共用設備検索結果
インプラ後アニール炉 (Diffusion furnaces for dopant activation)
- 設備ID
- RO-223
- 設置機関
- 広島大学
- 設備画像
- メーカー名
- 東京エレクトロン (Tokyo Electron)
- 型番
- 370MI- MINI
- 仕様・特徴
- 対応wafer：２inch、cut wafer
最高使用温度1150℃
ウェル拡散炉 (Well diffusion furnaces)
- 設備ID
- RO-224
- 設置機関
- 広島大学
- 設備画像
- メーカー名
- 東京エレクトロン (Tokyo Electron)
- 型番
- 370MI- MINI
- 仕様・特徴
- 対応wafer：２inch、cut wafer
最高使用温度1150℃
ポストメタライゼーションアニール（PMA）炉 (Post-metallization annealing furnaces)
- 設備ID
- RO-225
- 設置機関
- 広島大学
- 設備画像
- メーカー名
- 神港精機 (SHINKO SEIKI Co., LTD)
- 型番
- 仕様・特徴
- 対応wafer：２inch、cut wafer
N2＝2slm、H2=0.5slm （400℃）
最高使用温度900℃
燐拡散炉 (Phosphorus diffusion furnaces)
- 設備ID
- RO-226
- 設置機関
- 広島大学
- 設備画像
- メーカー名
- 神港精機 (SHINKO SEIKI Co., LTD)
- 型番
- 仕様・特徴
- 対応wafer：２inch、cut wafer
最高使用温度900℃
汎用熱処理装置 (Annealing furnaces for general purpose)
- 設備ID
- RO-227
- 設置機関
- 広島大学
- 設備画像
- メーカー名
- 光洋サーモシステム ()
- 型番
- KTF453N-VP
- 仕様・特徴
- 対応wafer：２inch、cut wafer
各種材料窒素アニール用(400～1000℃)
O2とN2又はH2のどちらか一方が使用可能
連続発振レーザアニール装置（レーザ結晶化装置） (CW OSC Laser annealing (Laser crystallization))
- 設備ID
- RO-231
- 設置機関
- 広島大学
- 設備画像
- メーカー名
- (自作) ()
- 型番
- (自作)
- 仕様・特徴
- 対応wafer：２inch、cut wafer
【技術代行専用】
レーザ出力：0.24 ～ 10.0 W、
レーザ径：1.15 mm×50μm (ラインビーム)、
スキャン速度：0.1 ～ 10 cm/s
LPCVD装置（poly-Si用） (Low-pressure chemical vapor deposition (CVD) reactor for poly-Si deposition)
- 設備ID
- RO-311
- 設置機関
- 広島大学
- 設備画像
- メーカー名
- 東京エレクトロン (Tokyo Electron)
- 型番
- 仕様・特徴
- 対応wafer：２inch、cut wafer
モノシランの熱分解、650℃
LPCVD装置（SiN用） (Low-pressure CVD reactor for SiN deposition)
- 設備ID
- RO-312
- 設置機関
- 広島大学
- 設備画像
- メーカー名
- 東京エレクトロン (Tokyo Electron)
- 型番
- 仕様・特徴
- 対応wafer：２inch、cut wafer
ジクロルシランとアンモニアの反応、基板温度750℃
LPCVD装置（SiO2用） (Low-pressure CVD reactor for SiO2 deposition)
- 設備ID
- RO-313
- 設置機関
- 広島大学
- 設備画像
- メーカー名
- 東京エレクトロン (Tokyo Electron)
- 型番
- 仕様・特徴
- 対応wafer：２inch、cut wafer
モノシランと一酸化窒素の混合モード、
TEOS+オゾン の２つのモード可能、
最高温度850℃
常圧SiO2CVD装置 (Atmospheric pressure CVD reactor for SiO2 deposition)
- 設備ID
- RO-314
- 設置機関
- 広島大学
- 設備画像
- メーカー名
- 天谷製作所 (Amaya Co., Ltd.)
- 型番
- M01
- 仕様・特徴
- 対応wafer：２inch （一度に～6枚まで可能）
基板温度400℃、
PおよびBドープ可能