【公開日：2023.08.01】【最終更新日：2023.05.29】

課題データ / Project Data

課題番号 / Project Issue Number

22NU0249

利用課題名 / Title

超耐熱性非晶質合金の探索

利用した実施機関 / Support Institute

名古屋大学 / Nagoya Univ.

機関外・機関内の利用 / External or Internal Use

外部利用/External Use

技術領域 / Technology Area

【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication（副 / Sub）-

【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）マルチマテリアル化技術・次世代高分子マテリアル/Multi-material technologies / Next-generation high-molecular materials（副 / Sub）-

キーワード / Keywords

リソグラフィ/Lithography,膜加工・エッチング/Film processing and Etching,スパッタリング/Sputtering

利用者と利用形態 / User and Support Type

利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)

合田 賢司

所属名 / Affiliation

ローム株式会社

共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes

櫻井 淳平

ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes

利用形態 / Support Type

（主 / Main）共同研究/Joint Research（副 / Sub）-

利用した主な設備 / Equipment Used in This Project

NU-222：レーザー描画装置
NU-257：両面露光用マスクアライナ
NU-210：ダイシングソー装置
NU-245：スパッタリング装置

報告書データ / Report

概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)

近年，半導体センサの高性能化，小型化の需要に伴い，センサ構成要素であるダイアフラムの変位向上が求められている．そこで，ダイアフラムの変位増加を目的とし，新規材料として薄膜非晶質合金Ni-Nb気非晶質合金を提案する．著者らは低温熱処理による構造緩和現象を利用することで，ダイアフラムの平坦化に成功した．そこで，本研究では圧電材料との組み合わせを想定した超耐熱薄膜非晶質合金の探索を行い，振動デバイスへの応用の可能性を検討する．

実験 / Experimental

合成スパッタ法により基板上にNi-Nb-Hf合金系薄膜ライブラリを作成し，非晶質組成の同定を行った．

結果と考察 / Results and Discussion

作製したライブラリをFig.1に示す．作製したライブラリはリソグラフィ装置を利用し，パターンニングを行い，合成スパッタ法により作製している．膜厚の測定には白色干渉計を利用している．現在，各サンプルの組成をEDX測定により行い，各サンプルの相をXRDで同定している．現在，Ni-Nb系非晶質合金組成の範囲を測定を行っている．

図・表・数式 / Figures, Tables and Equations

Fig.1 Combinatorial sputtering

その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)

なし。

成果発表・成果利用 / Publication and Patents

論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)

口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.

特許 / Patents

特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件