共用設備検索結果
蛍光分光計(Fluorolog-3) (Spectrofluorometer (Fluorolog-3))
- 設備ID
- NM-222
- 設置機関
- 物質・材料研究機構 (NIMS)
- 設備画像
![蛍光分光計(Fluorolog-3)](data/facility_item/1716881972_11.jpg)
- メーカー名
- 堀場製作所 (HORIBA)
- 型番
- Fluorolog-3
- 仕様・特徴
- ・光源:450W Xeランプ
・高感度光電子増倍管(PMT)検出器
・測定波長範囲:600-1400 nm
・波長分解能:1.5 nm
分光蛍光光度計(FP-8500DS) (Spectrofluorometer (FP-8500DS))
- 設備ID
- NM-221
- 設置機関
- 物質・材料研究機構 (NIMS)
- 設備画像
![分光蛍光光度計(FP-8500DS)](data/facility_item/1716881946_11.jpg)
- メーカー名
- 日本分光 (JASCO)
- 型番
- FP-8500DS
- 仕様・特徴
- ・光源:150W Xeランプ
・測定波長範囲:200~850 nm (励起側/蛍光側)
・波長走査速度:10~60,000 nm/min (励起側)、20~120,000 nm/min (蛍光側)
紫外可視近赤外分光計(V-770) (UV-Vis-NIR (V-770))
- 設備ID
- NM-220
- 設置機関
- 物質・材料研究機構 (NIMS)
- 設備画像
![紫外可視近赤外分光計(V-770)](data/facility_item/1716881923_11.jpg)
- メーカー名
- 日本分光 (JASCO)
- 型番
- V-770
- 仕様・特徴
- ・光源:重水素ランプ、ハロゲンランプ
・測定波長範囲:190~3200 nm
・測光正確さ:±0.0015 Abs(0~0.5 Abs)、±0.025 Abs(0.5~1 Abs)、±0.3%T
・付属試料ホルダー:標準セルホルダー、フィルムホルダー、回転試料ホルダー、1回反射測定ユニット、積分球ユニット
フーリエ変換赤外分光光度計(IRAffinity-1S) (FT-IR (IRAffinity-1s))
- 設備ID
- NM-219
- 設置機関
- 物質・材料研究機構 (NIMS)
- 設備画像
![フーリエ変換赤外分光光度計(IRAffinity-1S)](data/facility_item/1716881884_11.jpg)
- メーカー名
- 島津製作所 (Shimadzu)
- 型番
- IRAffinity-1s/AIM-9000
- 仕様・特徴
- <IRAffinity-1s使用時>
・ATR法 / 透過法
・波数範囲:7800~400 cm-1 (DLATGS検出器)
・ATRプリズム:ダイヤモンド (屈折率2.4)
<AIM-9000使用時 (赤外顕微)>
・ATR法 / 透過法 / 反射法
・波数範囲:4000~400 cm-1 (TGS検出器)、4000~700cm-1 (MCT検出器)
・ATRプリズム:Ge (屈折率4.2)
ゼータ電位&粒径測定装置(ELSZ-2000ZS) (Zeta-potential/Particle-size analyzer (ELSZ-2000ZS))
- 設備ID
- NM-218
- 設置機関
- 物質・材料研究機構 (NIMS)
- 設備画像
![ゼータ電位&粒径測定装置(ELSZ-2000ZS)](data/facility_item/1716881861_11.jpg)
- メーカー名
- 大塚電子 (Otsuka Electronics)
- 型番
- ELSZ-2000ZS
- 仕様・特徴
- ・粒径: 0.6 nm ~ 8 µm
・ゼータ電位: -200 ~ +200 mV
・試料濃度:0.00001~40%
・測定温度:0~90 ℃ (ガラスセル)、10~50 ℃ (ディスポセル)
熱分析装置(TG/DTA+DSC) (TG/DTA+DSC)
- 設備ID
- NM-217
- 設置機関
- 物質・材料研究機構 (NIMS)
- 設備画像
![熱分析装置(TG/DTA+DSC)](data/facility_item/1716881830_11.jpg)
- メーカー名
- 日立ハイテクサイエンス (Hitachi High-Tech Science)
- 型番
- TG/DTA 6200, X-DSC7000
- 仕様・特徴
- <TG/DTA>
・温度範囲:RT ~ 1000℃
・雰囲気: N2 or Air
<DSC>
・温度範囲:-150 ~ 725℃
・雰囲気: N2
薄膜X線回折装置_Cu (TF-XRD_Cu)
- 設備ID
- NM-216
- 設置機関
- 物質・材料研究機構 (NIMS)
- 設備画像
![薄膜X線回折装置_Cu](data/facility_item/1716881803_11.jpg)
- メーカー名
- リガク (Rigaku)
- 型番
- SmartLab
- 仕様・特徴
- ・薄膜測定
・小角散乱測定
・X線反射率
LC-MS(Orbitrap Exploris 480) (LC-MS(Orbitrap Exploris 480))
- 設備ID
- NM-020
- 設置機関
- 物質・材料研究機構 (NIMS)
- 設備画像
![LC-MS(Orbitrap Exploris 480)](data/facility_item/1712132907_11.jpg)
- メーカー名
- サーモフィッシャーサイエンティフィック (Thermo Fisher Scientific)
- 型番
- Orbitrap Exploris 480
- 仕様・特徴
- ・イオン化方式:ESI
・質量検出方式:Orbitrap
・測定質量範囲:40~6,000 m/z
・質量分解能:480,000 at 200 m/z
・オートサンプラー:あり
・タンパク同定ソフト:ProteomeDiscoverer
電子銃型蒸着装置 [ADS-E810] (EB Evaporator [ADS-E810])
- 設備ID
- NM-665
- 設置機関
- 物質・材料研究機構 (NIMS)
- 設備画像
![電子銃型蒸着装置 [ADS-E810]](data/facility_item/1711340460_11.jpg)
- メーカー名
- アールデック (R-DEC)
- 型番
- ADS-E810
- 仕様・特徴
- ・蒸着方式:電子銃型
・ターゲット:Al, Ti, Ni, AuGe, Pt, Au, Pd, Ag, Cr, 他
・到達真空度:10-5 Pa
・TS間距離:500 mm
・最大試料サイズ:φ8inch
・その他:ロードロック式、水冷式試料ステージ
スパッタ装置 [CFS-4EP-LL #4] (Sputter [CFS-4EP-LL #4])
- 設備ID
- NM-664
- 設置機関
- 物質・材料研究機構 (NIMS)
- 設備画像
![スパッタ装置 [CFS-4EP-LL #4]](data/facility_item/1711340420_11.jpg)
- メーカー名
- 芝浦メカトロニクス株式会社 (SHIBAURA MECHATRONICS CORPORATION)
- 型番
- CFS-4EP-LL
- 仕様・特徴
- ・電源:DC×2、RF×1
・電源出力:500W(最大)
・カソード:φ3インチ×4式
・基板サイズ:最大8inchφ
・プロセスガス:Ar、O2、N2
・基板加熱:設定300℃
・逆スパッタ可