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蛍光分光計(Fluorolog-3) (Spectrofluorometer (Fluorolog-3))

設備ID
NM-222
設置機関
物質・材料研究機構 (NIMS)
設備画像
蛍光分光計(Fluorolog-3)
メーカー名
堀場製作所 (HORIBA)
型番
Fluorolog-3
仕様・特徴
・光源:450W Xeランプ
・高感度光電子増倍管(PMT)検出器
・測定波長範囲:600-1400 nm
・波長分解能:1.5 nm

分光蛍光光度計(FP-8500DS) (Spectrofluorometer (FP-8500DS))

設備ID
NM-221
設置機関
物質・材料研究機構 (NIMS)
設備画像
分光蛍光光度計(FP-8500DS)
メーカー名
日本分光 (JASCO)
型番
FP-8500DS
仕様・特徴
・光源:150W Xeランプ
・測定波長範囲:200~850 nm (励起側/蛍光側)
・波長走査速度:10~60,000 nm/min (励起側)、20~120,000 nm/min (蛍光側)

紫外可視近赤外分光計(V-770) (UV-Vis-NIR (V-770))

設備ID
NM-220
設置機関
物質・材料研究機構 (NIMS)
設備画像
紫外可視近赤外分光計(V-770)
メーカー名
日本分光 (JASCO)
型番
V-770
仕様・特徴
・光源:重水素ランプ、ハロゲンランプ
・測定波長範囲:190~3200 nm
・測光正確さ:±0.0015 Abs(0~0.5 Abs)、±0.025 Abs(0.5~1 Abs)、±0.3%T
・付属試料ホルダー:標準セルホルダー、フィルムホルダー、回転試料ホルダー、1回反射測定ユニット、積分球ユニット

フーリエ変換赤外分光光度計(IRAffinity-1S) (FT-IR (IRAffinity-1s))

設備ID
NM-219
設置機関
物質・材料研究機構 (NIMS)
設備画像
フーリエ変換赤外分光光度計(IRAffinity-1S)
メーカー名
島津製作所 (Shimadzu)
型番
IRAffinity-1s/AIM-9000
仕様・特徴
<IRAffinity-1s使用時>
・ATR法 / 透過法
・波数範囲:7800~400 cm-1 (DLATGS検出器)
・ATRプリズム:ダイヤモンド (屈折率2.4)
<AIM-9000使用時 (赤外顕微)>
・ATR法 / 透過法 / 反射法
・波数範囲:4000~400 cm-1 (TGS検出器)、4000~700cm-1 (MCT検出器)
・ATRプリズム:Ge (屈折率4.2)

ゼータ電位&粒径測定装置(ELSZ-2000ZS) (Zeta-potential/Particle-size analyzer (ELSZ-2000ZS))

設備ID
NM-218
設置機関
物質・材料研究機構 (NIMS)
設備画像
ゼータ電位&粒径測定装置(ELSZ-2000ZS)
メーカー名
大塚電子 (Otsuka Electronics)
型番
ELSZ-2000ZS
仕様・特徴
・粒径: 0.6 nm ~ 8 µm
・ゼータ電位: -200 ~ +200 mV
・試料濃度:0.00001~40%
・測定温度:0~90 ℃ (ガラスセル)、10~50 ℃ (ディスポセル)

熱分析装置(TG/DTA+DSC) (TG/DTA+DSC)

設備ID
NM-217
設置機関
物質・材料研究機構 (NIMS)
設備画像
熱分析装置(TG/DTA+DSC)
メーカー名
日立ハイテクサイエンス (Hitachi High-Tech Science)
型番
TG/DTA 6200, X-DSC7000
仕様・特徴
<TG/DTA>
・温度範囲:RT ~ 1000℃
・雰囲気: N2 or Air
<DSC>
・温度範囲:-150 ~ 725℃
・雰囲気: N2

薄膜X線回折装置_Cu  (TF-XRD_Cu)

設備ID
NM-216
設置機関
物質・材料研究機構 (NIMS)
設備画像
薄膜X線回折装置_Cu
メーカー名
リガク (Rigaku)
型番
SmartLab
仕様・特徴
・薄膜測定
・小角散乱測定
・X線反射率

LC-MS(Orbitrap Exploris 480) (LC-MS(Orbitrap Exploris 480))

設備ID
NM-020
設置機関
物質・材料研究機構 (NIMS)
設備画像
LC-MS(Orbitrap Exploris 480)
メーカー名
サーモフィッシャーサイエンティフィック (Thermo Fisher Scientific)
型番
Orbitrap Exploris 480
仕様・特徴
・イオン化方式:ESI
・質量検出方式:Orbitrap
・測定質量範囲:40~6,000 m/z
・質量分解能:480,000 at 200 m/z
・オートサンプラー:あり
・タンパク同定ソフト:ProteomeDiscoverer

電子銃型蒸着装置 [ADS-E810]  (EB Evaporator [ADS-E810])

設備ID
NM-665
設置機関
物質・材料研究機構 (NIMS)
設備画像
電子銃型蒸着装置 [ADS-E810]
メーカー名
アールデック (R-DEC)
型番
ADS-E810
仕様・特徴
・蒸着方式:電子銃型
・ターゲット:Al, Ti, Ni, AuGe, Pt, Au, Pd, Ag, Cr, 他
・到達真空度:10-5 Pa
・TS間距離:500 mm
・最大試料サイズ:φ8inch
・その他:ロードロック式、水冷式試料ステージ

スパッタ装置 [CFS-4EP-LL #4] (Sputter [CFS-4EP-LL #4])

設備ID
NM-664
設置機関
物質・材料研究機構 (NIMS)
設備画像
スパッタ装置 [CFS-4EP-LL #4]
メーカー名
芝浦メカトロニクス株式会社 (SHIBAURA MECHATRONICS CORPORATION)
型番
CFS-4EP-LL
仕様・特徴
・電源:DC×2、RF×1
・電源出力:500W(最大)
・カソード:φ3インチ×4式
・基板サイズ:最大8inchφ
・プロセスガス:Ar、O2、N2
・基板加熱:設定300℃
・逆スパッタ可
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