共用設備検索結果
マスクレスアライナ (Maskless aligner)
- 設備ID
- TU-058
- 設置機関
- 東北大学
- 設備画像
- メーカー名
- Heidelberg Instruments (Heidelberg Instruments)
- 型番
- MLA150
- 仕様・特徴
- サンプルサイズ：小片～8インチ
波長：405nm 、375nm
最小描画線幅：1µm
スプレー現像装置 (Spray developer)
- 設備ID
- TU-059
- 設置機関
- 東北大学
- 設備画像
- メーカー名
- アクテス (Actes)
- 型番
- ADE-3000S
- 仕様・特徴
- サンプルサイズ：3～6インチ
現像ドラフト (Draft chamber for development)
- 設備ID
- TU-060
- 設置機関
- 東北大学
- 設備画像
- メーカー名
- - (-)
- 型番
- -
- 仕様・特徴
- サンプルサイズ：小片～8インチ
スピン乾燥機 (Spin dryer)
- 設備ID
- TU-061
- 設置機関
- 東北大学
- 設備画像
- メーカー名
- 東邦化成 (Toho Kasei)
- 型番
- ZAA-4
- 仕様・特徴
- サンプルサイズ：小片～7インチ
コータデベロッパ (Coater developer)
- 設備ID
- TU-062
- 設置機関
- 東北大学
- 設備画像
- メーカー名
- Suss (Suss)
- 型番
- ACS200Gen3
- 仕様・特徴
- サンプルサイズ：2～8インチ
カセットtoカセット
HMDS処理、コート 3ライン、現像 2ライン、エッジリンス、バックリンス、ホットプレート 4セット、クールプレート 1セット
i線ステッパ (i-line stepper)
- 設備ID
- TU-063
- 設置機関
- 東北大学
- 設備画像
- メーカー名
- キヤノン (Canon)
- 型番
- FPA-3030i5+
- 仕様・特徴
- サンプルサイズ：小片～8インチ
対応オリフラ(OF)：4と6インチはOF(JEITA/SEMI)、8インチはノッチ
カセットtoカセット
波長：365nm
最小露光線幅：0.35μm以下
重ね合せ精度 ：40nm
レチクル：6インチ（6025）
両面アライメント対応、透明基板対応、反り基板対応、Nikonレチクル対応
エリオニクス 130kV EB描画装置 (Elionix 130kV EB lithography)
- 設備ID
- TU-064
- 設置機関
- 東北大学
- 設備画像
- メーカー名
- エリオニクス (Elionix)
- 型番
- ELS-G125S
- 仕様・特徴
- 最大加速電圧：130kV
最小描画線幅：10nm以下
ポリイミドキュア炉 (Curing oven)
- 設備ID
- TU-066
- 設置機関
- 東北大学
- 設備画像
- メーカー名
- ヤマト科学 (Yamato)
- 型番
- DN43H
- 仕様・特徴
- サンプルサイズ：小片～8インチ
温度：最高350℃
UV キュア装置 (UV curing)
- 設備ID
- TU-067
- 設置機関
- 東北大学
- 設備画像
- メーカー名
- ウシオ電機 (Ushio)
- 型番
- UMA-802
- 仕様・特徴
- サンプルサイズ：4、6インチ
カセットtoカセット
球面露光装置 (Maskless exposure system for ball)
- 設備ID
- TU-068
- 設置機関
- 東北大学
- 設備画像
- メーカー名
- 東栄科学産業 (Toei Scientific Instruments)
- 型番
- -
- 仕様・特徴
- サンプル：球体（直径1.0、3.3mm）
最小パターン：1.5µmハーフピッチ
アライメント精度：±5µm