【公開日：2024.07.25】【最終更新日：2024.04.22】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
23BA0027
利用課題名 / Title
「微細加工装置」を利用した高温超伝導デバイスの製作
利用した実施機関 / Support Institute
筑波大学 / Tsukuba Univ.
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
内部利用（ARIM事業参画者）/Internal Use (by ARIM members)
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication（副 / Sub）-
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）高度なデバイス機能の発現を可能とするマテリアル/Materials allowing high-level device functions to be performed（副 / Sub）-
キーワード / Keywords
デバイス・センサー関連材料
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
柏木 隆成
所属名 / Affiliation
筑波大学数理物質系
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
中川駿吾,山田将太郎,榎本裕樹,山内悠希,前島健太郎,葛見佳彦
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
利用形態 / Support Type
（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）,技術補助/Technical Assistance
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
BA-009：パターン投影リソグラフィシステム
BA-002：スパッタリング装置
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
超伝導体単結晶を用いたデバイス作製における，結晶の微細加工用のフォトマスク作製及び電極作製において設備を利用させていただいた。
実験 / Experimental
まず，結晶の微細加工用のフォトマスク作製には，結晶表面に塗布したレジストの描画にμPG501を使用した。マスクのパターンは概ね80マイクロメートルx400マイクロメートル程度の長方形型のパターンを作成した。次に，基板上の電極をスパッタリング装置（CFS-4EP-LL (i-miller)）にて成膜した。電極パターン作製にも上記μPG501を用いた。電極材料には主にCrを下地にして，金を用いた。
結果と考察 / Results and Discussion
結晶表面上の微細加工用のフォトマスクの作製は再現良く実施できることを確認した。フォトマスクのサイズや間隔も適宜調整することも可能なことも確認できた。電極用のスパッタ膜に関しても，厚みやサイズも含めて再現良く成膜できることを確認した。これらの設備を用いることで，開発中のデバイス特性の評価を実施することができた。
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
図１ 結晶表面にレジストマスクを作製した例
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
- 榎本 裕樹, 中川 駿吾, 山田 将太郎, 菊池 隆太, 山内 悠希, 前島 健太郎, 葛見 佳彦, 松田 鷹元, 南 英俊, 柏木 隆成, "パッチアンテナ構造を用いたBi2212結晶チップ発振器の開発", 第84回応用物理学会秋季学術講演会
- 葛見 佳彦, 中川 駿吾, 山田 将太郎, 菊池 隆太, 榎本 裕樹, 山内 悠希, 前島 健太郎, 松田 鷹元, 南 英俊, 柏木 隆成, "高温超伝導体Bi2212単結晶を用いたテラヘルツ波発振素子のアレイ化に向けた素子構造に関する研究",第84回応用物理学会秋季学術講演会
- 山田 将太郎, 中川 駿吾, 菊池 隆太, 榎本 裕樹, 山内 悠希, 葛見 佳彦, 前島 健太郎, 南 英俊, 柏木 隆成, "高温超伝導体Bi2212単結晶の細線加工技術の開発",第84回応用物理学会秋季学術講演会
- 柏木 隆成, 中川 駿吾, 山田 将太郎, 菊池 隆太, 榎本 裕樹, 山内 悠希, 葛見 佳彦, 前島 健太郎, 中尾 裕則, 石田 茂之, 永崎 洋, 廣戸 孝信, 茂筑 高士, 南 英俊, "Bi2212-THz 波発振器の材料と発振特性に関する研究 III", 第84回応用物理学会秋季学術講演会
- 中川 駿吾, 前島 健太郎, 山田 将太郎, 菊池 隆太, 榎本 裕樹, 山内 悠希, 葛見 佳彦, 中尾 裕則, 南 英俊, 石田 茂之, 永崎 洋, 柏木 隆成, "Bi2212-THz波発振器の過剰酸素量による材料特性変化の調査", 第84回応用物理学会秋季学術講演会
- 前島 健太郎, 中川 駿吾, 山田 将太郎, 菊池 隆太, 榎本 裕樹, 山内 悠希, 葛見 佳彦, 南 英俊, 石田 茂之, 永崎 洋, 中尾 裕則, 柏木 隆成, "過剰酸素量がBi2212-THz波発振素子のデバイス特性に及ぼす影響に関する研究", 第84回応用物理学会秋季学術講演会
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件