利用報告書 / User's Reports


【公開日:2024.07.25】【最終更新日:2024.04.12】

課題データ / Project Data

課題番号 / Project Issue Number

23TU0133

利用課題名 / Title

前工程及び後工程のプロセス実習

利用した実施機関 / Support Institute

東北大学 / Tohoku Univ.

機関外・機関内の利用 / External or Internal Use

外部利用/External Use

技術領域 / Technology Area

【横断技術領域 / Cross-Technology Area】(主 / Main)加工・デバイスプロセス/Nanofabrication(副 / Sub)-

【重要技術領域 / Important Technology Area】(主 / Main)高度なデバイス機能の発現を可能とするマテリアル/Materials allowing high-level device functions to be performed(副 / Sub)-

キーワード / Keywords

IoTデバイス,蒸着・成膜/ Vapor deposition/film formation,ALD,CVD,PVD,スパッタリング/ Sputtering,リソグラフィ/ Lithography,光リソグラフィ/ Photolithgraphy,電子線リソグラフィ/ EB lithography,膜加工・エッチング/ Film processing/etching,ダイシング/ Dicing,MEMS/NEMSデバイス/ MEMS/NEMS device


利用者と利用形態 / User and Support Type

利用者名(課題申請者)/ User Name (Project Applicant)

工藤 充生

所属名 / Affiliation

公益財団法人いわて産業振興センター

共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
利用形態 / Support Type

(主 / Main)機器利用/Equipment Utilization(副 / Sub)-


利用した主な設備 / Equipment Used in This Project

TU-001:エッチングチャンバー
TU-056:両面アライナ
TU-060:現像ドラフト
TU-201:DeepRIE装置#1
TU-310:レーザ/白色共焦点顕微鏡


報告書データ / Report

概要(目的・用途・実施内容)/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)

 高専生及び大学生を対象に、半導体への理解醸成のため、半導体製造プロセス(前工程)やセンサを用いたモジュール製作の実習を行った。

実験 / Experimental

【利用した主な装置】
 エッチングチャンバー、スピン乾燥機、スピンコータ、ホットプレート、クリーンオーブン、両面アライナ、現像ドラフト、DeepRIE装置、プラズマクリーナー、金属顕微鏡、デジタル顕微鏡、レーザ/白色共焦点顕微鏡

【実験方法】 ピエゾ抵抗型のMEMSフォースセンサの一部プロセスとワイヤボンディングやPCB基板への実装を行う。その後、センサの動作テスト等を体験する。

◆ 実験内容は図1の通りである。

◆ 実験スケジュールは1回の実習につき2日間で、計4回実施した。各日の実習内容は表1の通りである。
 1回目:令和5年8月29日~30日
 2回目:令和5年9月5日~6日
 3回目:令和5年12月2日~3日
 4回目:令和6年2月17日~18日

結果と考察 / Results and Discussion

 東北半導体・エレクトロニクスデザイン研究会の人材育成・確保ワーキンググループにおける、人材育成プログラム試行の一環として、学生向け実習を、高専生及び大学生を対象に、半導体製造プロセスの原理を体感しながら理解してもらうため、手作業を中心とした半導体製造プロセス及びIoTモジュール製作の実習を行い、受講者(88名)から満足度・理解度ともに高い評価をいただいた。
 受講者から、「前工程や後工程の実習ができ、半導体の工程の理解がより深まった」、「想像していたよりも工程が複雑でより一層知りたいと感じた」、「今回実習に参加したことで半導体素子を作る基本行程を理解でき、その細密加工の精度を実感できた」など、シリコンウエハの加工から基板実装までを実際に体験することで、半導体への理解や知識が深まるとともに興味が更に湧いたなど、副次的な効果も得られた結果となった。

図・表・数式 / Figures, Tables and Equations


図1.実験内容



表1.実験スケジュール


その他・特記事項(参考文献・謝辞等) / Remarks(References and Acknowledgements)


成果発表・成果利用 / Publication and Patents

論文・プロシーディング(DOIのあるもの) / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents

特許出願件数 / Number of Patent Applications:0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents:0件

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