共用設備検索結果
DeepRIE装置#3 (DeepRIE #3)
- 設備ID
- TU-203
- 設置機関
- 東北大学
- 設備画像
- メーカー名
- STS (STS)
- 型番
- Multiplex-ICP SR
- 仕様・特徴
- サンプルサイズ：6インチ、または、4インチ(小片～6または4インチ)
基板固定方式：メカニカルチャック
プラズマ方式：ICP
ガス：SF6、C4F8、CHF3、Ar、O2
メタルマスク（Al、Crなど）可
DeepRIE装置#4 (DeepRIE #4)
- 設備ID
- TU-204
- 設置機関
- 東北大学
- 設備画像
- メーカー名
- 住友精密工業 (Sumitomo Precision Products)
- 型番
- MUC-21 ASE-HR
- 仕様・特徴
- サンプルサイズ：8インチ、または、4インチ
基板固定方式：静電チャック(8)、メカニカルチャック(4)
プラズマ方式：ICP
ガス：SF6、C4F8、Ar、O2
メタルマスク（Al、Crなど）不可
アルバックICP-RIE#1 (Ulvac ICP-RIE#1)
- 設備ID
- TU-205
- 設置機関
- 東北大学
- 設備画像
- メーカー名
- アルバック (Ulvac)
- 型番
- NE-550
- 仕様・特徴
- サンプルサイズ：小片～6インチ、または、4インチ
基板固定方式：静電チャック
プラズマ方式：ICP
ガス：CF4、CHF3、SF6、C4F8、Ar、O2、N2、Cl2、BCl3
アルバックICP-RIE#2 (Ulvac ICP-RIE#2)
- 設備ID
- TU-206
- 設置機関
- 東北大学
- 設備画像
- メーカー名
- アルバック (Ulvac)
- 型番
- CE-300I
- 仕様・特徴
- サンプルサイズ：小片～4インチ、または、6インチ
基板固定方式：静電チャック
プラズマ方式：ICP
ガス：CF4、CHF3、SF6、C4F8、Ar、O2、N2、Cl2、BCl3
アルバック多用途RIE装置 (Ulvac RIE)
- 設備ID
- TU-207
- 設置機関
- 東北大学
- 設備画像
- メーカー名
- アルバック (Ulvac)
- 型番
- RIH-1515Z
- 仕様・特徴
- サンプルサイズ：小片～300mm角
ロードロックは6インチまで
基板固定方式：静置（温度制御不可）
プラズマ方式：CCP
ガス：Cl2、BCl3、SF6、CF4、CHF3、Ar、N2、O2
アネルバRIE装置 (Anelva RIE)
- 設備ID
- TU-208
- 設置機関
- 東北大学
- 設備画像
- メーカー名
- アネルバ (Anelva)
- 型番
- DEA-506
- 仕様・特徴
- サンプルサイズ・同時処理枚数：4インチ×12枚、6インチ×5枚、8インチ×3枚
基板固定方式：静置
プラズマ方式：CCP
ガス：CF4、CHF3、Ar、O2
メタルマスク（Al、Crなど）不可
アネルバSi RIE装置 (Anelva Si RIE)
- 設備ID
- TU-209
- 設置機関
- 東北大学
- 設備画像
- メーカー名
- アネルバ (Anelva)
- 型番
- L-507DL
- 仕様・特徴
- サンプルサイズ：4、6インチ
プラズマ方式：CCP
ガス：SF6、Ar、O2
Al-RIE装置 (Al-RIE)
- 設備ID
- TU-210
- 設置機関
- 東北大学
- 設備画像
- メーカー名
- 芝浦メカトロニクス (Shibaura Mechatronics)
- 型番
- HIRRIE-100
- 仕様・特徴
- サンプルサイズ：4、6インチ
プラズマ方式：CCP
ガス：Cl2、BCl3、N2、O2、Ar
塩素除去用の水洗、ベーク機構付
プラズマクリーナー (Plasma cleaner)
- 設備ID
- TU-211
- 設置機関
- 東北大学
- 設備画像
- メーカー名
- ヤマト科学 (Yamato)
- 型番
- PDC210
- 仕様・特徴
- サンプルサイズ：小片～6インチ
基板固定方式：静置（温度制御不可）
プラズマ方式：CCP、バレル式
ガス：O2、Ar
アルバック アッシング装置 (Ulvac asher)
- 設備ID
- TU-212
- 設置機関
- 東北大学
- 設備画像
- メーカー名
- アルバック (Ulvac)
- 型番
- UNA-2000
- 仕様・特徴
- サンプルサイズ：4、6インチ
カセットtoカセット
プラズマ方式：CCP（2.45GHz）
ガス：O2、H2フォーミングガス