【公開日：2024.07.25】【最終更新日：2024.06.29】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
23UT0137
利用課題名 / Title
新規半導体製造装置用機構の研究
利用した実施機関 / Support Institute
東京大学
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
内部利用（ARIM事業参画者以外）/Internal Use (by non ARIM members)
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）計測・分析/Advanced Characterization（副 / Sub）-
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）高度なデバイス機能の発現を可能とするマテリアル/Materials allowing high-level device functions to be performed（副 / Sub）次世代ナノスケールマテリアル/Next-generation nanoscale materials
キーワード / Keywords
電子顕微鏡/ Electronic microscope,高品質プロセス材料/技術/ High quality process materials/technique,先端半導体（超高集積回路）/ Advanced Semiconductor (Very Large Scale Integration),ナノ粒子/ Nanoparticles
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
岡部 貴雄
所属名 / Affiliation
東京大学 生産技術研究所
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
利用形態 / Support Type
（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）,技術補助/Technical Assistance
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
UT-007：高分解能分析電子顕微鏡
UT-005：原子分解能元素マッピング構造解析装置
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
次々世代以降の半導体製造装置には，耐酸化やクリーン環境性に優れる超高真空内での加工が要求されており，その可動機構にも真空対応性が求められている．ここで使用する高真空用潤滑液の開発を目的として，スパッタリング法によって金属ナノ粒子を分散させたイオン液体を調整した．液体潤滑材はナノ粒子によって潤滑性能の向上がはかれる場合があるため，真空用潤滑材として期待されているイオン液体へのナノ粒子分散は，高真空用潤滑液の性能向上につながることが期待できる．
実験 / Experimental
ナノ粒子を分散させたイオン液体内のナノ粒子をTEMで撮影し，その粒子径を測定した．
結果と考察 / Results and Discussion
ナノ粒子を分散させたイオン液体内のナノ粒子をTEMで撮影し，その粒子径を測定した結果10 nmレベルの金属ナノ粒子が確認された．期待されたナノ粒子の分散が確認されたことで，真空用潤滑材として期待されるイオン液体の潤滑性能向上が期待できる．イオン液体は，極性が大きい液体として知られており，粒子の混合や分散が難しい場合が多い．しかしながら，今回TEMで観察した試料では，液体内でのナノ粒子の存在が確認でき，検討している潤滑液調整方法の有効性が確認された．今後は，潤滑試験等を行っていく予定である．
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：4件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件