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酸化炉 (Oxidation)

設備ID
TU-101
設置機関
東北大学
設備画像
酸化炉
メーカー名
東京エレクトロン (TEL)
型番
XL-7
仕様・特徴
サンプルサイズ:小片~6インチ
ドライ酸化、ウェット酸化(パイロジェニック)

酸化炉(8) (Oxidation)

設備ID
TU-102
設置機関
東北大学
設備画像
酸化炉(8)
メーカー名
光洋サーモシステム (Koyo)
型番
MT-10×8-A
仕様・特徴
サンプルサイズ:小片~8インチ
ドライ酸化、ウェット酸化(バブリング)
酸化温度:最大1050℃

拡散炉 (Diffusion)

設備ID
TU-103
設置機関
東北大学
設備画像
拡散炉
メーカー名
東京エレクトロン (TEL)
型番
XL-7
仕様・特徴
サンプルサイズ:小片~6インチ

メタル拡散炉 (Metal diffusion furnace)

設備ID
TU-104
設置機関
東北大学
設備画像
メタル拡散炉
メーカー名
光洋リンドバーグ (Koyo)
型番
Model270
仕様・特徴
温度:最高1000℃

中電流イオン注入装置 (Middle-current ion implanter)

設備ID
TU-105
設置機関
東北大学
設備画像
中電流イオン注入装置
メーカー名
日新イオン機器 (Nissin)
型番
NH-20SR
仕様・特徴
サンプルサイズ:小片~4インチ
カセットtoカセット
加速電圧:~160kV
最大電流:0.6mA

アニール炉 (Annealing)

設備ID
TU-106
設置機関
東北大学
設備画像
アニール炉
メーカー名
東京エレクトロン (TEL)
型番
XL-7
仕様・特徴
サンプルサイズ:小片~6インチ

ランプアニール装置 (Rapid thermal annealing)

設備ID
TU-107
設置機関
東北大学
設備画像
ランプアニール装置
メーカー名
AG Associates (AG Associates)
型番
AG4100
仕様・特徴
サンプルサイズ:小片~6インチ
カセットtoカセット
赤外線ランプ加熱
基板温度:最高1100℃
昇温速度:100℃/sec

水素アニール装置 (Hydrogen annealing)

設備ID
TU-108
設置機関
東北大学
設備画像
水素アニール装置
メーカー名
オリジナル (Original)
型番
-
仕様・特徴
東北大学大学院工学研究科 金森 義明 教授が開発した装置
赤外線ランプ加熱
温度:最高1100℃

LPCVD (LPCVD)

設備ID
TU-151
設置機関
東北大学
設備画像
LPCVD
メーカー名
システムサービス (System service)
型番
-
仕様・特徴
サンプルサイズ:小片~6インチ

熱CVD (Thermal CVD)

設備ID
TU-152
設置機関
東北大学
設備画像
熱CVD
メーカー名
国際電気 (Kokusai Electric)
型番
-
仕様・特徴
サンプルサイズ:小片~6インチ
基板温度:最高1100℃
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