共用設備検索結果
酸素加圧RTA付高温スパッタ装置 (High-temp. sputtering and O2 annealing)
- 設備ID
- TU-164
- 設置機関
- 東北大学
- 設備画像
- メーカー名
- ユーテック (Youtec)
- 型番
- 21-0604
- 仕様・特徴
- サンプルサイズ：小片～8インチ
3チャンバ構成：金属用(DC)スパッタチャンバ、酸化物用(RF)スパッタチャンバ、酸素加圧アニールチャンバ
基板温度：最高700℃（ランプ加熱方式）
アネルバスパッタ装置 (Anelva sputtering )
- 設備ID
- TU-165
- 設置機関
- 東北大学
- 設備画像
- メーカー名
- アネルバ (Anelva)
- 型番
- SPF-730
- 仕様・特徴
- サンプルサイズ、同時処理枚数：4インチ×9枚、または6インチ×4枚
電源：RF×1
ターゲット：8インチ×1
方式：スパッタUP
球面成膜用スパッタ装置 (Sputtering for ball)
- 設備ID
- TU-166
- 設置機関
- 東北大学
- 設備画像
- メーカー名
- 和泉テック (Izumi-tech)
- 型番
- -
- 仕様・特徴
- サンプル：球体（直径1.0、3.3mm）
O2プラズマクリーニング可
電子ビーム蒸着装置 (EB evaporation)
- 設備ID
- TU-167
- 設置機関
- 東北大学
- 設備画像
- メーカー名
- アネルバ (Anelva)
- 型番
- EVC-1501
- 仕様・特徴
- サンプルサイズ：小片～6インチ
同時処理枚数：4インチ×18枚、6インチ×4枚
同時に装着できる蒸着源：3個
基板温度：常温～350℃（ランプ加熱方式）
めっき装置 (Electroplating)
- 設備ID
- TU-168
- 設置機関
- 東北大学
- 設備画像
- メーカー名
- 山本鍍金試験器 (Yamamoto)
- 型番
- 特注
- 仕様・特徴
- サンプルサイズ：3、4、6インチ
多元材料原子層堆積(ALD)装置 (ALD)
- 設備ID
- TU-169
- 設置機関
- 東北大学
- 設備画像
- メーカー名
- テクノファイン (Technofine)
- 型番
- ALK-600
- 仕様・特徴
- サンプルサイズ：小片～6インチ
ゾルゲル自動成膜装置 (Automatic sol-gel deposition)
- 設備ID
- TU-170
- 設置機関
- 東北大学
- 設備画像
- メーカー名
- テクノファイン (Technofine)
- 型番
- PZ-604
- 仕様・特徴
- サンプルサイズ：4インチ
スピンコート、ベーク、ランプアニールの繰り返しを自動処理可能
MOCVD (MOCVD)
- 設備ID
- TU-171
- 設置機関
- 東北大学
- 設備画像
- メーカー名
- ワコム研究所 (Wacom)
- 型番
- Doctor-T'
- 仕様・特徴
- サンプルサイズ：最大8インチ
3液気化システム
基板温度：最高650℃
DeepRIE装置#1 (DeepRIE #1)
- 設備ID
- TU-201
- 設置機関
- 東北大学
- 設備画像
- メーカー名
- 住友精密工業 (Sumitomo Precision Products)
- 型番
- MUC-21 ASE-SRE
- 仕様・特徴
- サンプルサイズ：4インチ(小片～4インチ)
基板固定方式：メカニカルチャック
プラズマ方式：ICP
ガス：SF6、C4F8、Ar、O2
メタルマスク（Al、Crなど）不可
DeepRIE装置#2 (DeepRIE #2)
- 設備ID
- TU-202
- 設置機関
- 東北大学
- 設備画像
- メーカー名
- 住友精密工業 (Sumitomo Precision Products)
- 型番
- MUC-21 ASE-SRE
- 仕様・特徴
- サンプルサイズ：6インチ、または、4インチ(小片～6または4インチ)
基板固定方式：メカニカルチャック
プラズマ方式：ICP
ガス：SF6、C4F8、Ar、O2
メタルマスク（Al、Crなど）不可