日時

2024年7月4日（木）～5日（金）

場所

東京工業大学　蔵前会館

主催

応用物理学会 次世代リソグラフィ技術研究会（分科会）

参加費

学生：4,000円、一般：20,000円

参加申し込み

Webフォーム　https://eventpay.jp/event_info/?shop_code=2826022165321700&EventCode=1898778286

概要

NGLワークショップは、リソグラフィに関係するデバイス、装置、プロセス、材料等、リソグラフィに関する幅広い分野の研究者、エンジニアが一堂に会するワークショップです。
マテリアル先端リサーチインフラ（ARIM）ではポスター展示を行います。
ARIMでの共用施設利用の概要について紹介と、機器・設備の利用に関するご相談も受け付けておりますので、どうぞお気軽にお声がけください。

プログラム

【基調講演】
“EUV lithography - Overview and Outlook”
　　Anthony Yen 氏（ASML）

“我が国の半導体政策について”
　　齋藤 尚史 氏（経済産業省）

“熊本大学における半導体分野の人材育成・研究開発への取り組み”
　　青柳 昌宏 氏（熊本大学）

“次世代DRAM向けパターニング戦略”
　　岩城 友博 氏（マイクロンメモリジャパン）

【技術セッション】
7/4　光リソグラフィ＆アドバンストパターニング、レジスト材料、ポスターセッション
7/5　ナノインプリント、EB・計測・マスク技術、EUVL

お問い合わせ

事務局：
TEL：090(5493)1147
E-mail：ngl(at)jsap.or.jp　※(at)を@に書き換えてください。

ホームページ
[URL] https://annex.jsap.or.jp/NGL/
最新情報は、イベントWebサイトでご確認ください。