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インピーダンスアナライザ (Impedance Analyzer)

設備ID
RO-514
設置機関
広島大学
設備画像
インピーダンスアナライザ
メーカー名
アジレント (Agilent)
型番
4294他
仕様・特徴
周波数 40Hz~110MHz 16048H

ホール効果測定装置 (Hall effect measuring device)

設備ID
RO-515
設置機関
広島大学
設備画像
ホール効果測定装置
メーカー名
ACCENT (ACCENT)
型番
HL5500PC
仕様・特徴
試料の抵抗値、キャリア濃度及び移動度を測定可
試料サイズ:Φ25mm以内
電流設定範囲:0.1μA~19.9mA
磁石強度は0.32T

EBSD解析装置 (EBSD analyzer)

設備ID
RO-522
設置機関
広島大学
設備画像
EBSD解析装置
メーカー名
日本電子 (JEOL Ltd.)
型番
JSM-7100F
仕様・特徴
【技術代行専用】
EBSD測定により試料結晶面方位、結晶粒マッピング等の結晶構造解析を行う。

二次イオン質量分析装置 (SIMS)

設備ID
RO-523
設置機関
広島大学
設備画像
二次イオン質量分析装置
メーカー名
アルバックファイ (ULVAC-PHI, Inc.)
型番
SIMS6650
仕様・特徴
Cs,Oガン装備四重極型質量分析機、
一次イオン最小加速エネルギー1keV

蛍光X線分析装置(XRF) (XRF)

設備ID
RO-524
設置機関
広島大学
設備画像
蛍光X線分析装置(XRF)
メーカー名
リガク ()
型番
ZSX-400
仕様・特徴
対応wafer:12inch以下
波長分散型XRF 金属などの組成分析

X線光電子分光装置(XPS) (X-ray photoelectron spectroscopy)

設備ID
RO-525
設置機関
広島大学
設備画像
X線光電子分光装置(XPS)
メーカー名
クレイトスアナリティカル ()
型番
ESCA-3400
仕様・特徴
試料サイズ:5mm角程度
エミッション電流:20 mA、accel HT:10 kV、測定範囲:1150~-10 eV
X線源:Mg Kα, 電子結合エネルギー走査範囲:1150 ~ -10 eV

薄膜構造評価X線回析装置(XRD) (X-ray diffraction spectrometer)

設備ID
RO-526
設置機関
広島大学
設備画像
薄膜構造評価X線回析装置(XRD)
メーカー名
リガク ()
型番
ATX-E
仕様・特徴
角度分解能 0.0002度(2θ)

分光エリプソメーター (Spectroscopic ellipsometer)

設備ID
RO-531
設置機関
広島大学
設備画像
分光エリプソメーター
メーカー名
J.A. Woollam Japan (J.A. Woollam Japan)
型番
M2000-D
仕様・特徴
測定可能最小膜厚10nm,分光波長範囲193~1000nm、

干渉式膜厚計 (Spectroscopic reflectometer)

設備ID
RO-532
設置機関
広島大学
設備画像
干渉式膜厚計
メーカー名
ナノメトリクスジャパン (Nanometrics Inc)
型番
AFT 5000
仕様・特徴
可視光及び紫外光光源、多層膜対応解析ソフト搭載。

原子間力顕微鏡 (AFM)

設備ID
RO-533
設置機関
広島大学
設備画像
原子間力顕微鏡
メーカー名
セイコーインスツルメンツ (Seiko Instruments Inc.)
型番
SPI3800
仕様・特徴
分解能:z:0.01nm, X、Y:0.1nm,
視野:最小5nm角、最大 20μm角、
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