塩素系ICPエッチング装置
最終更新日：2023年6月29日
| 設備ID | UT-605 |
|---|---|
| 分類 | 膜加工・エッチング > プラズマエッチング |
| 設備名称 | 塩素系ICPエッチング装置 ( ICP-RIE machine) |
| 設置機関 | 東京大学 |
| 設置場所 | 武田先端知クリーンルーム |
| メーカー名 | アルバック (ULVAC) |
| 型番 | CE-S |
| キーワード | プラズマエッチング |
| 仕様・特徴 | オペレーションの容易さで評判のCE-300Iの後継機。 8”装置（任意サンプル貼り付けエッチング可能） Cl2, BCl3, SF6, CHF3, Ar, O2によるエッチングが可能ですが、主に使い分けとしてCl系のエッチングを行っています。 |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=UT-605 |
