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スパッタリング装置

    スパッタリング装置
    スパッタリング装置
機器ID NU-245
分類 成膜装置 > スパッタリング(スパッタ)
装置名称 スパッタリング装置 (Sputtering system)
設置機関 名古屋大学
設置場所 IB電子情報館西棟5階
メーカー名 キャノンアネルバ (Canon Anelva)
型番 E-200S
キーワード スパッタ
成膜
仕様・特徴 ・ターゲット:SiO2,Cr,Au
・膜厚分布:Φ100 mm内±3%
・基板ホルダー:Φ200 mm
・基板加熱:Max 300℃(水冷付)
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