データセット名：AT-102_原子層堆積装置_3〔FlexAL〕
課題名：ALD成膜基礎データ(2022年)
データセット登録者（所属機関）：清水三聡（産業技術総合研究所）
有本（産業技術総合研究所）
- 課題番号：
- JPMXP1222AT0458
- 実施機関：
- 産業技術総合研究所
要約
産業技術総合研究所_共用施設_ナノプロセシング施設_原子層堆積装置_3[FlexAL]は、８種類の反応ガス及び組成分析用in-situ XPS及び膜厚計測用 in-situ 分光エリプソを装備した試料サイズ:4インチφの原子層堆積装置です。今回2022年度のスタッフデータとしてRu表面のSiN材料吸着過程、Al2O3表面のSiO2材料吸着過程及びCu表面酸化膜表面処理、水素プラズマによるRu表面の酸化膜除去表面処理などのin-situ XPS分析評価データ、又AlN/Si単層膜の温度依存性詳細レシピデータ及びその評価データ（GPC、XPS組成、D-SIMS成分分析）を紹介します。
キーワード・タグ
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データメトリックス
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データインデックス
- 登録日：
- 2024.01.30
- エンバーゴ解除日：
- 2023.09.30
- データセットID：
- a6dce693-799c-4256-acc1-ec8be3c26d7d
- データタイル数：
- 9
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- ファイルサイズ：
- 6.49MB
装置・プロセス