1. ホーム>
  2. 共用設備検索>
  3. レーザー描画装置

レーザー描画装置

    レーザー描画装置
    レーザー描画装置
機器ID NU-222
分類 リソグラフィ > 光露光(マスクレス、直接描画)
装置名称 レーザー描画装置 (Laser lithography)
設置機関 名古屋大学
設置場所 ベンチャービジネスラボラトリ
メーカー名 Heidelberg Instruments (Heidelberg Instruments)
型番 DWL66FS
キーワード レーザ描画
仕様・特徴 ・最小描画サイズ:0.6 µm
・最大描画サイズ:200mm x 200mm
・直描およびガラスマスク作製
スマートフォン用ページで見る