大 500nA の大電流による安定した高速分析が可能
・ STEM観察が可能(BF,HAADF)
□ 主な仕様
FIB(収束イオンビーム)
・ イオン源:Ga液体金属イオン源
・ 加速電圧:0.5~30kV
・ 倍率:×50~×300,000
・ イオンビーム加工形状:矩形、ライン、スポット
SEM(電子ビーム)
・ 加速電圧:0.01~30kV
・ 倍率:×20~×1,000,000
・ 像分解能:0.7nm(加速電圧15kV)、1.0nm(加速電圧1kV)

電波暗箱 (Radio waves shield box)

設備ID
UT-953
設置機関
東京大学
設備画像
電波暗箱
メーカー名
マイクロニクス (micronix)
型番
MY5310B
仕様・特徴
・フェライト系電波吸収体を使用。
・超小型・広帯域アンテナ(30MHz~1GHz)を用意。
EMI試験に最適
・内寸:1230(W)x915(H)x915(D)
・ドア開口部寸法:約410(W)×710(H)mm
・同軸コネクタ:N(J)×1(正面左下・アンテナ用)、N(J)×1(右側面下)
・インターフェース:D-sub25ピン×1(メス)、LAN×1
AC×1(250Vmax/10A)、※電動ターンテーブル装着時はAC100V
・シールド性能:70dB typ@2.2GHz
・吸収性能:20dB以上@35MHz~2.2GHz
注意:キャリブレーションキット(ZV-Z132、R&S)が武田309号室川原研究室にあります。使用したい場合はお声掛けください。

HF,VHF,UHF測定装置群(カテゴリ1200) (HF, VHF, UHFMeasuring Devices(Category 1200))

設備ID
UT-952
設置機関
東京大学
設備画像
HF,VHF,UHF測定装置群(カテゴリ1200)
メーカー名
1.東洋メディック、2.独ローデシュワルツ、3.NF回路設計ブロック、4.NF回路設計ブロック、5.三菱電機エンジニアリング、6.テクトロニクス、7.ローデ・シュワルツ、8.エレクトロニクス&イノベーション、9.エレクトロニクス&イノベーション (1.Toyo Medic、2.Rohde & Schwarz、3.NF Corporation、4.NF Corporation、5.Mitsubish Electric Engineering、6.Tektronics、7..Rohde & Schwarz、8.Electronic & Innovation、9.Electronic & Innovation)
型番
1.等方性電磁界測定装置EHP-200A(東洋メディック)、2.ベクトルネットワークアナライザVNA R&S ZVL6(独ローデシュワルツ)、3.周波数応答分析装置FRA5097(NF回路設計ブロック)、4.高速バイポーラ電源 HSA4101(NF回路設計ブロック)、5.無線供給用電源KM-1 T1050(三菱電機エンジニアリング)、6.スペアナRSA5106B(テクトロニクス)、7.パワーメーターNRP-Z91(ローデ・シュワルツ)、8.リニアアンプA075 75W(エレクトロニクス&イノベーション)、9.リニアアンプ1041L 400W(エレクトロニクス&イノベーション)
仕様・特徴
1.等方性電磁界測定器EHP-200A、9kHzから30MHzの周波数帯域における電界(0.02~1000V/m)または磁界(6mA/m~300A/m)を高精度に測定する等方性電磁界測定器です。
2.ベクトルネットワークアナライザVNA R&S ZVL6、9KHzから6GHzの周波数帯域におけるSパラメータを高速・高精度に解析できる装置です。
3.周波数応答分析装置FRA5097、ディジタルフーリエ積分方式の優れたノイズ除去特性を生かし、0.1 mHzから15MHzの周波数帯域において、被測定対象の周波数応答(振幅・位相)を高精度に測定する装置です。
4.高速バイポーラ電源HSA4101、直流から最高10MHzまでの信号を扱うことができる高速・広帯域・高電圧出力のバイポーラ方式電力増幅器です。
5.無線供給用電源KM-1 T1050、無線電力伝送装置の開発に使用できる6.78MHz,50W 出力電源
6.スペアナRSA5106B、最高40GHzの周波数帯域に対応し、VLFバンドからKuバンドまでの9kHz~18.0GHzの信号をすばやく捕捉できます。
7.パワーメーターNRP-Z91、アベレージ・パワー・センサ:9kHz~6GHzの周波数範囲
8.リニアアンプA075、クラスA 75W出力、周波数300KHz~35MHz
9.リニアアンプ1040L、400W出力、周波数10KHz~5MHz

シールドルーム (Shield Room)

設備ID
UT-951
設置機関
東京大学
設備画像
シールドルーム
メーカー名
東京計器 (Tokyo Keiki)
型番
SR602M
仕様・特徴
1.電磁波の影響を受けず測定ができる環境を提供します。
2.メッシュ式シールドルーム
3.内寸:W2.7mxD3.6mxH2.1m
4.シールド性能:500KHz(または150kHz)~2GHzにおいて60dB以上減衰(電界/平面波)

低加速電圧対応原子分解能走査型透過電子顕微鏡 (Low-voltage atomic-resolution Scanning Transmision Electron Microscopy)

設備ID
UT-001
設置機関
東京大学
設備画像
低加速電圧対応原子分解能走査型透過電子顕微鏡
メーカー名
日本電子株式会社 (JEOL)
型番
JEM-ARM200CF
仕様・特徴
□ 主な仕様
・冷陰極電界放出電子銃
・加速電圧: 30 - 200 kV
・分解能: 0.071 nm (200 kV), 0.11 nm (60 kV)
・分析機能: EDS, EELS
・収差補正装置(プローブ補正)
・遠隔操作利用可

軽元素対応型超高分解能走査透過型電子顕微鏡(Cs-STEM) (Light elements visible ultra-high-resolution scanning transmission electron microscope)

設備ID
UT-002
設置機関
東京大学
設備画像
軽元素対応型超高分解能走査透過型電子顕微鏡(Cs-STEM)
メーカー名
日本電子株式会社 (JEOL Ltd.)
型番
JEM-ARM200F Cold FE
仕様・特徴
□ 主な特長
照射系球面収差補正装置を標準搭載し、機械的・電気的安定度を極限まで高めることで、世界最高の走査透過像(STEM-HAADF)分解能 0.08nmを実現
□ 主な仕様
・ 加速電圧:200kV、120kV
・ 分解能:走査透過像※ 0.08nm (加速電圧200kV)※環状型暗視野検出器を使用
・ 倍率:走査透過像 200~150,000,000倍
・ 透過顕微鏡像 50~2,000,000倍
・ 収差補正装置:照射系球面収差補正装置 組み込み
・ 検出器:エネルギー分散形X線分析装置 (EDS)、電子線エネルギー損失分光器(EELS)、軽元素対応像検出器、CCD検出器(2k×2k)

超高分解能透過型電子顕微鏡(Cs-HRTEM) (Ultra-high-resolution transmission electron microscope)

設備ID
UT-003
設置機関
東京大学
設備画像
超高分解能透過型電子顕微鏡(Cs-HRTEM)
メーカー名
日本電子株式会社 (JEOL Ltd.)
型番
JEM-ARM200F Cold FE
仕様・特徴
□ 主な特長
・ 結像系球面収差補正装置を搭載することにより、透過顕微鏡像(TEM)の分解
能が0.11nmまで向上
・ 高圧、対物電流の変動を従来機の50%に抑制し、電気的安定度を大幅に向上
・ 鏡筒径を大きくし剛性を高めるとともに、架台の構造を最適化し、装置全体の機械的強度を従来機の約2倍に強化し、機械的安定度を向上
・ 熱および磁気シールドを標準装備。また、装置周囲の対流の変化による鏡筒表面の温度変化を防ぐために、鏡筒全体をカバーで被覆
□ 主な仕様
・ 加速電圧:200kV、120kV、100kV、80kV、60kV
・ 分解能:粒子像透過顕微鏡分解能 0.10nm(加速電圧200kV)
・ 倍率:走査透過像 200~150,000,000倍
・ 透過顕微鏡像 50~2,000,000倍
・ 収差補正装置:結像系球面収差補正装置
・ 検出器:CCDカメラ、CMOSカメラ×2

環境対応型超高分解能走査透過型電子顕微鏡 (Environmental-adapted ultra-high-resolution scanning transmission electron microscope)

設備ID
UT-004
設置機関
東京大学
設備画像
環境対応型超高分解能走査透過型電子顕微鏡
メーカー名
日本電子株式会社 (JEOL Ltd.)
型番
JEM-ARM200F Cold FE
仕様・特徴
□ 主な仕様
・ 加速電圧:200kV、80kV
・ 分解能:TEM格子像 0.10nm
TEM粒子像 0.23nm
STEM明視野格子像 0.136nm
STEM暗視野格子像 0.10nm
・ 倍率:TEM像 50~2,000,000倍
STEM像 200~150,000,000倍
・ 収差補正装置:照射系球面収差補正装置 組み込み
・ 検出器:エネルギー分散形X線分析装置 (SDD×2)、電子線エネルギー損失分光器(EELS)、軽元素対応像検出器、CCD検出器(2k×2k,4k×2k)
・試料2軸傾斜スライドカバーホルダー
・高温加熱通電ホルダー
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