課題番号：

JPMXP1224NM2201

実施機関：

物質・材料研究機構

要約

JEOL製オージェ電子分光装置（AES）JAMP-9500Fにより、酸化アル
ミニウム（Al2O3）薄膜の電子線照射損傷を調べたものである。市販
アルミニウム箔を液体窒素で冷却し、その状態で電子線加速電圧1.4
kV〜1.8 kVの電子線を試料表面に照射し、電子線のドーズ量に対して
還元反応により生成する金属Al由来のAl LVVピーク（68 eV）をO
KLLピーク（510 eV）と共に連続的に計測したスペクトル群である。
実験より、試料を冷却することにより常温測定に比べて電子線照射に
よる還元反応は遅い傾向が見られた。
＜参考文献＞
荒井正浩、浜中真人、速水弘子、木村隆、西田憲二、田沼繁夫
第24回表面科学講演大会講演要旨集
https://doi.org/10.14886/sssj.24.0.74.0