共用設備検索結果
赤外線ランプ加熱装置 [RTP-6 #2] (RTA [RTP-6 #2])
- 設備ID
- NM-619
- 設置機関
- 物質・材料研究機構 (NIMS)
- 設備画像
![赤外線ランプ加熱装置 [RTP-6 #2]](data/facility_item/NM-619.jpg)
- メーカー名
- アドバンス理工株式会社 (ADVANCE RIKO)
- 型番
- RTP-6
- 仕様・特徴
- ・用途：多目的熱処理プロセス
・加熱方式：赤外線ランプによる上部片面加熱
・プロセス温度：1200℃以下
・昇温速度：10℃/秒以下
・プロセスガス：Ar, N2, Ar+H2(3%)
・最大試料サイズ：φ6inch
・その他：タッチパネル操作系
FE-SEM [S-4800] (FE-SEM [S-4800])
- 設備ID
- NM-621
- 設置機関
- 物質・材料研究機構 (NIMS)
- 設備画像
![FE-SEM [S-4800]](data/facility_item/NM-621.jpg)
- メーカー名
- 日立ハイテク (Hitachi High-Tech)
- 型番
- S-4800
- 仕様・特徴
- ・用途：ナノ加工・構造・材料の観察・計測
・電子銃：ZrO/W 電界放射型
・加速電圧：0.1-30kV
・2次電子像分解能：1.0nm （ノーマル：15kV），1.4nm （リターディング：1.0kV）
・試料ステージ：5軸モーター駆動
・最大試料サイズ：φ6inch
・その他：各種試料ホルダー装備
走査型プローブ顕微鏡 [Jupiter XR] (SPM [Jupiter XR])
- 設備ID
- NM-622
- 設置機関
- 物質・材料研究機構 (NIMS)
- 設備画像
![走査型プローブ顕微鏡 [Jupiter XR]](data/facility_item/NM-622.jpg)
- メーカー名
- オックスフォード・インストゥルメンツ (Oxford Instruments)
- 型番
- Jupiter XR
- 仕様・特徴
- ・用途：ナノ構造の計測
・評価・測定モード：形状測定、メカニカル測定、電気測定、磁気測定、等
・走査範囲：90um
・ステージ可動範囲：200mm角
・最大試料サイズ：φ8inch
レーザー顕微鏡 [LEXT OLS4000] (Laser Microscope [LEXT OLS4000])
- 設備ID
- NM-623
- 設置機関
- 物質・材料研究機構 (NIMS)
- 設備画像
![レーザー顕微鏡 [LEXT OLS4000]](data/facility_item/NM-623.jpg)
- メーカー名
- オリンパス (OLYMPUS)
- 型番
- LEXT OLS4000
- 仕様・特徴
- ・用途：非接触3次元形状観察
・計測・光源：405nm半導体レーザー
・分解能：XY：0.12μm／Z：0.01μm
・繰り返し性：XY：3σ=0.02μm,／Z：1σ=0.012μm（対物レンズ100倍時）
・観察モード：レーザー観察，白色光明視野，微分干渉観察
・試料サイズ：100mm角以下
顕微分光膜厚計 [F54-XY-200-UV] (Optical Film Mapper [F54-XY-200-UV])
- 設備ID
- NM-624
- 設置機関
- 物質・材料研究機構 (NIMS)
- 設備画像
![顕微分光膜厚計 [F54-XY-200-UV]](data/facility_item/NM-624.jpg)
- メーカー名
- フィルメトリクス株式会社 (FILMETRICS)
- 型番
- F54-XY-200-UV
- 仕様・特徴
- ・用途：反射分光膜厚測定
・光源：重水素ハロゲンランプ
・波長：190-1100nm
・スポット径：10 μm以下
・測定膜厚範囲：5nm以下～30μm
・最大試料サイズ：φ8inch
・その他：自動マッピング、顕微式
エリプソメーター [MARY-102FM] (Ellipsometer [MARY-102FM])
- 設備ID
- NM-625
- 設置機関
- 物質・材料研究機構 (NIMS)
- 設備画像
![エリプソメーター [MARY-102FM]](data/facility_item/NM-625.jpg)
- メーカー名
- ファイブラボ (five Lab)
- 型番
- MARY-102FM
- 仕様・特徴
- ・用途：絶縁膜形成評価
・光源：632nm He-Neレーザー
・ビーム径：0.8mm
・入射角：50°，60°，70°
・最大試料サイズ：φ6inch
触針式プロファイラー [Dektak XT-A] (Surface Profilometer [Dektak XT-A])
- 設備ID
- NM-626
- 設置機関
- 物質・材料研究機構 (NIMS)
- 設備画像
![触針式プロファイラー [Dektak XT-A]](data/facility_item/NM-626.jpg)
- メーカー名
- ブルカージャパン (Bruker)
- 型番
- Dektak XT-A
- 仕様・特徴
- ・用途：段差測定
・分解能：1Å（6.5umレンジ）
・走査距離：55mm
・触圧範囲：0.03-15mg
・最大試料サイズ：φ8inch
・ その他：自動ステージ、3Dマッピング、粗さ測定、ストレス測定
薄膜応力測定装置 [FLX-2000-A] (Thin-Film Stress Tester [FLX-2000-A])
- 設備ID
- NM-628
- 設置機関
- 物質・材料研究機構 (NIMS)
- 設備画像
![薄膜応力測定装置 [FLX-2000-A]](data/facility_item/NM-628.jpg)
- メーカー名
- 東朋テクノロジー (Toho Technology)
- 型番
- FLX-2000-A
- 仕様・特徴
- ・用途：薄膜応力測定
・測定方式：レーザースキャン方式（670nm＆750nm半導体レーザー）
・測定範囲：1～4000MPa
・測定再現性：1.3MPa（1σ）
・試料サイズ：φ3inch, φ6inch, φ8inch
・その他：3Dマッピング機能
ダイシングソー [DAD322] (Dicing Saw [DAD322])
- 設備ID
- NM-629
- 設置機関
- 物質・材料研究機構 (NIMS)
- 設備画像
![ダイシングソー [DAD322]](data/facility_item/NM-629.jpg)
- メーカー名
- ディスコ (DISCO)
- 型番
- DAD322
- 仕様・特徴
- ・用途：各種基板の小片化
・切削刃：ダイヤモンドブレード
・切削範囲：XY：162mm以下
・最大試料サイズ：φ6inch
・その他：オート／セミオート／マニュアルアライメント機能
・その他：3Dマッピング機能
室温プローバー [MX-200/B] (Room Temp. Prober [MX-200/B])
- 設備ID
- NM-630
- 設置機関
- 物質・材料研究機構 (NIMS)
- 設備画像
![室温プローバー [MX-200/B]](data/facility_item/NM-630.jpg)
- メーカー名
- ベクターセミコン,アジレント・テクノロジー (Vector Semiconductor,Agilent Technologies)
- 型番
- MX-200/B，B1500A
- 仕様・特徴
- ・用途：I-V/C-V特性評価
・プローブ：同軸プローブ
・マニピュレータ：4基
・I-V測定端子：4ユニット
・C-V測定端子：1ユニット
・最大試料サイズ：φ4inch
・その他：試料ステージ電圧印加可，除振台／シールドボックス装備